[發明專利]一種用于液晶顯示屏玻璃基板的銅蝕刻液

在審

• 申請號: 201710474952.0
• 申請日: 2017-06-21
• 公開（公告）號: CN107236958A
• 公開（公告）日: 2017-10-10
• 發明（設計）人: 白航空
• 申請（專利權）人: 合肥市惠科精密模具有限公司
• 主分類號: C23F1/18
• 分類號: C23F1/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及液晶顯示屏技術領域，具體涉及一種用于液晶顯示屏玻璃基板的銅蝕刻液。

背景技術

化學蝕刻是通過化學反應利用化學溶液的腐蝕作用將不期望的金屬快速溶解除掉的過程。金屬蝕刻必須采用高效穩定的蝕刻液才能實現高效穩定的蝕刻功能，這樣，蝕刻產品的精度才能滿足較高的加工要求。化學蝕刻加工對掩膜處理的工件進行噴淋蝕刻，通過液壓系統調節噴淋壓力。為了保證加工的均勻性，將加工樣件放置在可旋轉的工作臺上，設置加工時間，即可進行模具鋼的蝕刻加工。現有的蝕刻液適用于高精度尺寸的要求微結構的快速蝕刻，蝕刻過程穩定，原料成本低，能滿足生產線的加工需求。此外，現有的刻蝕液包括三氯化鐵和硝酸，并且其顯著特點是蝕刻圖案或文字的輪廓縫隙較窄，微細蝕刻加工的尺寸偏差小，發生的側蝕量較小，在蝕刻過程中會從未掩膜區域自上而下發生蝕刻，刻蝕的定域性好，蝕刻效率高，易于控制，蝕刻加工的微結構具有明顯棱邊過渡，凸起呈長方體陣列分布，凹坑為邊沿垂直性好的深坑，在保證蝕刻深度的同時有較好的形貌特征，深徑比可以控制在一定范圍內，截面形狀近似于矩形波，整體微觀結構凸凹過渡明顯。但是，現有的蝕刻液加工出來的圖形往往存在表面開口大，內部開口小的形狀，其斷面如梯形。模具鋼表面呈方格子狀細紋，這樣造成的后果是加工工件觸感差，同時還影響視覺效果。

發明內容

本發明旨在提供了一種用于液晶顯示屏玻璃基板的銅蝕刻液。

本發明提供如下技術方案：

一種用于液晶顯示屏玻璃基板的銅蝕刻液，所述蝕刻液由以重量計的下述組分配制而成：氫氟酸15-25％、乙二胺15-25％、氯酸鹽15-25％、三氯化鐵15-25％、銅腐蝕抑制劑5-9％、陰離子表面活性劑7-11％。

所述銅蝕刻液的銅濃度為60-150克/升。

所述通腐蝕抑制劑選自含有硫原子、且含有至少一種選自氨基、亞氨基、羧基、羰基及羥基中的取代基的碳原子數為7以下的化合物。

所述陰離子表面活性劑是選自由十二烷基硫酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉和二辛基琥珀酸磺酸鈉中的至少一種陰離子表面活性劑。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：本發明通過顯示屏基板薄化之后對附著在基板表面的沉淀雜質進行溶解，能有效去除基板表面雜質，可以提高產品合格率和良率，同時可以對基板厚度的控制提供有效保證；本發明提供的蝕刻液，可以通過對基板表面的雜質進行溶解和蝕刻，達到去除基板表面雜質的技術效果，從而有效解決基板由于顆粒狀附著而降低良率的問題。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

實施例1一種用于液晶顯示屏玻璃基板的銅蝕刻液，所述蝕刻液由以重量計的下述組分配制而成：氫氟酸15％、乙二胺15％、氯酸鹽15％、三氯化鐵15％、銅腐蝕抑制劑5％、陰離子表面活性劑7％。

進一步的，銅蝕刻液的銅濃度為60-150克/升。

進一步的，通腐蝕抑制劑選自含有硫原子、且含有至少一種選自氨基、亞氨基、羧基、羰基及羥基中的取代基的碳原子數為7以下的化合物。

進一步的，陰離子表面活性劑是選自由十二烷基硫酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉和二辛基琥珀酸磺酸鈉中的至少一種陰離子表面活性劑。

實施例2一種用于液晶顯示屏玻璃基板的銅蝕刻液，所述蝕刻液由以重量計的下述組分配制而成：氫氟酸25％、乙二胺25％、氯酸鹽25％、三氯化鐵25％、銅腐蝕抑制劑9％、陰離子表面活性劑11％。

進一步的，銅蝕刻液的銅濃度為60-150克/升。

進一步的，通腐蝕抑制劑選自含有硫原子、且含有至少一種選自氨基、亞氨基、羧基、羰基及羥基中的取代基的碳原子數為7以下的化合物。

進一步的，陰離子表面活性劑是選自由十二烷基硫酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉和二辛基琥珀酸磺酸鈉中的至少一種陰離子表面活性劑。

實施例3一種用于液晶顯示屏玻璃基板的銅蝕刻液，所述蝕刻液由以重量計的下述組分配制而成：氫氟酸18％、乙二胺22％、氯酸鹽19％、三氯化鐵18％、銅腐蝕抑制劑7％、陰離子表面活性劑9％。

進一步的，銅蝕刻液的銅濃度為60-150克/升。

進一步的，通腐蝕抑制劑選自含有硫原子、且含有至少一種選自氨基、亞氨基、羧基、羰基及羥基中的取代基的碳原子數為7以下的化合物。