[發(fā)明專利]膜厚信號處理裝置、研磨裝置、膜厚信號處理方法及研磨方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710509057.8
• 申請日: 2017-06-28
• 公開（公告）號: CN107538339B
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發(fā)明（設計）人: 中村顯
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: B24B37/005
• 分類號: B24B37/005;B24B37/34;H01L21/304
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;劉偉志

1.一種膜厚信號處理裝置，其特征在于，具備：

接收部，其接收從用于檢測研磨對象物的膜厚的膜厚傳感器輸出的傳感器數(shù)據(jù)，并生成膜厚數(shù)據(jù)；和

修正部，其基于由所述接收部生成的膜厚數(shù)據(jù)，進行比所述研磨對象物的邊緣靠內(nèi)側(cè)的位置處的所述膜厚數(shù)據(jù)的修正，

所述修正部將在從所述邊緣起向外側(cè)位于第1距離的位置由所述接收部生成的所述膜厚數(shù)據(jù)與在從所述邊緣起向內(nèi)側(cè)位于第2距離的位置由所述接收部生成的所述膜厚數(shù)據(jù)相加，由此進行所述修正，所述第1距離與所述第2距離相等。

2.如權(quán)利要求1所述的膜厚信號處理裝置，其特征在于，

具有推定部，其基于由所述接收部生成的膜厚數(shù)據(jù)，來推定所述研磨對象物的所述邊緣的位置，所述修正部使用推定出的所述邊緣的位置，來進行所述膜厚數(shù)據(jù)的修正。

3.一種研磨裝置，其特征在于，具備：

研磨臺，其能夠粘貼用于對研磨對象物進行研磨的研磨墊；

驅(qū)動部，其能夠?qū)λ鲅心ヅ_進行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動；

保持部，其保持所述研磨對象物并能夠?qū)⑺鲅心ο笪锇磯旱剿鲅心|；

膜厚傳感器，其配置在形成于所述研磨臺的孔中，能夠隨著所述研磨臺的旋轉(zhuǎn)來檢測所述研磨對象物的膜厚；和

權(quán)利要求1或2所述的膜厚信號處理裝置。

4.一種膜厚信號處理方法，其特征在于，

接收從用于檢測研磨對象物的膜厚的膜厚傳感器輸出的傳感器數(shù)據(jù)，并生成膜厚數(shù)據(jù)，

基于所生成的所述膜厚數(shù)據(jù)，進行比所述研磨對象物的邊緣靠內(nèi)側(cè)的位置處的所述膜厚數(shù)據(jù)的修正，

在進行所述修正時，將在從所述邊緣起向外側(cè)位于第1距離的位置生成的所述膜厚數(shù)據(jù)與在從所述邊緣起向內(nèi)側(cè)位于第2距離的位置生成的所述膜厚數(shù)據(jù)相加，由此進行所述修正，所述第1距離與所述第2距離相等。

5.一種研磨方法，其特征在于，

接收從用于檢測研磨對象物的膜厚的膜厚傳感器輸出的傳感器數(shù)據(jù)，并生成膜厚數(shù)據(jù)，

基于所生成的所述膜厚數(shù)據(jù)，進行比所述研磨對象物的邊緣靠內(nèi)側(cè)的位置處的所述膜厚數(shù)據(jù)的修正，

基于修正后的所述膜厚數(shù)據(jù)，控制所述研磨對象物的按壓力，

在進行所述修正時，將在從所述邊緣起向外側(cè)位于第1距離的位置生成的所述膜厚數(shù)據(jù)與在從所述邊緣起向內(nèi)側(cè)位于第2距離的位置生成的所述膜厚數(shù)據(jù)相加，由此進行所述修正，所述第1距離與所述第2距離相等。