[發明專利]雙能分析光柵在審
| 申請號： | 201710504101.6 | 申請日： | 2017-06-23 |
| 公開（公告）號： | CN107290359A | 公開（公告）日： | 2017-10-24 |
| 發明（設計）人： | 榮鋒;梁瑩 | 申請（專利權）人： | 天津工業大學 |
| 主分類號： | G01N23/04 | 分類號： | G01N23/04 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 300387 天津市西青*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 分析 光柵 | ||
【權利要求書】：
1.一種雙能分析光柵，其特征在于，雙能分析光柵由高能柵條和低能柵條水平交錯排列組成，柵條以硅為基底，高能柵條寬度為2μm，在硅基的正面挖50μm深槽，填充鉍，在硅基背面挖280μm深槽，填充碘化銫；低能柵條寬度為2μm，在硅基沒有填充，在光柵背面整體電鍍120μm厚的碘化銫。
2.根據權利要求1所述的雙能分析光柵，其特征在于，雙能分析光柵整體高度為5cm，寬度為5cm，高能柵條和低能柵條寬度、高度相同，周期為4μm。
3.根據權利要求1所述的雙能分析光柵，其特征在于，雙能分析光柵的高能柵條和低能柵條厚度一致，柵條厚度誤差低于4μm。
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