[發明專利]一種X射線準直塊在審
| 申請號: | 201710514486.4 | 申請日: | 2017-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN107389714A | 公開(公告)日: | 2017-11-24 |
| 發明(設計)人: | 杜亞明 | 申請(專利權)人: | 蘇州浪聲科學儀器有限公司 |
| 主分類號: | G01N23/223 | 分類號: | G01N23/223 |
| 代理公司: | 蘇州知途知識產權代理事務所(普通合伙)32299 | 代理人: | 張錦波 |
| 地址: | 215100 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 射線 準直塊 | ||
技術領域
本發明涉及一種X射線準直塊,屬于元素分析設備技術領域。
背景技術
任何元素的原子都是由原子核和繞核運動的電子組成,原子核外電子按其能量的高低分層分布而形成不同的能級,因此,一個原子核可以具有多種能級狀態。能量最低的能級狀態稱為基態能級,其余能級稱為激發態能級,能量最低的激發態則稱為第一激發態。正常情況下,原子處于基態,核外電子在各自能量最低的軌道上運動。如果將一定外界能量如光能提供給該基態原子,當外界光能量E恰好等于該基態原子中基態和某一較高能級之間的能級差△E時,該原子將吸收這一特征波長的光,外層電子由基態躍遷到相應的激發態,形成原子吸收光譜。電子躍遷到較高能級以后處于激發態,但激發態電子是不穩定的,經過一較短時間后,激發態電子將返回基態或其它較低能級,并將電子躍遷時所吸收的能量以光的形式釋放出去,這個過程形成原子發射光譜。可見原子吸收光譜過程吸收輻射能量,而原子發射光譜過程則釋放輻射能量。X-射線熒光光譜分析儀的分析原理是:光源發射出原級X-射線,該射線照射樣品,待測元素的原子吸收相應的能量形成激發態,外層電子向低能級電子層躍遷,同時發射出次級X-射線,即X-射線熒光,以釋放能量,通過探測器檢測X-射線熒光的強度,進而求得待測元素的含量。
現有技術中X射線熒光光譜分析儀,X射線源通常設置在底端,正對樣品,此時,用于拍攝樣品的攝像頭就必須傾斜設置,傾斜設置的攝像頭拍攝的樣品圖像必然會出現失真,如梯形失真等,導致無法正確識別出樣品待檢測部位的中心,也就無法給樣品調整到正確位置提供正確的圖像指示。
發明內容
本發明要解決的技術問題是:為解決X射線熒光光譜分析儀中攝像頭拍攝樣品圖像失真的技術問題,提供一種攝像頭拍攝樣品圖像精確且不影響原有功能的X射線準直塊。
本發明解決其技術問題所采用的技術方案是:
本發明提供一種X射線準直塊,包括:
與水平面成一定夾角的反射鏡和至少一個豎直布置的準直孔,每個準直孔底部均具有濾光片安裝孔。
優選地,本發明的X射線準直塊,準直孔的孔徑為0.1mm-5mm之間的任意值。
優選地,本發明的X射線準直塊,準直孔為成一列排布的若干個。
優選地,本發明的X射線準直塊,準直孔為7個,孔徑分別為0.1mm、0.2mm、0.5mm、1mm、2mm、5mm、5mm。
優選地,本發明的X射線準直塊,相鄰兩個準直孔之間的距離為6-12mm。
優選地,本發明的X射線準直塊,除與其中一個5mm的準直孔對應的濾光片安裝孔外,與其它準直孔對應的濾光片安裝孔內均設置有濾光片。
本發明的有益效果是:
本發明的X射線準直塊,設置有反射鏡,在需要通過攝像頭觀察樣品位置時,通過反射鏡折射光線成像以使攝像頭觀察到樣品,且拍攝的圖像不產生變形失真,產品成像和位置的調整更為精確,樣品位置調整結束后,使X射線通過準直孔即可使X射線照射樣品,不影響X射線檢測的功能。
附圖說明
下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明。
圖1是具有本發明實施例的X射線準直塊的檢測倉和樣品臺的立體視圖;
圖2是具有本發明實施例的X射線準直塊的檢測倉的立體視圖;
圖3是具有本發明實施例的X射線準直塊的檢測倉和樣品臺的側視圖;
圖4是具有本發明實施例的X射線準直塊的X射線準直塊的立體視圖;
圖5是本發明實施例的X射線準直塊的立體視圖。
圖中的附圖標記為:
40-檢測倉;401-觀察窗;41-樣品臺;411-檢測孔;42-X射線源;43-攝像頭;44-探測器;45-準直部件;451-準直塊;452-直線電機;453-前擋塊;454-后擋塊;4511-反射鏡;4512-準直孔;4513-濾光片安裝孔。
具體實施方式
現在結合附圖對本發明作進一步詳細的說明。這些附圖均為簡化的示意圖,僅以示意方式說明本發明的基本結構,因此其僅顯示與本發明有關的構成。
實施例
本實施例提供一種X射線準直塊,如圖5所示,包括:
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