[發明專利]基板升降機構、基板載置臺和基板處理裝置

有效

• 申請號: 201710499522.4
• 申請日: 2017-06-27
• 公開（公告）號: CN107546171B
• 公開（公告）日: 2021-01-19
• 發明（設計）人: 伊藤毅
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/687
• 分類號: H01L21/687;H01J37/32
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;謝弘

1.一種基板升降機構，其在對基板進行等離子體處理的等離子體處理裝置的處理容器內，在載置基板的基板載置臺的載置臺主體設置多個，使基板升降，所述載置臺主體配置在所述處理容器的底壁上，所述基板升降機構的特征在于，包括：

升降銷，其插通在所述基板載置臺主體的插通孔中，以相對于基板載置面突出和沒入的方式可升降地設置，用其頂端支承基板；

升降-引導部，在其內部可升降地支承所述升降銷，且對升降銷進行引導；

驅動部，其對所述升降銷進行升降驅動；和

蓋部件，其固定于所述底壁，且以至少覆蓋所述升降-引導部的突出到所述底壁下方的部分的方式設置，

所述升降-引導部和所述驅動部由所述載置臺主體支承，且不由所述底壁支承，

所述載置臺主體被施加高頻電力，所述蓋部件與所述升降-引導部隔著彈簧件接觸，以屏蔽高頻。

2.如權利要求1所述的基板升降機構，其特征在于：

還包括安裝部，其設置在所述載置臺主體的內部，將所述升降-引導部氣密地安裝。

3.如權利要求2所述的基板升降機構，其特征在于：

所述升降-引導部包括：

引導部件，氣密地安裝于所述安裝部，在內部具有與所述載置臺主體的所述插通孔連通、供所述升降銷插通的第1空間，對所述升降銷進行引導；

波紋管，具有與所述引導部件的所述第1空間連通的第2空間，能夠安裝所述升降銷的下端部，隨所述升降銷的升降而伸縮；

升降部件，由所述驅動部升降，經由所述波紋管的下端部使所述升降銷升降；和

支柱部，形成所述升降部件的升降路徑，

所述第1空間和所述第2空間經由所述插通孔與所述處理容器內的真空氣氛連通。

4.如權利要求3所述的基板升降機構，其特征在于：

所述驅動部為電動缸，其包括：安裝于所述支柱部的下端部的基座；安裝于所述基座的電動機；從所述電動機貫通所述基座并延伸到上方的連桿；和安裝于所述連桿的頂端、使所述升降部件升降的升降頭。

5.如權利要求4所述的基板升降機構，其特征在于：

所述驅動部還包括內置于所述基座、對所述連桿進行引導的連桿引導部。

6.如權利要求3所述的基板升降機構，其特征在于：

所述支柱部具有沿所述升降部件的升降路徑上下延伸的多個軸，

所述軸的中間部和所述升降部件由絕緣性材料形成，所述軸的中間部和所述升降部件遮斷來自所述載置臺主體的高頻電力。

7.如權利要求1至6中任一項所述的基板升降機構，其特征在于：

所述升降-引導部能夠在維護時與所述載置臺主體一起被吊起。

8.一種基板載置臺，其在對基板進行等離子體處理的等離子體處理裝置的處理容器內載置基板，所述基板載置臺的特征在于，包括：

載置臺主體；和

設置在所述載置臺主體的多個使基板升降的基板升降機構，

所述基板升降機構是權利要求1至權利要求7中任一項所述的基板升降機構。

9.一種基板處理裝置，其是對基板實施等離子體處理的等離子體處理裝置，其特征在于，包括：

收納基板的處理容器；

設置在所述處理容器內的用于載置基板的基板載置臺；

向所述處理容器內供給處理氣體的處理氣體供給機構；

對所述處理容器內進行排氣的排氣機構；和

在所述處理容器內生成處理氣體的等離子體的等離子體生成機構，

所述基板載置臺包括：

載置臺主體；和

設置在所述載置臺主體的多個使基板升降的基板升降機構，

所述基板升降機構是權利要求1至權利要求7中任一項所述的基板升降機構。