[發明專利]含有2?咪唑烷硫酮化合物的銦電鍍組合物和電鍍銦的方法在審
| 申請號: | 201710496974.7 | 申請日: | 2017-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN107630236A | 公開(公告)日: | 2018-01-26 |
| 發明(設計)人: | Y·秦;K·弗拉伊斯里克;M·列斐伏爾 | 申請(專利權)人: | 羅門哈斯電子材料有限責任公司 |
| 主分類號: | C25D3/54 | 分類號: | C25D3/54 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司31100 | 代理人: | 陳哲鋒,胡嘉倩 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 含有 咪唑 烷硫酮 化合物 電鍍 組合 方法 | ||
1.一種組合物,其包含一種或多種銦離子源、一種或多種2-咪唑烷硫酮化合物和檸檬酸、其鹽或其混合物。
2.根據權利要求1所述的組合物,其中所述一種或多種2-咪唑烷硫酮化合物具有下式:
其中R1和R2獨立地選自氫、直鏈或支鏈(C1-C12)烷基、直鏈或支鏈羥基(C1-C12)烷基、直鏈或支鏈(C1-C12)烷氧基、直鏈或支鏈(C3-C12)烯丙基、氨基、伯、仲或叔氨基(C1-C12)烷基、乙酰基和經取代或未經取代的芳基(C1-C12)烷基;R3、R4、R5和R6獨立地選自氫、直鏈或支鏈(C1-C12)烷基、羥基、直鏈或支鏈羥基(C1-C12)烷基、伯、仲或叔氨基、芳基、直鏈或支鏈(C1-C12)烷氧基、伯、仲或叔氨基(C1-C12)烷基和乙酰基、芳基上的取代基包括(但不限于)直鏈或支鏈(C1-C5)烷基、羥基、羥基(C1-C5)烷基、(C1-C3)烷氧基和伯、仲和叔氨基(C1-C5)烷基。
3.根據權利要求2所述的組合物,其中所述一種或多種2-咪唑烷硫酮化合物選自2-咪唑烷硫酮、1,3-二甲基-2-咪唑烷硫酮、1-甲基-5-苯基-2-咪唑烷硫酮、1,3-二乙基-2-咪唑烷硫酮、1-甲基-2-咪唑烷硫酮、4,4-二甲基-2-咪唑烷硫酮、4,5-二甲基-2-咪唑烷硫酮、(4S)-4-甲基-2-咪唑烷硫酮、1-十二烷基-2-咪唑烷硫酮、1-丁基-5-(1-甲基乙基)-2-咪唑烷硫酮、1,3-二烯丙基-2-咪唑烷硫酮、1-乙酰基-3-烯丙基-2-咪唑烷硫酮、1-(2-氨基乙基)-2-咪唑烷硫酮、1-乙酰基-2-咪唑烷硫酮、4,5-二羥基-1-甲基-2-咪唑烷硫酮、1-(2-羥乙基)-2-咪唑烷硫酮、1,3-雙(羥甲基)-2-咪唑烷硫酮、1-乙基-5-(4-甲氧苯基)-2-咪唑烷硫酮、1,3-二乙基-4,5-二羥基-4,5-二苯基-2-咪唑烷硫酮和1,3雙[(環己基氨基)甲基]-2-咪唑烷硫酮。
4.根據權利要求1所述的組合物,其中所述一種或多種2-咪唑烷硫酮化合物以0.005g/l到5g/L的量包括于所述組合物中。
5.根據權利要求1所述的組合物,其中所述組合物進一步包含一種或多種氯離子源,其中所述氯離子與所述銦離子的摩爾比為2:1或更大。
6.根據權利要求5所述的組合物,其中氯離子與銦離子的所述摩爾比為2:1到7:1。
7.根據權利要求6所述的組合物,其中氯離子與銦離子的所述摩爾比為4:1到6:1。
8.根據權利要求1所述的組合物,其進一步包含選自以下的一種或多種表面活性劑:胺表面活性劑、乙氧基化萘酚、磺化萘酚聚醚、(烷基)酚乙氧基化物、磺化烷基烷氧基化物、烷二醇烷基醚和磺丙基化聚烷氧基化β-萘酚堿金屬鹽。
9.根據權利要求1所述的組合物,其進一步包含表鹵代醇和一種或多種含氮有機化合物的反應產物的一種或多種共聚物。
10.一種方法,其包含:
a)提供包含金屬層的襯底;
b)使所述襯底與包含一種或多種銦離子源、一種或多種2-咪唑烷硫酮化合物和檸檬酸、檸檬酸的鹽或其混合物的銦電鍍組合物接觸;和
c)用所述銦電鍍組合物將銦金屬層電鍍于所述襯底的金屬層上。
11.根據權利要求10所述的方法,其中所述一種或多種2-咪唑烷硫酮化合物以0.005g/l到5g/L的量包括于所述銦電鍍組合物中。
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