[發(fā)明專(zhuān)利]高導(dǎo)電性二硫化鉬納米薄膜及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710523491.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107302050B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-12-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐景坤;李霞;蔣豐興;劉聰聰 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 江西科技師范大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L35/16 | 分類(lèi)號(hào): | H01L35/16;H01L35/14;H01L35/34;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 11469 北京恩赫律師事務(wù)所 | 代理人: | 趙文成 |
| 地址: | 330013 江西省南*** | 國(guó)省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 導(dǎo)電性 二硫化鉬 納米 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種高導(dǎo)電性二硫化鉬納米薄膜,其特征在于,所述高導(dǎo)電性二硫化鉬納米薄膜由二硫化鉬及氯化銅構(gòu)成,所述氯化銅與二硫化鉬的摩爾比為0.01-0.77:1;
所述高導(dǎo)電性二硫化鉬納米薄膜的制備方法包括以下步驟:
步驟1:制備二硫化鉬溶液,利用鋰離子嵌入的方法制備單層二硫化鉬,得到帶有負(fù)電的二硫化鉬溶液;
步驟2:取步驟1所制備的二硫化鉬溶液,稀釋至一定濃度,真空抽濾成膜;
步驟3:當(dāng)膜表面沒(méi)有二硫化鉬溶液時(shí),立即繼續(xù)加入氯化銅溶液,利用剝離后的二硫化鉬帶負(fù)電、帶有缺陷的特性,吸附銅離子,緩慢抽濾;
步驟4:將抽干的薄膜取下,用去離子水沖洗,放入烘箱真空干燥;
所述步驟1中,二硫化鉬溶液的制備方法,包括:
步驟11:采用有機(jī)溶劑溶解二硫化鉬,密封,抽真空;
步驟12:向步驟11中加入保護(hù)氣體,加入正丁基鋰反應(yīng)48h、離心處理;
步驟13:真空干燥步驟12所得樣品,配制一定濃度的溶液超聲處理;
步驟14:離心,取上層溶液,測(cè)定濃度備用。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高導(dǎo)電性二硫化鉬納米薄膜,其特征在于,所述氯化銅與二硫化鉬的摩爾比0.01-0.1:1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高導(dǎo)電性二硫化鉬納米薄膜,其特征在于,所述納米薄膜的電導(dǎo)率為60-101S/cm。
4.權(quán)利要求1-3任一所述的高導(dǎo)電性二硫化鉬納米薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1:制備二硫化鉬溶液;
步驟2:取步驟1所制備的二硫化鉬溶液,稀釋至一定濃度,真空抽濾成膜;
步驟3:當(dāng)膜表面沒(méi)有二硫化鉬溶液時(shí),立即繼續(xù)加入氯化銅溶液,緩慢抽濾;
步驟4:將抽干的薄膜取下,用去離子水沖洗,放入烘箱真空干燥;
所述步驟1中,二硫化鉬溶液的制備方法,包括:
步驟11:采用有機(jī)溶劑溶解二硫化鉬,密封,抽真空;
步驟12:向步驟11中加入保護(hù)氣體,加入正丁基鋰反應(yīng)48h,離心處理得到Li-MoS2;
步驟13:真空干燥步驟12所得樣品,配成一定濃度的溶液超聲處理;
步驟14:離心,取上層溶液,測(cè)定濃度備用。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高導(dǎo)電性二硫化鉬納米薄膜的制備方法,其特征在于,所述步驟11中,有機(jī)溶劑為超干正己烷;所述有機(jī)溶劑與二硫化鉬的質(zhì)量比為3-15:0.1-1。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高導(dǎo)電性二硫化鉬納米薄膜的制備方法,其特征在于,所述步驟12中,保護(hù)氣體為氮?dú)猓』嚺c二硫化鉬的摩爾比為1:1.7-2.56,在3500rpm下離心10min。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高導(dǎo)電性二硫化鉬納米薄膜的制備方法,其特征在于,所述步驟13中,配置溶液濃度為1.5mg/ml,超聲處理的時(shí)間為1h;所述步驟14中,8000rpm條件下離心30min。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高導(dǎo)電性二硫化鉬納米薄膜的制備方法,其特征在于,所述步驟4中,干燥的溫度為45-50℃。
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