[發明專利]一種用于平面局部高點去除的精密研磨裝置及參數確定方法

有效

• 申請號: 201710474426.4
• 申請日: 2017-06-21
• 公開（公告）號: CN107150286B
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: 凌四營;王坤;于寶地;王曉東;王立鼎
• 申請（專利權）人: 大連理工大學
• 主分類號: B24B37/00
• 分類號: B24B37/00
• 代理公司: 大連理工大學專利中心 21200
• 代理人: 梅洪玉

1.一種用于平面局部高點去除的精密研磨裝置，其特征在于，包括外殼、隔振層、減速電機、連接殼、球形滾動體、壓簧、傳遞塊、T型密珠軸套、基準塊、偏心研磨塊和密封圈；

外殼為圓柱形，其上端設有電機開關和電源接線口，下端為法蘭結構與連接殼螺紋固定連接；外殼的內壁設置隔振層，減速電機外周貼附隔振層；減速電機下端與連接殼上表面通過螺紋連接固定，減速電機下端面與連接殼的上表面之間夾有隔振層；

所述連接殼為中空的圓柱形回轉體，連接殼的下端內壁設有內螺紋與基準塊的外螺紋裝配連接，連接殼的最大外徑與基準塊的最大外徑相同；

所述傳遞塊為T型回轉體，中心位置設有通孔，通孔靠近大圓柱端面一側為D型孔，D型孔的深度為3～5mm，與減速電機的D型輸出軸間隙配合，用于傳遞減速電機的轉矩，通孔靠近小圓柱端面一側為圓形光孔，用于放置壓簧和球形滾動體；傳遞塊小圓柱端的端面與偏心研磨塊的大圓柱端通過螺紋固定連接；傳遞塊大圓柱端的軸肩內端面為偏心研磨塊的軸向定位基準，其平面度誤差小于1μm，相對于偏心研磨塊的小圓柱端圓周軸線的偏擺小于2μm，相對于裝配后的偏心研磨塊工作面的平行度誤差小于1μm；

所述密珠軸套為T型中空回轉體，壁厚小于所述球形滾動體直徑1～2mm；密珠軸套的軸向和徑向分別設有均布的直徑大于所用球形滾動體直徑0.1～0.2mm的球室，用于放置球形滾動體；其徑向球室里的球形滾動體與傳遞塊小圓柱面和基準塊內孔壁面間的單邊過盈量為1～3μm；

所述基準塊為倒T型中空回轉體，其內孔為偏心研磨塊的徑向基準，直徑小的一端設有外螺紋與連接殼內螺紋裝配連接，該端面為偏心研磨塊的軸向限位基準；另一端面為基準塊工作時的軸向定位基準；該定位基準面由四個均布的扇形環面組成，中間為寬度20～40mm的十字形間隙，基準塊定位基準面的內外兩側設有環形槽，用于設置密封圈；基準塊上下兩端面的高度等于偏心研磨塊工作面與連接塊大圓柱端的軸肩端面的高度減去密珠軸套軸向球形滾動體的直徑；基準塊的定位面與偏心研磨塊的工作面共面；基準塊的上下兩端面的平面度為0.5μm，表面粗糙度小于Ra0.2，其相對于基準塊內孔軸線的垂直度小于1μm；

偏心研磨塊為上下不同軸的T型回轉體，大圓柱端與小圓柱端的軸線間偏心距離為2～5mm；偏心研磨塊的小圓柱端面為研磨工作面；偏心研磨塊的大圓柱端面為其軸向安裝基準，平面度為1μm；偏心研磨塊的大圓柱面與基準塊的內壁為間隙配合，間隙量為0.02～0.03mm；偏心研磨塊的研磨工作面的平面度小于0.5μm，上下兩端面的平行度小于1μm，大圓柱面的圓柱度不大于5μm。

2.根據權利要求1所述的一種用于平面局部高點去除的精密研磨裝置，其特征在于，基準塊的內孔和上下兩端面的硬度以及傳遞塊的硬度不低于HRC60。

3.根據權利要求1或2所述的一種用于平面局部高點去除的精密研磨裝置，其特征在于，所述的連接殼為40Cr；所述的偏心研磨塊為球墨鑄鐵材料；所述的球形滾動體為G5級以上材料。

4.根據權利要求1或2所述的一種用于平面局部高點去除的精密研磨裝置，其特征在于，所述的密封圈為羊毛氈密封圈。

5.根據權利要求3所述的一種用于平面局部高點去除的精密研磨裝置，其特征在于，所述的密封圈為羊毛氈密封圈。

6.根據權利要求1或2或5所述的一種用于平面局部高點去除的精密研磨裝置，其特征在于，減速電機的最大工作轉速不超過90rpm。

7.根據權利要求3所述的一種用于平面局部高點去除的精密研磨裝置，其特征在于，減速電機的最大工作轉速不超過90rpm。

8.根據權利要求4所述的一種用于平面局部高點去除的精密研磨裝置，其特征在于，減速電機的最大工作轉速不超過90rpm。

9.權利要求1或2或5任一所述用于平面局部高點去除的精密研磨裝置的參數確定方法，其特征在于，通過調整基準塊的螺紋旋入的深度x₀+x，調整研磨時的正壓力，滿足關系式F＝kx，其中，F表示正壓力，k為壓簧的彈性系數，x₀為壓簧變形前的螺紋旋入的深度，x為壓簧的壓縮量。