[發明專利]反應腔室的排氣裝置及反應腔室有效
| 申請號: | 201710486247.2 | 申請日: | 2017-06-23 |
| 公開(公告)號: | CN109112503B | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發明(設計)人: | 劉皓 | 申請(專利權)人: | 北京北方華創微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;張天舒 |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反應 排氣裝置 | ||
1.一種反應腔室的排氣裝置,包括位于所述反應腔室外部的兩支排氣管,其特征在于,所述兩支排氣管的第一端在水平方向上相互間隔,且均與所述反應腔室的內部連通,所述兩支排氣管的第二端匯聚在一起;所述兩支排氣管自第一端至第二端相對于所述水平方向所在水平面向上傾斜延伸,且相互對稱,以抵消所述兩支排氣管的形變在所述水平方向上的分量。
2.根據權利要求1所述的反應腔室的排氣裝置,其特征在于,所述兩支排氣管之間的夾角為85°~95°。
3.根據權利要求2所述的反應腔室的排氣裝置,其特征在于,所述兩支排氣管之間的夾角為90°。
4.根據權利要求1-3任意一項所述的反應腔室的排氣裝置,其特征在于,所述排氣裝置還包括基體法蘭,所述基體法蘭設置在所述反應腔室外部,且在所述基體法蘭朝向所述反應腔室的表面上設置有與設置在所述反應腔室的側壁上的排氣口連通的排氣腔;
每支所述排氣管的第一端與所述基體法蘭連接,且與所述排氣腔相連通。
5.根據權利要求4所述的反應腔室的排氣裝置,其特征在于,在所述基體法蘭中設置有連接孔,所述連接孔的第一端與所述排氣腔連通,所述連接孔的另一端位于所述基體法蘭背離所述反應腔室的表面上;
所述排氣管的第一端延伸至所述連接孔中,并與所述基體法蘭固定連接。
6.根據權利要求5所述的反應腔室的排氣裝置,其特征在于,所述排氣管的第一端在所述連接孔中的長度為15.5~17.5mm。
7.根據權利要求5所述的反應腔室的排氣裝置,其特征在于,所述連接孔包括貫穿所述基體法蘭的通孔;
分別在所述基體法蘭背離所述反應腔室的表面和所述基體法蘭朝向所述反應腔室的表面設置有第一擴孔和第二擴孔,所述第一擴孔和第二擴孔與所述通孔同軸。
8.根據權利要求7所述的反應腔室的排氣裝置,其特征在于,所述排氣管的第一端并與所述基體法蘭采用密封焊接的方式固定連接;
焊接形成的焊瘤分別位于所述第一擴孔和第二擴孔中。
9.根據權利要求1所述的反應腔室的排氣裝置,其特征在于,所述排氣裝置還包括排氣法蘭,所述排氣法蘭的一端與所述兩支排氣管的第二端連接,所述排氣法蘭的另一端通過波紋管與集氣裝置連接。
10.一種反應腔室,包括排氣裝置,在所述反應腔室的一側設置有排氣口,所述排氣裝置用于通過所述排氣口抽取所述反應腔室內的氣體,其特征在于,所述排氣裝置采用權利要求1-9任意一項所述的排氣裝置。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





