[發(fā)明專利]顯示基板及其制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710466287.0 | 申請日: | 2017-06-19 |
| 公開(公告)號: | CN107121829B | 公開(公告)日: | 2020-04-07 |
| 發(fā)明(設計)人: | 尹勇明 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識產(chǎn)權代理事務所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 及其 制作方法 | ||
1.一種顯示基板,其特征在于,包括:基板(10)、設于所述基板(10)上的黑色矩陣(20)、覆蓋所述黑色矩陣(20)的導電層(40)、以及覆蓋所述導電層(40)和基板(10)的透明的公共電極(30);
所述導電層(40)的材料的電阻率小于所述公共電極(30)的材料的電阻率;
所述黑色矩陣(20)的材料為黑色樹脂;
所述導電層(40)與所述黑色矩陣(20)的形狀一致,包括分別位于數(shù)個橫向和縱向排列的遮光條上的數(shù)個橫向和縱向排列的導電條。
2.如權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述導電層(40)的材料為金屬,所述公共電極(30)的材料為ITO。
3.一種顯示基板的制作方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟S201、提供一基板(10),在所述基板(10)上形成黑色矩陣薄膜(20’),在所述黑色矩陣薄膜(20’)上形成導電薄膜(40’);
步驟S202、在所述導電薄膜(40’)上涂布光阻,形成光阻層(50);
步驟S203、圖案化所述光阻層(50),以所述光阻層(50)為遮擋對所述導電薄膜(40’)進行刻蝕,刻蝕完成后去除光阻層(50),形成導電層(40);
步驟S204、以所述導電層(40)為遮擋對所述黑色矩陣薄膜(20’)進行刻蝕,形成黑色矩陣(20);
步驟S205、在所述導電層(40)和基板(10)上覆蓋透明的公共電極(30);
所述導電層(40)的材料的電阻率小于所述公共電極(30)的材料的電阻率;
所述黑色矩陣(20)的材料為黑色樹脂;
所述導電層(40)與所述黑色矩陣(20)的形狀一致,包括分別位于數(shù)個橫向和縱向排列的遮光條上的數(shù)個橫向和縱向排列的導電條。
4.如權利要求3所述的顯示基板的制作方法,其特征在于,所述導電層(40)的材料為金屬,所述公共電極(30)的材料為ITO。
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