[發明專利]一種鏤空透明琺瑯首飾的制備方法

有效

• 申請號: 201710484045.4
• 申請日: 2017-06-23
• 公開（公告）號: CN107411254B
• 公開（公告）日: 2019-11-29
• 發明（設計）人: 袁軍平;陳令霞;馬春宇;陳德東
• 申請（專利權）人: 廣州番禺職業技術學院
• 主分類號: A44C27/00
• 分類號: A44C27/00
• 代理公司: 44205 廣州嘉權專利商標事務所有限公司
• 代理人: 胡輝<國際申請>=<國際公布>=<進入國

本發明公開了一種鏤空透明琺瑯首飾的制備方法，包括以下步驟：1)結構優化：制版時用筋線對鏤空部位進行分割；2)琺瑯釉料處理：在釉料中添加羧甲基纖維素調整漿料的粘度；3)安放假托：在直徑小于5mm或寬度小于2.5mm的鏤空位的底部貼上箔片；4)填琺瑯釉料：將琺瑯釉料均勻填充到鏤空部位；5)燒制：填料后的琺瑯首飾先在790～810℃下燒制60～100秒，再取出工件用已預熱到500～600℃的硅酸鋁纖維筒罩住，自然冷卻；6)打磨處理：去除箔片假托，對琺瑯首飾進行鑲嵌、打磨、拋光、電鍍。本發明的方法制作的鏤空透明琺瑯首飾上的琺瑯層具有很好的透明度，氣泡和雜質少，釉層穩定，不易開裂崩落，操作簡便，生產效率高。

技術領域

本發明涉及一種鏤空透明琺瑯首飾的制備方法。

背景技術

琺瑯又稱佛郎、拂郎、發藍，是由硅、鉛丹、硼砂、長石、石英、金屬氧化物等原料燒制而成，具有寶石般的獨特光澤與透明感，且不透氣、不滲水、不褪色、質地堅硬。琺瑯有很多種類，依據透明度可以分為：透明琺瑯、半透明琺瑯和不透明琺瑯，依據制作方法可以分為：內填琺瑯、掐絲琺瑯、畫琺瑯、鏤空琺瑯等。其中，無底托的鏤空透明琺瑯因為在施釉和燒制時沒有支撐，琺瑯成型的難度很大，特別是在比較大的工件中，當開設的鏤空部分尺寸較大時，操作時很容易出現一邊施釉一邊掉落的情況，甚至一個輕微的抖動就會使前面的操作瞬間崩潰。

目前，業界內燒制鏤空透明琺瑯主要有以下幾種方法：

1)在琺瑯釉料中加入黃芪粉：該方法是在釉料漿中加入一定量的黃芪粉，用以增加釉料的粘度，在釉料顆粒之間產生粘滯力，使釉料漿填到鏤空部位時有一定的向上張力，不會像單純的釉料那樣容易崩塌。然而，黃芪粉的粘性非常有限，必須添加大量的黃芪粉量才能獲得足夠的粘性，而燒制過程中，黃芪粉會產生大量氣體，導致琺瑯層包裹氣泡，且釉層內部的黃芪粉會部分炭化，導致釉層中出現黑褐斑點，影響透亮度和外觀效果；

2)工件分段填釉燒制：該方法是將工件的琺瑯分成幾段燒制，每次選擇部分鏤空位填釉，燒制后再進行其他部位的填釉燒制，直到所有部位的釉層燒制完成，該方法可以減少填釉和托送入爐的過程中釉料的坍塌。然而，填好釉的部位與鏤空未填釉部位需要同時入爐燒制，在高溫下K金、銀合金等首飾坯件容易氧化，使得未填釉部位必須先進行打磨才能填釉，分段越多，打磨次數越多，耗時耗料，且已經燒制好的釉層在反復打磨過程中易出現破損；

3)同一個鏤空部位分次填釉燒制：該方法是在同一個鏤空部位，從易到難依次填釉，填完一部分先入爐燒制，然后再填其他部分并燒制，可以減少填釉和托送入爐的過程中釉料的坍塌。然而，燒制后金屬邊框會氧化變色，對于尚未填釉的部位，必須進行仔細打磨，否則分次填釉的琺瑯層之間易產生色差，特別是在分次填釉的界面邊緣易產生變色界限，且在同一個鏤空部位，由于空間很有限，打磨的難度很大，容易傷及已燒制的釉層。

因此，有必要開發一種高效、穩定的燒制鏤空透明琺瑯的方法。

發明內容

本發明的目的在于提供一種鏤空透明琺瑯首飾的制備方法。

本發明所采取的技術方案是：

一種鏤空透明琺瑯首飾的制備方法，包括以下步驟：

1)結構優化：制版時用筋線對鏤空部位進行分割；

2)琺瑯釉料處理：針對直徑小于5mm或寬度小于2.5mm的鏤空位，在釉料中添加羧甲基纖維素調整漿料的粘度；

3)安放假托：依據燒制時琺瑯首飾的放置方向，在直徑超過5mm或寬度超過2.5mm的鏤空位的底部貼上箔片；

4)填琺瑯釉料：將琺瑯釉料均勻填充到鏤空部位；

5)燒制：填料后的琺瑯首飾先在790～810℃下燒制60～100秒，再取出工件用已預熱到500～600℃的硅酸鋁纖維筒罩住，自然冷卻；