[發明專利]基于多元線性回歸法的液體陰極輝光放電光譜分析方法

有效

• 申請號: 201710472016.6
• 申請日: 2017-06-20
• 公開（公告）號: CN107314999B
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 王金梅;翟翔;鄭培超;唐鵬飛
• 申請（專利權）人: 重慶郵電大學
• 主分類號: G01N21/67
• 分類號: G01N21/67;G01N21/69
• 代理公司: 天津創智天誠知識產權代理事務所(普通合伙) 12214
• 代理人: 周慶路

1.一種基于多元線性回歸法的液體陰極輝光放電光譜分析方法，其特征在于，包括以下步驟：

a、配置一系列含有不同濃度的待測元素的樣品溶液，并向其每份樣品溶液中添加多種定量的、待選定的元素，并對這一系列樣品溶液進行預處理；

b、將步驟a中的一系列樣品溶液通入液體陰極輝光放電裝置，啟動該裝置后，在高壓直流電源的激勵下，樣品溶液被激發為等離子體后產生光譜，然后通過光譜儀采集等離子體的發射光譜，每一份樣品溶液均會得到一張光譜圖；

c、根據NIST數據庫，從步驟b中的光譜選出待測元素的譜線，以及待選定元素的譜線；

d、根據步驟c中的光譜數據，建立待測元素濃度與某一條待選定元素譜線強度的線性擬合曲線，并得出該曲線的擬合斜率，斜率的絕對值越大，表明待測元素與該待選定元素的相互影響越大；

e、重復步驟d，建立待測元素濃度和每一條待選定元素譜線之間的擬合曲線，并可以得到每一條擬合曲線的斜率絕對值；

f、對步驟e中得到的一系列斜率絕對值進行排序，選取斜率絕對值最大的1-3條擬合曲線所對應的待選定元素，由于這1-3個待選定元素與待測元素之間相互影響較大，故將這1-3個元素的譜線強度作為自變量元素，即作為回歸模型中的自變量；

g、對樣品溶液中待測元素的濃度和步驟f中選出的自變量元素的譜線強度，以及H_β和待測元素自身的譜線強度進行多元線性回歸分析，通過回歸模型建立回歸方程；

h、根據步驟g中建立的回歸方程，即可用來檢測實際樣品中待測元素的含量，并且能矯正檢測過程中基體效應的影響；

其中，所述步驟c中，若待測元素有多條譜線時，選取半高寬窄、信背比高的那一條譜線作為該元素的譜線；若某一個待選定元素有多條譜線，同樣選取半高寬窄，信背比高的那一條譜線作為該待選定元素的譜線；

所述步驟g中，使用的多元線性回歸模型為：

C=b₀+b₁I₁+b₂I₂+···+b_kI_k+b_k+1I_Hβ+b_k+2I_C

其中，b₀為常數項；b₁，b₂，…，b_k，b_k+1，b_k+2為回歸系數；I₁，I₂，…，I_k是自變量元素的譜線強度；模型中I_Hβ是H_β的譜線強度；I_C是待測元素的譜線強度，C為樣品溶液中待測元素的濃度；K取值1-3，K的值代表步驟f中選取的自變量元素的數量，所述步驟a中，配置的樣品溶液待測元素的濃度是逐級遞增的，

所述步驟g中，提及的自變量元素是按步驟d, e,f，從待選定元素中選取出來的，自變量元素的譜線強度被用來作為步驟h中的多元線性回歸模型中的自變量。