[發明專利]一種類牙釉結構羥基磷灰石及其制備方法和應用有效
| 申請號： | 201710486462.2 | 申請日： | 2017-06-23 |
| 公開（公告）號： | CN107343857B | 公開（公告）日： | 2019-10-25 |
| 發明（設計）人： | 劉昭明;邵長鵒;唐睿康 | 申請（專利權）人： | 浙江大學 |
| 主分類號： | A61K6/033 | 分類號： | A61K6/033;C01B25/32 |
| 代理公司： | 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224 | 代理人： | 胡紅娟 |
| 地址： | 310013 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 種類 結構 羥基 磷灰石 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種類牙釉結構羥基磷灰石的制備方法，其特征在于，包括：
(1)配制濃度為15～60mmol/L氯化鈣的乙醇溶液，作為溶液A；
(2)配制含有40～120mmol/L磷酸和1200～3900mmol/L三乙胺的乙醇溶液，作為溶液B；
(3)將溶液A和溶液B混合后靜置20～180min，得到磷酸鈣聚合離子溶液，其中，溶液A和溶液B的混合體積比為2～10:1；
(4)將步驟(3)得到的磷酸鈣聚合離子溶液經離心后重新分散于乙醇中，作為溶液C；
(5)將溶液C滴于預處理后的牙釉質樣品表面，待干燥后可以得到一層生長在牙釉質表面的無定形磷酸鈣修復層；
(6)將牙釉質樣品浸泡于相變液中，無定形磷酸鈣修復層相變為所述類牙釉結構羥基磷灰石；
步驟(6)中，所述的相變液為含有1～20ppm氟離子的羥基磷灰石飽和溶液。
2.根據權利要求1所述的類牙釉結構羥基磷灰石的制備方法，其特征在于，溶液A中鈣離子的濃度為15～20mmol/L。
3.根據權利要求1所述的類牙釉結構羥基磷灰石的制備方法，其特征在于，溶液B中磷酸的濃度為40～50mmol/L，三乙胺的濃度為1200～1400mmol/L。
4.根據權利要求1所述的類牙釉結構羥基磷灰石的制備方法，其特征在于，所述的無定形磷酸鈣修復層的厚度為1～10μm。
5.一種類牙釉結構羥基磷灰石，其特征在于，由權利要求1～4中任一所述的制備方法制得。
6.根據權利要求5所述的類牙釉結構羥基磷灰石，其特征在于，所述的類牙釉結構羥基磷灰石的微觀組成單元為直徑為25～350nm的納米羥基磷灰石棒，納米羥基磷灰石棒沿原釉柱的c軸有序排列，形成取向與修復前的釉柱一致的類牙釉結構。
7.一種根據權利要求5所述的類牙釉結構羥基磷灰石的應用，其特征在于，所述的類牙釉結構羥基磷灰石用作牙釉質的修復材料。
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