[發明專利]在脈沖激光退火中使用紅外干涉技術的熔化深度測定

在審

• 申請號: 201710486531.X
• 申請日: 2013-05-30
• 公開（公告）號: CN107421455A
• 公開（公告）日: 2017-12-01
• 發明（設計）人: 繼平·李
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06;H01L21/67
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司11006
• 代理人: 徐金國,趙靜

1.一種用于處理基板的設備，包括：

熱源；

基板支撐件，所述基板支撐件具有面向所述熱源的基板接觸表面、與所述基板接觸表面相對的背面以及形成在所述基板支撐件中的一或多個開口；及

一或多個干涉儀，所述一或多個干涉儀被安置成用于將相干輻射導向所述背面并穿過所述一或多個開口，其中所述干涉儀包括：

相干輻射源；

部分反射鏡；及

輻射傳感器。

2.如權利要求1所述的設備，其中所述一或多個開口中的至少一個開口包含透鏡，并且其中所述相干輻射穿透所述透鏡。

3.如權利要求1所述的設備，其中所述相干輻射源相對于所述熱源是固定的。

4.如權利要求1所述的設備，進一步包括光選擇性阻擋件，所述光選擇性阻擋件在所述一或多個干涉儀的每個干涉儀與所述基板支撐件之間。

5.如權利要求1所述的設備，進一步包括多個開口，其中所述一或多個干涉儀中的至少一個干涉儀安置在所述多個開口的每個開口處。

6.如權利要求1所述的設備，其中所述基板支撐件包含開口，所述開口內形成有窗。

7.如權利要求1所述的設備，其中所述熱源是激光器。

8.如權利要求1所述的設備，其中所述熱源是固定式的。

9.一種用于處理基板的設備，包括：

激光器；

基板支撐件，所述基板支撐件具有面向所述激光器的基板接觸表面、與所述基板接觸表面相對的背面以及形成在所述基板支撐件中的開口；及

干涉儀，所述干涉儀包括：

輻射源，所述輻射源被安置成用于引導輻射穿過所述開口；

部分反射鏡；及

輻射傳感器。

10.如權利要求9所述的設備，其中所述干涉儀是移動式的。

11.如權利要求9所述的設備，進一步包括光選擇性阻擋件，且其中所述光選擇性阻擋件阻擋來自所述激光器的輻射。

12.如權利要求9所述的設備，其中所述輻射源是相干輻射源，且其中所述相干輻射源是紅外輻射源。

13.如權利要求9所述的設備，其中所述干涉儀被安置在所述基板支撐件中。

14.一種用于處理基板的設備，包括：

熱源；

基板支撐件，所述基板支撐件具有面向所述熱源的基板接觸表面、與所述基板接觸表面相對的背面以及形成在所述基板支撐件中的開口；及

干涉儀，所述干涉儀包括：

寬譜光源，所述寬譜光源被安置成用于引導輻射穿過所述開口；

分光計；及

鏡，所述鏡將反射光引導至所述分光計。

15.如權利要求14所述的設備，進一步包括光選擇性阻擋件，所述光選擇性阻擋件在所述鏡與所述分光計之間。