[發明專利]一種成膜均勻的低折射率光學鍍膜材料及制備方法

有效

• 申請號: 201710476041.1
• 申請日: 2017-06-21
• 公開（公告）號: CN107219567B
• 公開（公告）日: 2019-06-28
• 發明（設計）人: 秦海波;歐德旭;潘碩
• 申請（專利權）人: 北京富興凱永興光電技術有限公司;惠州市華陽光學技術有限公司
• 主分類號: G02B1/00
• 分類號: G02B1/00;G02B1/115;G02B5/08;C23C14/06;C23C14/24
• 代理公司: 北京市商泰律師事務所 11255
• 代理人: 毛燕生

一種成膜均勻的低折射率光學鍍膜材料及制備方法，屬于光學鍍膜材料技術領域。低折射率光學鍍膜材料是由氟化鎂和添加物氟化鈣、氟化鋇或氟化鍶組成，低折射率光學鍍膜材料的配方按重量比進行配比、混合，經造粒，低折射率光學鍍膜材料重量配方如下：氟化鎂80～99.5，添加的氟化物總量0.5～20；在800℃以上進行3～6小時燒結。本發明鍍膜材料在光學元件上沉積的過程中，由于氟化鎂和氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶等同時蒸發并沉積在光學表面，因氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶分子的作用，阻止了原來單一氟化鎂沉積過程中定向生長的情況，形成更均勻應力小的光學膜層，由于應力的減小，在鍍多層膜時，保證多層膜的穩定，解決多層膜的膜裂問題。

技術領域

本發明涉及一種成膜均勻的低折射率光學鍍膜材料及制備方法，屬于光學鍍膜材料技術領域。

背景技術

在光學鍍膜領域，氟化鎂是一種常用的低折射率光學鍍膜材料，由于其折射率低，被廣泛用于鍍制增透膜，在成膜過程中，氟化鎂在光學原件表面沉積的過程，也是在光學表面再結晶的過程。由于晶體的生長有一定的方向性，如水在結冰的過程，通常會朝著特定方向先生長，這樣，通常會導致所形成的膜微觀上不均勻，這種微觀上的不均勻，在鍍多層膜時會形成應力，導致膜裂。

發明內容

為了克服現有技術的不足,針對氟化鎂材料在特殊鍍膜技術中出現膜層微觀不均勻的問題，本發明提供一種成膜均勻的低折射率光學鍍膜材料及制備方法。

一種成膜均勻的低折射率光學鍍膜材料的制備方法，低折射率光學鍍膜材料，光學鍍膜材料是由氟化鎂和添加物氟化鈣、氟化鋇或氟化鍶組成，含有以下步驟；

低折射率光學鍍膜材料的配方按重量比進行配比、混合，經造粒，

低折射率光學鍍膜材料配方如下(重量配比)：

氟化鎂80～99.5％，

添加的氟化物總量0.5～20％。

在800℃以上進行3～6小時燒結，或在1300℃以上進行真空熔化3～6小時，

進行鍍膜：鍍膜條件，鍍膜機直徑1100mm，材料在鍍膜時的蒸發速度為10A⁰/S，基板玻璃溫度200℃。

一種成膜均勻的低折射率光學鍍膜材料，配方如下(重量配比)：

氟化鎂80～99.5％，

添加的氟化物總量0.5～20％；

氟化物由氟化鎂和氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶等兩種或兩種以上混合物組成。

本發明的優點是在氟化鎂材料中，引入一定量的其它氟化物，如氟化鈣、氟化鋇氟化鍶等，這樣，鍍膜材料在光學元件上沉積的過程中，由于氟化鎂和氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶等同時蒸發并沉積在光學表面，因氟化鈣、氟化鋇、氟化鍶分子的作用，阻止了原來單一氟化鎂沉積過程中定向生長的情況，這樣，會形成更均勻的應力小的光學膜層，由于應力的減小，在鍍多層膜時，可以保證多層膜的穩定，解決多層膜的膜裂問題。

具體實施方式

顯然，本領域技術人員基于本發明的宗旨所做的許多修改和變化屬于本發明的保護范圍。

本技術領域技術人員可以理解，除非特意聲明，這里使用的單數形式“一”、“一個”、“所述”和“該”也可包括復數形式。應該進一步理解的是，本說明書中使用的措辭“包括”是指存在所述特征、整數、步驟、操作、元件和/或組件，但是并不排除存在或添加一個或多個其他特征、整數、步驟、操作、元件、組件和/或它們的組。應該理解，當稱元件、組件被“連接”到另一元件、組件時，它可以直接連接到其他元件或者組件，或者也可以存在中間元件或者組件。這里使用的措辭“和/或”包括一個或更多個相關聯的列出項的任一單元和全部組合。