[發(fā)明專利]一種X射線熒光光譜分析方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710514132.X
• 申請(qǐng)日: 2017-06-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107328800A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-11-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 杜亞明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州浪聲科學(xué)儀器有限公司
• 主分類號(hào): G01N23/223
• 分類號(hào): G01N23/223
• 代理公司: 蘇州知途知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)32299
• 代理人: 張錦波

1.一種X射線熒光光譜分析方法，其特征在于，

使用XRF樣品檢測(cè)裝置，XRF樣品檢測(cè)裝置包括，

樣品臺(tái)(41)，中間設(shè)置有樣品檢測(cè)孔(411)；

檢測(cè)倉(cāng)(40)，密封設(shè)置在樣品臺(tái)(41)底部，一側(cè)安裝有觀察窗(401)；

X射線源(42)，設(shè)置在檢測(cè)倉(cāng)(40)底部，X射線源(42)的X射線發(fā)射管沿豎直方向布置；

探測(cè)器(44)，設(shè)置在檢測(cè)倉(cāng)(40)另一側(cè)，用于探測(cè)樣品發(fā)出的二次X射線；

攝像頭(43)，鏡頭對(duì)準(zhǔn)觀察窗(401)；

準(zhǔn)直部件(45)，包括，設(shè)置在檢測(cè)倉(cāng)(40)外的電機(jī)；設(shè)置在檢測(cè)倉(cāng)(40)底部的導(dǎo)軌(453)；設(shè)置導(dǎo)軌(453)上的準(zhǔn)直塊(451)；準(zhǔn)直塊(451)上設(shè)置有反射鏡(4511)和至少一個(gè)豎直布置的準(zhǔn)直孔(4512)，準(zhǔn)直塊(451)能夠在直線電機(jī)(452)的驅(qū)動(dòng)下沿導(dǎo)軌(453)運(yùn)動(dòng)；

包括以下步驟：

S1：將樣品放置在樣品臺(tái)(41)上，樣品對(duì)準(zhǔn)檢測(cè)孔(411)；

S2：通過(guò)電機(jī)調(diào)節(jié)準(zhǔn)直塊(451)上的反射鏡(4511)位置，使攝像頭(43)經(jīng)反射鏡(4511)能拍攝到樣品臺(tái)(41)上樣品；

S3：根據(jù)攝像頭(43)拍攝到的圖像調(diào)節(jié)樣品的位置，使樣品上的檢測(cè)區(qū)域位于檢測(cè)孔(411)中心；

S4：通過(guò)電機(jī)調(diào)節(jié)準(zhǔn)直塊(451)位置，使準(zhǔn)直塊(451)上的準(zhǔn)直孔(4512)處于X射線源(42)與檢測(cè)孔(411)之間，準(zhǔn)直孔(4512)為多個(gè)時(shí)，還需要根據(jù)檢查區(qū)域的大小選擇準(zhǔn)直孔(4512)的孔徑；

S5：?jiǎn)?dòng)X射線源(42)和探測(cè)器(44)，完成對(duì)樣品的X射線熒光光譜分析。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線熒光光譜分析方法，其特征在于，準(zhǔn)直孔(4512)為成一列排布的若干個(gè)，準(zhǔn)直孔(4512)孔徑為0.1mm-5mm之間的任意值，在S4步驟中，還需要根據(jù)檢查區(qū)域的大小選擇準(zhǔn)直孔(4512)的孔徑。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的X射線熒光光譜分析方法，其特征在于，準(zhǔn)直孔(4512)為7個(gè)，孔徑分別為0.1mm、0.2mm、0.5mm、1mm、2mm、5mm、5mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的X射線熒光光譜分析方法，其特征在于，樣品被放置在真空倉(cāng)內(nèi)，調(diào)節(jié)完樣品的位置后，還包括密封真空倉(cāng)，對(duì)真空倉(cāng)進(jìn)行抽真空的步驟。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線熒光光譜分析方法，其特征在于，真空倉(cāng)進(jìn)行抽真空后真空倉(cāng)內(nèi)部壓力為5-50pa。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線熒光光譜分析方法，其特征在于，檢測(cè)孔(4512)處還設(shè)置有mylar膜。