[發明專利]一種偏錫酸鋅/二氧化錫凹面立方體材料及其制備方法有效
| 申請號: | 201710462915.8 | 申請日: | 2017-06-19 |
| 公開(公告)號: | CN107324377B | 公開(公告)日: | 2019-01-01 |
| 發明(設計)人: | 賈曉華;練丹丹;李長超 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | C01G19/02 | 分類號: | C01G19/02;C01G19/00;G01N27/12 |
| 代理公司: | 江蘇縱聯律師事務所 32253 | 代理人: | 蔡棟 |
| 地址: | 212000 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 偏錫酸鋅 氧化 凹面 立方體 材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種偏錫酸鋅/二氧化錫凹面立方體材料的制備方法,包括反應體系的配制,液相合成處理,產物的分離、洗滌和干燥過程,其特征在于包括以下具體步驟:
步驟一,以硝酸鋅為鋅源、四氯化錫為錫源,二者混合,溶于33 vol%乙醇水溶液,通過分兩次不等量添加氫氧化鈉在室溫下形成均一懸浮液,經過充分的油浴反應和熱處理制得偏錫酸鋅空心球粉末;
步驟二,將所述偏錫酸鋅空心球粉末,置于33 vol%乙醇水溶液中并攪拌得到懸浮液Ⅱ;
步驟三,將檸檬酸鈉作為表面活性劑加入到懸浮液Ⅱ中,磁力攪拌,混合均勻,得到懸浮液Ⅲ;
步驟四,以四氯化錫為錫源,溶解在33 vol%乙醇水溶液中,滴加到懸浮液Ⅲ中得到懸浮液Ⅳ;然后以氫氧化鈉為沉淀劑,溶解在33 vol%乙醇水溶液中,再滴加到懸浮液Ⅳ中得到懸浮液Ⅴ;所述四氯化錫、氫氧化鈉的摩爾比為1:6;且二氧化錫和偏錫酸鋅以不同質量比進行摻雜;
步驟五,將懸浮液Ⅴ轉移至反應釜中,進行水熱處理12 h,制得產物;將產物進行離心、洗滌、烘干,得最終產物即一種偏錫酸鋅/二氧化錫凹面立方體復合材料;
水熱反應溫度為100-150 °C,反應時間為12 h。
2.根據權利要求1所述的一種偏錫酸鋅/二氧化錫凹面立方體材料的制備方法,其特征在于:所述的一種偏錫酸鋅/二氧化錫凹面立方體材料中二氧化錫的摻雜質量比為5%-15%,檸檬酸鈉、四氯化錫的摩爾比為0.25-1。
3.根據權利要求1所述的一種偏錫酸鋅/二氧化錫凹面立方體材料制備方法,其特征在于:所述的一種偏錫酸鋅/二氧化錫凹面立方體材料長0.8-2.0 μm;棱呈弧形展開,棱表面凸起物質長120-250 nm,立方體內凹且表面具有凸起狀物質。
4.根據權利要求1所述的一種偏錫酸鋅/二氧化錫凹面立方體材料的制備方法,其特征在于所述懸浮液Ⅴ的配備過程如下:
過程一,配制33 vol%乙醇水溶液,記為溶液Ⅰ;
過程二,將偏錫酸鋅空心球粉末溶于溶液Ⅰ中,攪拌混合得到均勻溶液,得到懸浮液Ⅱ;
過程三,將檸檬酸鈉溶于溶液Ⅰ中,攪拌得到均勻溶液,然后將此溶液逐滴滴加到懸浮液Ⅱ中并攪拌10 min,得到懸浮液Ⅲ;
過程四,將四氯化錫溶于溶液Ⅰ中,攪拌得到均勻溶液,然后將此溶液逐滴滴加到懸浮液Ⅲ中,并攪拌10 min,得到懸浮液Ⅳ;
過程五,將氫氧化鈉溶于溶液Ⅰ中,攪拌得到均勻溶液,然后將此溶液逐滴滴加到懸浮液Ⅳ中,并攪拌10 min,得到懸浮液Ⅴ。
5.一種偏錫酸鋅/二氧化錫凹面立方體復合材料,其特征在于:使用權利要求1-4任意一項所述的制備方法制備而得,具有高氣敏性能。
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