[發明專利]新型黑板擦

在審

• 申請號: 201710506349.6
• 申請日: 2017-06-28
• 公開（公告）號: CN107264135A
• 公開（公告）日: 2017-10-20
• 發明（設計）人: 裴睿濤
• 申請（專利權）人: 裴睿濤
• 主分類號: B43L21/00
• 分類號: B43L21/00;B43L21/04
• 代理公司: 濮陽華凱知識產權代理事務所(普通合伙)41136
• 代理人: 靳建山

技術領域

本發明涉及文教用品，具體涉及一種新型黑板擦。

背景技術

黑板擦、黑板是教學活動中必不可少的文教用品。在教學過程中，一般的黑板擦擦粉筆字跡時，會造成粉塵四處飛揚的現象，不僅影響教學，污染環境，而且粉筆灰的主要成分是碳酸鈣或硫酸鈣，粉塵很容易對師生的肺、上呼吸道、眼、耳以及皮膚造成危害。

發明內容

本發明的目的在于提供一種使用方便，快捷，可有效避免粉塵四處飛揚的新型黑板擦。

新型黑板擦，包括手柄和外殼，所述手柄內設置電池和開關，手柄一端連接外殼中部，外殼呈長條筒狀，外殼內設置濕擦裝置和干擦裝置，濕擦裝置包括濕擦帶、改向裝置、刷洗裝置、擠水裝置和驅動輪，外殼內上部設置干擦腔室，干擦裝置位于干擦腔室內，干擦腔室呈弧形，干擦腔室下方設置擠水腔室，擠水腔室內設置濕擦帶擠水裝置和驅動輪，驅動輪由電機帶動，電機連接開關和電池，擠水腔室下方設置二次刷洗腔室，二次刷洗腔室內設置第三改向輪、第四改向輪、第五改向輪和二次刷洗輪組，二次刷洗腔室右側設置濕擦腔室，二次刷洗腔室下方設置頭次刷洗腔室，濕擦腔室右側外殼開有條形孔，濕擦腔室內設置墊塊，墊塊的一部位于外殼外部，二次刷洗腔室下方設置頭次刷洗腔室，頭次刷洗腔室內設置第一改向輪、第二改向輪和頭次刷洗輪組。

所述頭次刷洗腔室和二次刷洗腔室中部設置上擋板，上擋板上開有孔，上擋板下方設置下擋板，下擋板可上下移動并堵住上擋板的孔。

所述擠水腔室內設置3套濕擦帶擠水裝置，濕擦帶擠水裝置包括擠水臺，擠水臺上端開有弧形槽，擠水臺上方設置擠水滾輪。

所述干擦裝置包括干擦帶、干擦主動輪和干擦從動輪，干擦主動輪位于墊塊上方。

所述外殼左側設置磁鐵

本發明使用方便快捷，頭次刷洗腔室和二次刷洗腔室內加水，濕擦帶在兩個腔室內經過刷洗，在擠水腔室內擠水后，濕擦帶在擦黑板時為濕潤狀態，可防止粉筆粉塵四處飛揚，濕擦帶擦過后，經過干擦裝置進行擦干，可使黑板可以快速再次被利用，避免黑板因濕潤不能書寫而影響教學。

附圖說明

圖1是本發明的結構示意圖。

1 手柄2 外殼3 電池4 濕擦帶5 干擦腔室6 擠水腔室7 二次刷洗腔室8 頭次刷洗腔室9 驅動輪10 第一改向輪11 第二改向輪12 第三改向輪13 第四改向輪14 第五改向輪15 頭次刷洗輪組16 二次刷洗輪組17 上擋板18下擋板19孔20 墊塊21 干擦主動輪22干擦帶23干擦從動輪24 擠水臺25擠水滾輪26 磁鐵。

具體實施方式

新型黑板擦，包括手柄1和外殼2，所述手柄1內設置電池3和開關，手柄1一端連接外殼2中部，外殼2呈長條筒狀，外殼2左側設置磁鐵26，黑板擦不用的時候可以把黑板擦吸在黑板上，外殼2內設置濕擦裝置和干擦裝置，濕擦裝置包括濕擦帶4、改向裝置、刷洗裝置、擠水裝置和驅動輪9。

外殼2內上部設置干擦腔室5，干擦裝置位于干擦腔室5內，干擦腔室5呈弧形，所述干擦裝置包括干擦帶22、干擦主動輪21和干擦從動輪23，干擦主動輪21位于墊塊20上方，干擦主動輪21由電機帶動，電機連接開關盒電池3。

干擦腔室5下方設置擠水腔室6，擠水腔室6內設置濕擦帶4擠水裝置和驅動輪9，驅動輪9由電機帶動，電機連接開關和電池3，擠水腔室6內設置3套濕擦帶4擠水裝置，濕擦帶4擠水裝置包括擠水臺24，擠水臺24上端開有弧形槽，擠水臺24上方設置擠水滾輪25。

擠水腔室6下方設置二次刷洗腔室7，二次刷洗腔室7內設置第三改向輪12、第四改向輪13、第五改向輪14和二次刷洗輪組16，二次刷洗腔室7右側設置濕擦腔室，二次刷洗腔室7下方設置頭次刷洗腔室8，濕擦腔室右側外殼2開有條形孔19，濕擦腔室內設置墊塊20，墊塊20的一部位于外殼2外部。

二次刷洗腔室7下方設置頭次刷洗腔室8，頭次刷洗腔室8內設置第一改向輪10、第二改向輪11和頭次刷洗輪組15，頭次刷洗腔室8和二次刷洗腔室7中部設置上擋板17，上擋板17上開有孔19，上擋板17下方設置下擋板18，下擋板18可上下移動并堵住上擋板17的孔19，不擦黑板時，上擋板17和下擋板18分開，粉塵落到刷洗腔室底部，擦黑板時，下擋板18上升并堵住上擋板17的孔19，防止粉塵到刷洗腔室上部，影響刷洗效果。

最后應當說明的是:以上實施例僅用以說明本發明的技術方案而非對其限制；盡管參照較佳實施例對本發明進行了詳細的說明，所屬領域的普通技術人員應當理解：依然可以對本發明的具體實施方式進行修改或者對部分技術特征進行等同替換；而不脫離本發明技術方案的精神，其均應涵蓋在本發明請求保護的技術方案范圍當中。