[發(fā)明專利]一種氦離子注入提高Ni合金抗高溫氧化性能的工藝方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710504781.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107460444A | 公開(公告)日: | 2017-12-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 萬浩;司乃潮;劉光磊;倪凱;葛俊杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/48 | 分類號(hào): | C23C14/48 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 212013 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 離子 注入 提高 ni 合金 高溫 氧化 性能 工藝 方法 | ||
1.一種氦離子注入提高Ni合金抗高溫氧化性能的工藝方法,利用入射高能He+離子增加Ni合金的表面能來增加合金氧化過程中表面氧化物的形核率,通過離子注入層中形成位錯(cuò)、位錯(cuò)胞和亞晶界,增加合金深層抗氧化元素Cr向合金表面進(jìn)行短途擴(kuò)散的通道,進(jìn)而提高合金的高溫抗氧化性能,其特征在于:將清洗過的合金固定于靶盤上并放入能夠進(jìn)行He+離子注入的真空腔內(nèi),抽真空使真空度達(dá)到10-4Pa級(jí);對(duì)合金進(jìn)行He+離子注入處理,離子束與合金間入射角的選取范圍為85°-90°,束流大小為1mA-50μA,能量為10keV-300keV,注入劑量選取范圍為1014cm-2-1018cm-2的He+進(jìn)行離子注入處理。
2.如權(quán)利要求1所述的一種氦離子注入提高Ni合金抗高溫氧化性能的工藝方法,其特征在于:所述清洗是指將合金拋光面朝上放于裝有酒精的燒杯中進(jìn)行超聲清洗20分鐘后取出吹干備用。
3.如權(quán)利要求2所述的一種氦離子注入提高Ni合金抗高溫氧化性能的工藝方法,其特征在于:所述合金拋光是通過砂紙打磨和機(jī)械拋光使待離子注入合金表面粗糙度小于0.2μm。
4.如權(quán)利要求1所述的一種氦離子注入提高Ni合金抗高溫氧化性能的工藝方法,其特征在于:離子束與合金面間入射角為90°。
5.如權(quán)利要求1所述的一種氦離子注入提高Ni合金抗高溫氧化性能的工藝方法,其特征在于:離子束束流大小的選擇范圍為10μA-30μA。
6.如權(quán)利要求1所述的一種氦離子注入提高Ni合金抗高溫氧化性能的工藝方法,其特征在于:離子能量的選擇范圍為30keV-200keV。
7.如權(quán)利要求1所述的一種氦離子注入提高Ni合金抗高溫氧化性能的工藝方法,其特征在于:離子注入劑量的選擇范圍為1015cm-2-1017cm-2。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





