[發明專利]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201710520934.1
• 申請日: 2017-06-30
• 公開（公告）號: CN107564835B
• 公開（公告）日: 2023-06-30
• 發明（設計）人: 青野弘;山口都章;下元博;前田幸次;八嶋哲也;新海健史;橋本幸一;稻葉充彥;磯川英立;中尾秀高;磯部壯一
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/677;B24B37/34;B24B37/04
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 肖華

1.一種基板處理裝置，其特征在于，具備：

研磨部，所述研磨部對基板進行研磨；

搬運部，所述搬運部將研磨前的基板向所述研磨部搬運；以及

清洗部，所述清洗部清洗研磨后的基板，

所述清洗部具有上下兩層配置的第一清洗單元及第二清洗單元，

所述第一清洗單元及所述第二清洗單元分別具有直線排列地配置的多個清洗組件，

所述搬運部配置于所述第一清洗單元與所述第二清洗單元之間，具有：

覆蓋部件，在該覆蓋部件的長度方向的一方的側面板形成有搬入口；

滑動載物臺，該滑動載物臺配置于所述覆蓋部件的內側，并且沿著所述多個清洗組件的排列方向搬運研磨前的基板；以及

排氣導管，該排氣導管設置于所述覆蓋部件的與所述搬入口相反的一側，并且對所述覆蓋部件的內側進行排氣。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

在所述覆蓋部件形成有搬出口，該搬出口與所述研磨部連通，

所述搬入口和所述搬出口能夠通過閘門進行開閉。