[發明專利]一種IV類圍巖隧道光面的爆破方法

在審

• 申請號: 201710492112.7
• 申請日: 2017-06-26
• 公開（公告）號: CN107218860A
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發明（設計）人: 鐘金盛;王霆;汪兵;劉延科;陳慧;車傳東;縱向群;張范立
• 申請（專利權）人: 國家電網公司;國網新源控股有限公司;安徽金寨抽水蓄能有限公司
• 主分類號: F42D1/00
• 分類號: F42D1/00;F42D1/10
• 代理公司: 杭州新源專利事務所(普通合伙)33234
• 代理人: 鄭雙根

1.一種IV類圍巖隧道光面的爆破方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一，測量確定IV類圍巖隧道的開挖區域及開挖邊界；

步驟二，將步驟一的開挖區域由內至外分為三個層次，對每個層次的邊界進行定位開眼；

步驟三，將步驟二定位開眼的炮眼按照IV類圍巖爆破參數分別進行鉆孔；

步驟四，按照IV類圍巖爆破參數分別在炮孔里安裝相應的炸藥量；

步驟五，將安裝完的炸藥按層次由內至外進行引爆；

上述步驟中三個層次的邊界均采用直孔掏槽；最內層為掏槽孔；中間層為崩落孔；最外層的上端為頂孔，兩側為邊墻孔，底端為底孔；掏槽孔、崩落孔、頂孔、邊墻孔、底孔的鉆孔深度均為1.7m，孔徑均為42mm；每個層次邊界之間均設有0.6m至0.8m的安全爆炸距離；在最內層和中間層采用連續安裝炸藥，在最外層采用間隔安裝炸藥，炸藥選用巖石乳化炸藥，采用導爆索和竹片捆綁裝藥，裝藥完成后進行封堵。

2.根據權利要求1所述的一種IV類圍巖隧道光面的爆破方法，其特征在于：所述的掏槽孔分布在最內層的邊界，以5個孔為一組等間距地分布在最內層邊界的兩側。

3.根據權利要求1所述的一種IV類圍巖隧道光面的爆破方法，其特征在于：所述的崩落孔分布在中間層的邊界，在中間層邊界的兩側分別以3個孔為一組等間距地分布；在中間層邊界的頂端等間距地分布有5個孔。

4.根據權利要求1所述的一種IV類圍巖隧道光面的爆破方法，其特征在于：所述底孔分布在最外層邊界的底端，總共設置5個孔等間距地分布。

5.根據權利要求1所述的一種IV類圍巖隧道光面的爆破方法，其特征在于：所述邊墻孔分布在最外層邊界的兩側，每一側均以7個孔為一組等間距地分布。

6.根據權利要求1所述的一種IV類圍巖隧道光面的爆破方法，其特征在于：所述的頂孔分布最外層邊界的頂端，總共設置11個孔等間距地分布。