[發明專利]一種離子濺蝕在金屬表面制備孔徑可控納米多孔的方法

在審

• 申請號: 201710504813.8
• 申請日: 2017-06-28
• 公開（公告）號: CN107460485A
• 公開（公告）日: 2017-12-12
• 發明（設計）人: 萬浩;司乃潮;劉光磊;葛俊杰;倪凱
• 申請（專利權）人: 江蘇大學
• 主分類號: C23F4/00
• 分類號: C23F4/00;B82Y40/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種離子濺蝕在金屬表面制備孔徑可控納米多孔的方法，利用入射高能離子對金屬表面的濺射刻蝕作用，通過控制入射離子使之與金屬表面呈特定角度進行輻照來使金屬面出現圓整的納米孔，通過控制離子輻照的劑量來調節金屬表面所形成納米孔的大小，其特征在于：將清洗過的金屬件固定于靶盤上并放入對配有離子束輻照系統的真空腔中，抽真空使其真空度達到10^-4Pa級；對金屬件表面進行離子束輻照處理，離子束與金屬面間入射角的選取范圍為80°-90°，離子束加速電壓的選取范圍為1keV-100keV，束流大小的選取范圍為100mA-50μA，離子輻照劑量的選取范圍為10¹⁴-10¹⁸cm^-2；使用離子束順次掃過待制備納米多孔結構的金屬表面，并通過控制離子束的輻照劑量來實現合金表面不同孔徑納米多孔的制備。

2.如權利要求1所述的一種離子濺蝕在金屬表面制備孔徑可控納米多孔的方法，其特征在于：所述清洗是指將金屬件的拋光面朝上放于裝有丙酮的燒杯中，進行超聲清洗30分鐘，隨后取出再放于另一裝有丙酮的燒杯中再次超聲清洗20分鐘以上，取出吹干備用。

3.如權利要求2所述的一種離子濺蝕在金屬表面制備孔徑可控納米多孔的方法，其特征在于：所述金屬件拋光是通過砂紙打磨和機械拋光使待離子輻照金屬表面粗糙度低于0.05μm。

4.如權利要求1所述的一種離子濺蝕在金屬表面制備孔徑可控納米多孔的方法，其特征在于：離子束與金屬面間入射角的選擇范圍為84°-89°。

5.如權利要求1所述的一種離子濺蝕在金屬表面制備孔徑可控納米多孔的方法，其特征在于：離子束加速電壓的選擇范圍為20keV-80keV。

6.如權利要求1所述的一種離子濺蝕在金屬表面制備孔徑可控納米多孔的方法，其特征在于：離子束束流大小的選擇范圍為1μA-30μA。

7.如權利要求1所述的一種離子濺蝕在金屬表面制備孔徑可控納米多孔的方法，其特征在于：離子輻照劑量的選擇范圍為10¹⁵-10¹⁶cm^-2。

8.如權利要求1所述的一種離子濺蝕在金屬表面制備孔徑可控納米多孔的方法，其特征在于：離子束是包括H⁺、He⁺、Ar⁺在內的輕離子束。