[發(fā)明專利]中心供液小磨頭拋光工具在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710516235.X | 申請(qǐng)日: | 2017-06-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107344329A | 公開(公告)日: | 2017-11-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林彬;黃田;張曉峰;李凱隆;李巖;柳鵬飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B24B41/00 | 分類號(hào): | B24B41/00;B24B29/02;B24B57/02 |
| 代理公司: | 天津才智專利商標(biāo)代理有限公司12108 | 代理人: | 龐學(xué)欣 |
| 地址: | 300072*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 中心 供液小磨頭 拋光 工具 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光學(xué)加工工具技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種中心供液小磨頭拋光工具。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的小磨頭拋光工具主要包括軟質(zhì)小磨盤、實(shí)心桿、海棉夾層和軟質(zhì)拋光墊;其中實(shí)心桿的一端固定在軟質(zhì)小磨盤的上端面中心部位,另一端連接在磨床上;海棉夾層安裝在軟質(zhì)小磨盤的下端面,而軟質(zhì)拋光墊則設(shè)置在海棉夾層的外表面上,并且軟質(zhì)拋光墊的外表面上設(shè)有十安槽;這種小磨頭拋光工具是使用游離磨料的接觸式加工方法對(duì)工件表面進(jìn)行拋光,即以軟質(zhì)小磨盤作為拋光工具,在加工過程中該工具與工件間直接觸并產(chǎn)生相對(duì)運(yùn)動(dòng),由此帶動(dòng)工具與工件之間的游離磨料而對(duì)工件表面材料進(jìn)行去除。
雖然傳統(tǒng)小磨頭拋光工具歷史悠久,發(fā)展相對(duì)成熟,目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用于光學(xué)加工的研磨和粗拋階段,但其缺點(diǎn)是面形控制能力容易受到磨料濃度、磨料種類、磨粒分布、磨頭磨損等因素的影響:首先,傳統(tǒng)小磨頭拋光工具采用四周供液的方式,由于在高轉(zhuǎn)速的加工條件下,工具自轉(zhuǎn)產(chǎn)生離心力等因素,使得拋光液不易進(jìn)入軟質(zhì)拋光墊的中心區(qū)域,致使磨粒分布不均勻,磨粒更新速度慢,且加工產(chǎn)生的熱量不易散出,最終導(dǎo)致軟質(zhì)拋光墊的中心區(qū)域磨損速度過快,大大降低了軟質(zhì)拋光墊的使用壽命;其次,拋光過程中需要頻繁更換軟質(zhì)拋光墊,降低了生產(chǎn)效率,提高了生產(chǎn)成本;最后,磨料分布不均和軟質(zhì)拋光墊磨損速度過快也會(huì)引起去除函數(shù)的不穩(wěn)定。因此,傳統(tǒng)小磨頭拋光工具還有許多的缺點(diǎn)需要克服。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題,本發(fā)明的目的在于提供一種中心供液小磨頭拋光工具。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供的中心供液小磨頭拋光工具包括軟質(zhì)拋光墊、海棉夾層、拋光盤、連接桿、軟管、柔性聯(lián)軸器和電主軸;其中海棉夾層安裝在拋光盤的下端面上;軟質(zhì)拋光墊設(shè)置在海棉夾層的外表面上;連接桿的一端利用柔性聯(lián)軸器連接在拋光盤的上端面中心部位,并且內(nèi)部軸心處貫通形成有一個(gè)供液孔,外端口為進(jìn)液口,同時(shí)軟質(zhì)拋光墊、海棉夾層、拋光盤的中心處均形成有一個(gè)與連接桿上供液孔相連通的中心孔;軟管貼附在供液孔的內(nèi)圓周面上;電主軸套在連接桿的外部圓周面上,內(nèi)部設(shè)有電動(dòng)機(jī)。
所述的連接桿上的供液孔與軟質(zhì)拋光墊、海棉夾層、拋光盤上的中心孔直徑相同。
所述的軟質(zhì)拋光墊為聚氨酯拋光墊,外表面設(shè)有十字溝槽,并且十字溝槽的交點(diǎn)位于中心孔處。
本發(fā)明提供的中心供液小磨頭拋光工具具有如下有益效果:
(1)中心供液小磨頭拋光工具將四周供液改進(jìn)為中心供液,中心區(qū)域拋光液供給充分,拋光液將大量加工熱量及磨屑帶離加工區(qū)域,軟質(zhì)拋光墊表面磨損狀況要明顯優(yōu)于傳統(tǒng)小磨頭拋光工具。因此,中心供液方式能夠改善軟質(zhì)拋光墊的抗磨性,并將軟質(zhì)拋光墊的使用壽命提高4倍以上,減少軟質(zhì)拋光墊更換頻率,降低生產(chǎn)成本。
(2)中心供液方式下,拋光液從工具中心向四周進(jìn)行供給,相對(duì)于四周供液,整個(gè)加工區(qū)域內(nèi)磨粒供給更加充分、均勻,磨粒的更新速度也更加穩(wěn)定,從而使軟質(zhì)拋光墊磨損情況得到很大改善。因此,中心供液小磨頭拋光工具在整個(gè)加工周期內(nèi)材料去除效率更加穩(wěn)定,面形控制能力更強(qiáng)。
附圖說明
圖1為本發(fā)明提供的中心供液小磨頭拋光工具結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2(a)和(b)分別為采用傳統(tǒng)小磨頭拋光工具和本發(fā)明提供的中心供液小磨頭拋光工具進(jìn)行30min定點(diǎn)拋光實(shí)驗(yàn)后的拋光表面圖。
圖3(a)和(b)分別為采用傳統(tǒng)小磨頭拋光工具和本發(fā)明提供的中心供液小磨頭拋光工具進(jìn)行60min定點(diǎn)拋光實(shí)驗(yàn)后的拋光表面圖。
圖4為去除斑深度隨時(shí)間變化趨勢(shì)曲線圖。
圖5為傳統(tǒng)小磨頭拋光工具和本發(fā)明提供的中心供液小磨頭拋光工具上軟質(zhì)拋光墊磨損情況微觀圖:(a)5min;(b)10min;(c)15min;(d)20min;(e)25min;(f)30min
圖6為原始去除斑對(duì)比曲線圖。
圖7為歸一化去除斑對(duì)比曲線圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合具體實(shí)施例與附圖對(duì)本發(fā)明作更進(jìn)一步的闡述。
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