[發明專利]鎓化合物以及制備其的方法

在審

• 申請號: 201710480420.8
• 申請日: 2013-09-16
• 公開（公告）號: CN107266415A
• 公開（公告）日: 2017-10-20
• 發明（設計）人: P·J·拉寶美
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號: C07D335/16
• 分類號: C07D335/16;C07C303/32;C07C309/12;G03F7/004
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 陳哲鋒

1.一種制備鎓鹽化合物的方法，所述方法包括：

(a)提供包含磺酸鹽組分的鎓鹽化合物，其中該磺酸鹽組分包含吸電子基團；和

(b)用鹵化物鹽處理該鎓鹽化合物以形成不同的鎓化合物鹽。

2.權利要求1的方法，其中一個或多個吸電子基團包含一個或多個鹵原子。

3.權利要求1的方法，其中磺酸鹽組分是三氟甲磺酸鹽。

4.權利要求1到3中任一項的方法，其中磺酸鹽組分是以下通式(I)的磺酸鹽：

其中R₁和R₃獨立的選自氫原子、鹵素、氰基、硝基、任選取代的烷基和任選取代的碳環芳基；

R₂與R₁和R₃相同或不同，并且選自連接基團、氫原子、鹵素、氰基、硝基、任選取代的烷基和任選取代的碳環芳基，

其中R₁、R₂和R₃中的至少一個是吸電子基團。

5.權利要求6的方法，其中R₁、R₂和R₃中的至少一個是鹵素或鹵代烷基。

6.權利要求1到5中任一項的方法，其中(i)用鹵化物鹽處理鎓鹽以形成鎓化合物的鹵化物鹽并且(ii)進一步處理鎓化合物的鹵化物鹽以提供不同的鎓化合物鹽。

7.一種制備光致抗蝕劑組合物的方法，所述方法包括混合權利要求1-6中任一項的鎓化合物的不同的鹽和聚合物以提供光致抗蝕劑組合物。

8.一種光刻方法，所述方法包括：(i)在基材表面施用根據權利要求7制備的光致抗蝕劑組合物的涂層；(ii)使光致抗蝕劑組合物層曝光于活化輻射；以及(iii)使曝光的光致抗蝕劑組合物層顯影以提供抗蝕劑浮雕圖像。

9.一種鎓鹽化合物，其通過包括以下步驟的方法獲得：

(a)提供一種包含磺酸鹽組分的鎓鹽，其中該磺酸鹽組分包含吸電子基團；

(b)用鹵化物鹽處理該磺酸鹽以形成鎓化合物的鹵化物鹽；以及

(c)處理該鎓化合物的鹵化物鹽以形成不同的鎓化合物鹽。

10.包含聚合物和權利要求9的鎓鹽化合物的光致抗蝕劑。