[發明專利]高熱流密度聚焦光源光學系統

在審

• 申請號: 201710520566.0
• 申請日: 2017-06-30
• 公開（公告）號: CN107092084A
• 公開（公告）日: 2017-08-25
• 發明（設計）人: 高雁;劉洪波;陳家奇;王麗;顧國超
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G02B19/00
• 分類號: G02B19/00
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所(普通合伙)22210
• 代理人: 朱紅玲

1.高熱流密度聚焦光源光學系統，包括氙燈光源(1)、橢球聚光鏡(2)和光學積分器組件(4)，氙燈光源(1)位于橢球聚光鏡(2)的第一焦點處，其特征是；所述光學積分器組件(4)為鏤空的內反射正方形通道，光學積分器組件(4)由四個相同的組成部分構成，每個組成部分均由積分器子塊(5)、蓋板(6)和密封圈(7)構成，所述積分器子塊(5)通過密封圈(7)蓋板(6)連接，所述蓋板(6)上設置進水口(A)與出水口(B)，形成獨立的水通道；每個組成部分尖端的光學面(C)相對應，每個積分器子塊(5)的一側設置突出的卡位(8)，每個組成部分的邊緣均通過所述積分器子塊(5)上突出的卡位(8)連接安裝；

所述光學積分器組件(4)前端開口位于橢球聚光鏡(2)的第二焦面，氙燈光源(1)發出的光輻射通量經橢球聚光鏡(2)反射并以設計的包容角匯聚后投影到橢球聚光鏡(2)的第二焦面上，形成小范圍的匯聚光束；所述小范圍匯聚光束進入光學積分器組件(4)的內反射正方形通道，經所述正方形通道內部反射面反射后，在光學積分器組件(4)后端的出口處形成均勻且高能量的光束輻照面。

2.根據權利要求1所述的高熱流密度聚焦光源光學系統，其特征在于，所述設計的包容角范圍在50°～110°之間。

3.根據權利要求1所述的高熱流密度聚焦光源光學系統，其特征在于，所述小范圍匯聚光束指直徑為6mm的匯聚光束。

4.根據權利要求1所述的高熱流密度聚焦光源光學系統，其特征在于，所述橢球聚光鏡(2)材料采用鋁，在所述橢球聚光鏡(2)的光學表面鍍鋁反射膜和二氧化硅保護膜。

5.根據權利要求1所述的高熱流密度聚焦光源光學系統，其特征在于，所述光學積分器組件(4)材料均采用鋁，所述積分器子塊(5)和蓋板(6)通過數控加工中心加工成型，光學表面加工后鍍鎳層，再進行細磨拋光，最后鍍鋁反射膜和二氧化硅保護膜。

6.根據權利要求1所述的高熱流密度聚焦光源光學系統，其特征在于，所述密封圈(7)采用硅橡膠O型密封圈。