[發(fā)明專利]一種XRF分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710498784.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107290376A | 公開(公告)日: | 2017-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬振珠;劉玉兵;韓蔚;鄧賽文;戴平;盧娟娟;田駿 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)建材檢驗(yàn)認(rèn)證集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N23/223 | 分類號(hào): | G01N23/223 |
| 代理公司: | 北京鼎佳達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11348 | 代理人: | 王偉鋒,劉鐵生 |
| 地址: | 100024*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 xrf 分析 基體 校正 系數(shù) 計(jì)算方法 | ||
1.一種XRF分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法,其特征在于:包括,
根據(jù)待測(cè)物品的化學(xué)成分及各成分的質(zhì)量百分含量,設(shè)計(jì)樣品的化學(xué)成分及各成分的質(zhì)量百分含量,所述的待測(cè)物品至少包含待測(cè)成分i、和輔助成分k;
利用Sherman方程,計(jì)算待測(cè)成分i在待測(cè)物品中的X射線熒光強(qiáng)度Ri和待測(cè)成分i在設(shè)計(jì)樣品中的X射線熒光強(qiáng)度Riˊ,所述的X射線熒光強(qiáng)度包括初級(jí)熒光強(qiáng)度和二級(jí)熒光強(qiáng)度;
根據(jù)所述的Ri和Riˊ,計(jì)算輔助成分k對(duì)待測(cè)成分i的基體校正系數(shù)αik,
所述的設(shè)計(jì)樣品各成分的質(zhì)量百分含量總和等于所述的待測(cè)物品各成分的質(zhì)量百分含量總和;
所述的待測(cè)物品由n個(gè)成分組成,所述的待測(cè)物品中各成分的質(zhì)量百分含量分別為C1,C2,…,Ck,…,Ci,…,Cn,其中,Ci為待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量,Ck為輔助成分k(k≠i,k=1,2,…,n)的質(zhì)量百分含量,
所述的設(shè)計(jì)樣品的總數(shù)量為n-1個(gè),即所述的設(shè)計(jì)樣品包括第一樣品、第二樣品、…、第k樣品、…、第n-1樣品,所述的第一樣品、第二樣品、…、第k樣品、…、第n-1樣品的化學(xué)成分及各成分的質(zhì)量百分含量分別為,
第一樣品:C1+ΔC,C2,…,Ck,…,Ci-ΔC,…,Cn,
第二樣品:C1,C2+ΔC,…,Ck,…,Ci-ΔC,…,Cn,
…
第k樣品:C1,C2,…,Ck+ΔC,…,Ci-ΔC,…,Cn,
…
第n-1樣品:C1,C2,…Ci-ΔC,…,Cn+ΔC,
所述的第一樣品、第二樣品、…、第k樣品、…、第n-1樣品的各成分的質(zhì)量百分含量總和等于所述的待測(cè)物品各成分的質(zhì)量百分含量總和,所述的ΔC為待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量的設(shè)計(jì)變化量,
則,根據(jù)第一公式計(jì)算輔助成分k對(duì)待測(cè)成分i的基體校正系數(shù)αik,所述的第一公式為:
αik=((Ci-ΔC)/R′i-Ci/Ri)/ΔC
所述的第一公式中:
Ci—待測(cè)物品中待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量;
ΔC—待測(cè)成分i的質(zhì)量百分含量的設(shè)計(jì)變化量;
Ri—待測(cè)成分i在待測(cè)樣品中的X射線熒光強(qiáng)度;
Riˊ—待測(cè)成分i在設(shè)計(jì)樣品中的X射線熒光強(qiáng)度;
αik—輔助成分k對(duì)待測(cè)成分i的基體校正系數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種XRF分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法,其特征在于:
所述的ΔC小于Ci且ΔC小于0.1%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種XRF分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法,其特征在于:
所述的待測(cè)成分i和輔助成分k為化學(xué)元素。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種XRF分析的基體校正系數(shù)的計(jì)算方法,其特征在于:
所述的待測(cè)物品為無機(jī)非金屬材料。
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