[發明專利]一種空間電荷分離型復合光催化劑的制備方法和應用有效
| 申請號: | 201710491290.8 | 申請日: | 2017-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN107175115B | 公開(公告)日: | 2020-03-24 |
| 發明(設計)人: | 丁建軍;陳林;田興友 | 申請(專利權)人: | 中國科學院合肥物質科學研究院 |
| 主分類號: | B01J27/043 | 分類號: | B01J27/043;B01J27/045;C01B3/04 |
| 代理公司: | 安徽合肥華信知識產權代理有限公司 34112 | 代理人: | 張雁 |
| 地址: | 230031 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 空間電荷 分離 復合 光催化劑 制備 方法 應用 | ||
1.一種空間電荷分離型復合光催化劑的制備方法,其化學式為Au合金/MOx/CaIn2S4,其特征在于:通過光照還原法將還原型助催化劑納米Au合金原位/擇位沉積于CaIn2S4表面納米臺階的凸位,將氧化型助催化劑MOx原位/擇位沉積于CaIn2S4表面納米臺階的凹位,從而實現光催化還原反應位和氧化反應位在空間上的徹底分離,有效抑制光生載流子的復合幾率,大幅提高光催化制氫的效率;
其制備方法包括以下三種方法:
(1)首先將還原型助催化劑納米Au合金原位/擇位沉積于CaIn2S4表面納米臺階的凸位,然后再將氧化型助催化劑金屬氧化物MOx原位/擇位沉積于CaIn2S4表面納米臺階的凹位,包括以下步驟:(A)將CaIn2S4粉體分散于含有空穴犧牲試劑的光催化反應器中,加入一定量的納米Au合金前驅體,然后通入氮氣或者氬氣惰性氣體0.5-2小時,以排盡光催化反應器中的空氣,在可見光下反應1-6小時,過濾、洗滌、干燥,得到Au合金/CaIn2S4復合材料;(B)將步驟(A)得到的Au合金/CaIn2S4復合材料分散于含有電子犧牲試劑的光催化反應器中,加入一定量的金屬氧化物前驅體,然后通入氮氣或者氬氣惰性氣體0.5-2小時,以排盡光催化反應器中的空氣,在可見光下反應1-6小時,過濾、洗滌、干燥,得到Au合金/MOx/CaIn2S4復合光催化劑;
(2)首先將氧化型助催化劑金屬氧化物MOx原位/擇位沉積于CaIn2S4表面納米臺階的凹位,然后再將還原型助催化劑納米Au合金原位/擇位沉積于CaIn2S4表面納米臺階的凸位,包括以下步驟:(C)將CaIn2S4粉體分散于含有電子犧牲試劑的光催化反應器中,加入一定量的金屬氧化物前驅體,然后通入氮氣或者氬氣惰性氣體0.5-2小時,以排盡光催化反應器中的空氣,在可見光下反應1-6小時,過濾、洗滌、干燥,得到MOx/CaIn2S4復合材料;(D)將步驟(C)得到的MOx/CaIn2S4復合材料分散于含有空穴犧牲試劑的光催化反應器中,加入一定量的納米Au合金前驅體,然后通入氮氣或者氬氣惰性氣體0.5-2小時,以排盡光催化反應器中的空氣,在可見光下反應1-6小時,過濾、洗滌、干燥,得到Au合金/MOx/CaIn2S4復合光催化劑;
(3)同時將還原型助催化劑納米Au合金和氧化型助催化劑金屬氧化物MOx分別原位/擇位沉積于CaIn2S4表面納米臺階的凸位和凹位,包括以下步驟:(E)將CaIn2S4粉體分散于光催化反應器中,加入一定量的納米Au合金前驅體和金屬氧化物前驅體,然后通入氮氣或者氬氣惰性氣體0.5-2小時,以排盡光催化反應器中的空氣,在可見光下反應1-6小時,過濾、洗滌、干燥,直接得到Au合金/MOx/CaIn2S4復合光催化劑。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(A)和(D)中,空穴犧牲試劑為Na2S/Na2SO3、KI、甲醇、乙醇。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述步驟(A)、(D)和(E)中,Au合金指AuCu、AuPt、AuAg、AuPd,其中第二組分Cu、Pt、Ag、Pd與Au具有相同的面心立方結構。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院合肥物質科學研究院,未經中國科學院合肥物質科學研究院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710491290.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





