[發明專利]抗曝光有機光導體的激子發生層涂布液、有機光導體的制備方法及有機光導體

在審

• 申請號: 201710475776.2
• 申請日: 2017-06-21
• 公開（公告）號: CN107247392A
• 公開（公告）日: 2017-10-13
• 發明（設計）人: 余榮清;張培興;范雪峰;葛美珍
• 申請（專利權）人: 蘇州恒久光電科技股份有限公司
• 主分類號: G03G5/07
• 分類號: G03G5/07
• 代理公司: 南京艾普利德知識產權代理事務所(特殊普通合伙)32297
• 代理人: 陸明耀

1.抗曝光有機光導體的激子發生層涂布液，其特征在于：包括酞菁氧鈦、聚乙烯醇縮丁醛樹脂，還包括光穩定劑、光屏蔽劑以及防老劑；所述酞菁氧鈦與聚乙烯醇縮丁醛樹脂的質量比例為1：2-3：1；所述光穩定劑的質量分數為0.1%-2%；所述光屏蔽劑的質量分數為0.5%-5%；所述防老劑的質量分數為0.1%-1%。

2.根據權利要求1所述的抗曝光有機光導體的激子發生層涂布液，其特征在于：所采用的溶劑為丁酮和環己酮按質量比例2：1-5：1混合的混合物。

3.抗曝光有機光導體的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1，在合金鋁基上涂布電荷阻擋層鍍膜涂料，以形成電荷阻擋層UCL；所述電荷阻擋層鍍膜涂料為包括尼龍樹脂的溶液；

S2，在所述電荷阻擋層上涂布權利要求1或2所述的激子發生層涂布液，形成激子發生層CGL；

S3，在所述激子發生層CGL上涂布電荷傳輸層鍍膜涂料，形成電荷傳輸層CTL。

4.根據權利要求3所述的抗曝光有機光導體的制備方法，其特征在于：所述電荷阻擋層的厚度為0.5-5μm；所述激子發生層的厚度為0.2-1.0μm；所述電荷傳輸層的涂層厚度為10-30μm。

5.根據權利要求3所述的抗曝光有機光導體的制備方法，其特征在于：所述電荷阻擋層鍍膜涂料采用的溶劑為乙醇和異丁醇按質量比例1：1-6：1混合的混合物。

6.根據權利要求3所述的抗曝光有機光導體的制備方法，其特征在于：所述電荷阻擋層鍍膜涂料中添加有鈦白及溶液型分散劑，所述溶液型分散劑的添加量為鈦白質量的5%-25%。

7.根據權利要求3所述的抗曝光有機光導體的制備方法，其特征在于：所述電荷傳輸層包括具有高透型碳酸酯和高抗性碳酸酯的復合碳酸酯以及m-TPD。

8.根據權利要求3所述的抗曝光有機光導體的制備方法，其特征在于：所述電荷傳輸層鍍膜涂料采用的溶劑為二氯甲烷和四氫呋喃按質量比例1：1-10：1 混合的混合物。

9.根據權利要求8所述的抗曝光有機光導體的制備方法，其特征在于：所述電荷傳輸層鍍膜涂料中還包括抗氧化劑，所述抗氧化劑的添加量為m-TPD質量的3-5%。

10.抗曝光有機光導體，其特征在于，采用權利要求3-9任一所述的方法制備得到。