[發(fā)明專利]PCB等離子體加工裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710507216.0 | 申請日: | 2017-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN107148148B | 公開(公告)日: | 2023-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 全峰;鄔欽崇;鄔明旭;朱振龍 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳優(yōu)普萊等離子體技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/00 | 分類號: | H05K3/00 |
| 代理公司: | 深圳市卓科知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44534 | 代理人: | 邵妍;張金玲 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | pcb 等離子體 加工 裝置 | ||
一種PCB等離子體加工裝置,包括:工藝腔,用于為PCB電路板提供等離子體加工場所;工藝腔設(shè)置有等離子體源,用于為位于工藝腔內(nèi)的PCB電路板進行等離子體加工;上片軌道,貫穿工藝腔腔體的第一側(cè),用于通過工藝腔腔體的入口端向工藝腔腔體內(nèi)傳送PCB電路板;移動機構(gòu),用于將位于工藝腔腔體第一側(cè)的PCB電路板移動至工藝腔腔體的第二側(cè);下片軌道,貫穿工藝腔腔體的第二側(cè),用于通過工藝腔腔體的出口端將位于工藝腔腔體第二側(cè)的PCB電路板傳出工藝腔腔體。從而可以實現(xiàn)自動化地向工藝腔輸送PCB電路板,并自動地將PCB電路板從工藝腔內(nèi)傳出,提高了PCB板的等離子體處理自動化程度。可以實現(xiàn)快速流水化作業(yè),提高了等離子體處理效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及PCB加工領(lǐng)域,具體涉及一種PCB等離子體加工裝置。
背景技術(shù)
印刷電路板(PCB)是電子信息業(yè)不可或缺的重要配件。PCB在加工過程中,常需要進行等離子體處理。等離子體處理能激活活性,對印刷電路板去污和背面蝕刻是一種較方便、高效、優(yōu)質(zhì)的方法。等離子體處理的流程是在鉆孔后沉銅前,主要是對孔的處理,普遍的等離子體處理流程為:鉆孔——等離子體處理——KMnO4清洗二次處理——化學(xué)沉銅。等離子體處理可以清除孔內(nèi)膠渣殘留、碳化物殘留導(dǎo)致的內(nèi)層銅層電性結(jié)合不良以及回蝕不充分等問題,但目前制程存在清除不徹底,因此需要額外增加KMnO4藥水進行二次處理,以徹底消除膠渣及碳化物對PCB板性能的影響。一般而言,在對PCB進行等離子體處理時,常通過高頻發(fā)生器(典型40KHZ和13.56MHZ),利用電場的能量在真空條件下、分離加工氣體建立等離子體體技術(shù)。這些激發(fā)不穩(wěn)定的分離氣體物質(zhì),將表面進行改性和轟擊。
現(xiàn)有技術(shù)中,在進行等離子體處理時,常將需要處理的PCB板人工疊放在等離子體處理用的工藝腔中,在人工疊放待處理的PCB板后,啟動等離子體處理程序,以對放置在工藝腔中的待處理的PCB板同時進行等離子體處理;在等離子體處理完畢后,再將位于工藝腔中的PCB板人工取出。這種等離子體處理方式雖然能夠批量處理,但是,在等離子體處理前后需要人工進行放置和取出,非常繁瑣,自動化程度偏低。此外,這種等離子體處理方式總耗時長達30分鐘。
因此,如何解決人力需求過多,以實現(xiàn)快速流水作業(yè)與現(xiàn)行流水制程銜接成為亟待解決的技術(shù)問題。
此外,如何更有效地清除PCB板孔內(nèi)殘膠和碳化物也是PCB加工領(lǐng)域亟待解決的技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于如何實現(xiàn)快速流水作業(yè),由人工轉(zhuǎn)為自動化作業(yè)。
為此,根據(jù)第一方面,本發(fā)明實施例公開了一種PCB等離子體加工裝置,包括:
工藝腔,用于為PCB電路板提供等離子體加工場所;工藝腔設(shè)置有等離子體源,用于為位于工藝腔內(nèi)的PCB電路板進行等離子體加工;上片軌道,貫穿工藝腔腔體的第一側(cè),用于通過工藝腔腔體的入口端向工藝腔腔體內(nèi)傳送PCB電路板;移動機構(gòu),用于將位于工藝腔腔體第一側(cè)的PCB電路板移動至工藝腔腔體的第二側(cè);下片軌道,貫穿工藝腔腔體的第二側(cè),用于通過工藝腔腔體的出口端將位于工藝腔腔體第二側(cè)的PCB電路板傳出工藝腔腔體。
可選地,等離子體源位于工藝腔腔體的第一側(cè)和工藝腔腔體的第二側(cè)之間,用于分別對位于工藝腔腔體的第一側(cè)上的PCB電路板和工藝腔腔體的第二側(cè)上的PCB電路板進行等離子體處理。
可選地,等離子體源為微波等離子體發(fā)生裝置。
可選地,工藝腔腔體的入口端和工藝腔腔體的出口端位于工藝腔的同一端面;PCB等離子體加工裝置還包括:過渡腔,與工藝腔腔體的入口端和出口端連通;上片軌道和下片軌道分別通過過渡腔貫穿工藝腔的腔體。
可選地,過渡腔包括:上片過渡腔,上片過渡腔可封閉與工藝腔腔體的入口端連通;上片軌道通過上片過渡腔貫穿工藝腔的腔體;上片軌道將待處理PCB電路板傳送至上片過渡腔后,上片過渡腔封閉抽氣;在上片過渡腔內(nèi)的氣壓達到上片閾值后,上片軌道將位于上片過渡腔內(nèi)的待處理PCB電路板傳送至工藝腔的腔體內(nèi)。
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