[發明專利]光學系統

有效

• 申請號: 201710507249.5
• 申請日: 2017-06-28
• 公開（公告）號: CN107783352B
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發明（設計）人: 吳富源;高國峻;宋欣忠
• 申請（專利權）人: 臺灣東電化股份有限公司
• 主分類號: G03B13/36
• 分類號: G03B13/36;G02B7/09;G02B7/06;G03B30/00
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 李昕巍;章侃銥

一種光學系統，包含一底座、一第一鏡頭驅動模塊以及一第二鏡頭驅動模塊，前述第一鏡頭驅動模塊包含一第一承載件、一第一磁鐵以及一第一線圈，其中第一承載件用以承載第一光學元件并具有一第一側面，且第一線圈對應于第一磁鐵，其中第一線圈和第一磁鐵產生磁力以驅使第一承載件與第一光學元件相對于底座移動。前述第二鏡頭驅動模塊包含一第二磁鐵以及一第二線圈，其中第二承載件用以承載第二光學元件并具有一第二側面，且第二線圈對應于第二磁鐵，其中第二線圈和第二磁鐵產生磁力以驅使第二承載件與第二光學元件相對于該底座移動。其中，前述第一側面相鄰且平行于第二側面，且在前述第一側面與第二側面不設置任何磁鐵。

技術領域

本發明涉及一種光學系統，例如雙鏡頭照相系統，且尤其涉及一種可通過電磁驅動力(electromagnetic force)移動鏡頭的雙鏡頭照相系統。

背景技術

在現有的雙鏡頭照相系統中，兩鏡頭驅動模塊(lens driving module)的位置通常相當靠近，因此設置在不同鏡頭驅動模塊內的磁鐵容易產生磁干擾(magneticinterference)，并導致會隨著活動部移動的鏡頭的對焦速度及準確度受到影響。有鑒于此，如何設計可防止不同鏡頭驅動模塊之間產生磁干擾的雙鏡頭照相系統始成為一重要的課題。

發明內容

有鑒于前述現有問題點，本發明的一目的在于提供一種雙鏡頭照相系統，其可減少兩鏡頭驅動模塊中的磁鐵所產生的磁干擾，借此以改善雙鏡頭照相系統中的鏡頭的對焦速度及定位精度。

本發明提供一種光學系統，包含一底座、一第一鏡頭驅動模塊以及一第二鏡頭驅動模塊，前述第一鏡頭驅動模塊包含一第一承載件、一第一磁鐵以及一第一線圈，其中第一承載件用以承載第一光學元件并具有一第一側面，且第一線圈對應于第一磁鐵，其中第一線圈和第一磁鐵產生磁力以驅使第一承載件與第一光學元件相對于底座移動。前述第二鏡頭驅動模塊包含一第二磁鐵以及一第二線圈，其中第二承載件用以承載第二光學元件并具有一第二側面，且第二線圈對應于第二磁鐵，其中第二線圈和第二磁鐵產生磁力以驅使第二承載件與第二光學元件相對于底座移動。其中，第一側面相鄰且平行于第二側面，且在第一側面與第二側面不設置任何磁鐵。

本發明提供的光學系統的優點和有益效果在于：該光學系統包括兩個鏡頭驅動模塊，每個鏡頭驅動模塊各自包括至少一個磁鐵，配置于兩鏡頭驅動模塊相鄰側以外的側邊或角落，借此可增加兩鏡頭驅動模塊中磁鐵間的距離，進而可降低磁鐵間的磁干擾。于一實施例中，還可在鏡頭驅動模塊中設置膠囊形驅動線圈，借以降低鏡頭驅動模塊的體積，并達到機構微型化的目的。

附圖說明

為讓本發明的上述和其它目的、特征、和優點能更明顯易懂，下文特舉出較佳實施例，并配合所附附圖，作詳細說明如下。

圖1為根據本發明一實施例繪示的光學系統的立體示意圖。

圖2為圖1中的光學系統的爆炸圖。

圖3為沿圖1中A-A’線段的剖視圖。

圖4A-圖4B為根據本發明另一實施例繪示的兩鏡頭驅動模塊的結構配置示意圖。

圖5A-圖5B為根據本發明另一實施例繪示的兩鏡頭驅動模塊的結構配置示意圖。

圖6A-圖6B為根據本發明另一實施例繪示的兩鏡頭驅動模塊的結構配置示意圖。

圖7A-圖7B為根據本發明另一實施例繪示的兩鏡頭驅動模塊的結構配置示意圖。

圖8A-圖8B為根據本發明另一實施例繪示的兩鏡頭驅動模塊的結構配置示意圖。

圖9A-圖9B為根據本發明另一實施例繪示的兩鏡頭驅動模塊的結構配置示意圖。

圖10A為根據本發明另一實施例繪示的兩鏡頭驅動模塊的結構配置示意圖。