[發(fā)明專利]一種基于多點預(yù)判的L形子陣組陣方法及天線陣

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710487353.2
• 申請日: 2017-06-23
• 公開（公告）號: CN107331975B
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫立春;侯田;朱慶超;張洪濤;汪偉;魯加國
• 申請（專利權(quán)）人: 中國電子科技集團公司第三十八研究所
• 主分類號: H01Q21/00
• 分類號: H01Q21/00
• 代理公司: 合肥市浩智運專利代理事務(wù)所(普通合伙) 34124
• 代理人: 丁瑞瑞

1.一種基于多點預(yù)判的L形子陣組陣方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)將目標(biāo)二維有源相控陣內(nèi)包含的M×N個天線單元抽象成M×N個填充點；

(2)約定填充順序、預(yù)判點數(shù)m與使用的L形子陣類型；

(3)選擇下一個填充點，隨機選擇L形子陣形態(tài)進行填充，滿足與已填充的子陣不相互覆蓋即可；

(4)將當(dāng)前填充的L形子陣周圍的附屬點與下n步需要填充的點歸為預(yù)判點集，隨機選擇L形子陣形態(tài)對預(yù)判點集進行預(yù)填充，若存在能夠完全覆蓋預(yù)判點集的L形子陣組合則進行下一步填充，否則判定當(dāng)前L形子陣的填充方式無效，重新選擇一種L形子陣形態(tài)進行填充；

(5)組陣完成后，根據(jù)遠場計算公式計算其電場方向圖，確定當(dāng)前組陣方式是否滿足系統(tǒng)要求，如不滿足，返回步驟(2)重新填充。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多點預(yù)判的L形子陣組陣方法，其特征在于，所述L形子陣的類型包括4單元L形子陣和8單元L形子陣。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于多點預(yù)判的L形子陣組陣方法，其特征在于，所述4單元L形子陣和8單元L形子陣分別有八種形態(tài)，分別由對應(yīng)的4單元L形子陣和8單元L形子陣依次通過旋轉(zhuǎn)90°、180°、270°、鏡像加旋轉(zhuǎn)90°、180°、270°得到。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多點預(yù)判的L形子陣組陣方法，其特征在于，所述填充順序為：所述填充點由上向下沿多個Z字形依次填充。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多點預(yù)判的L形子陣組陣方法，其特征在于，所述填充順序為：所述填充點由上向下沿多個弓字形依次填充。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多點預(yù)判的L形子陣組陣方法，其特征在于，所述填充順序為：所述填充點由內(nèi)向外沿旋渦形依次填充。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于多點預(yù)判的L形子陣組陣方法，其特征在于，所述單個4單元L形子陣有14個附屬點緊密的分布在其周圍，單個8單元L形子陣有18個附屬點緊密的分布在其周圍，步驟(3)完成后，將附屬點代入目標(biāo)陣中，去除與下n步重合的附屬點后，選取剩下的附屬點與下n步需要填充的點作為預(yù)判點集。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多點預(yù)判的L形子陣組陣方法，其特征在于，所述預(yù)判點集中包含的下n步需要填充的點，其n的值為任意大于1的整數(shù)。