[發(fā)明專利]用于膜輪廓調(diào)節(jié)的噴頭簾式氣體方法和系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710462095.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107523804A | 公開(公告)日: | 2017-12-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 伊?xí)r塔克·卡里姆;阿德里安·拉瓦伊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 朗姆研究公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/455 | 分類號(hào): | C23C16/455 |
| 代理公司: | 上海勝康律師事務(wù)所31263 | 代理人: | 樊英如,邱曉敏 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 輪廓 調(diào)節(jié) 噴頭 氣體 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種在多站式半導(dǎo)體處理室內(nèi)沉積膜的方法,所述方法包括:
(a)確定用于在所述室內(nèi)進(jìn)行膜沉積的工藝條件,所述工藝條件包括在所述室內(nèi)圍繞每個(gè)站的周邊流動(dòng)的簾式氣體的流動(dòng)條件;
(b)根據(jù)(a)中確定的所述工藝條件,在膜沉積期間,使所述簾式氣體流到所述室內(nèi)的每個(gè)站;
(c)在(b)期間或之后,確定襯底的不均勻性;
(d)基于所述襯底的不均勻性,確定所述室內(nèi)的所述簾式氣體的經(jīng)調(diào)節(jié)的流動(dòng)條件,以改善所述襯底的不均勻性;以及
(e)在(d)之后,根據(jù)(d)中確定的所述經(jīng)調(diào)節(jié)的流動(dòng)條件,在膜沉積期間,使所述簾式氣體流動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述簾式氣體的所述流動(dòng)條件是所述簾式氣體的流率,并且其中所述簾式氣體的所述經(jīng)調(diào)節(jié)的流動(dòng)條件為所述簾式氣體的經(jīng)調(diào)節(jié)的流率。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中在(e)期間,使所述簾式氣體以基本上恒定的流率流動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中在(e)期間,使所述簾式氣體以可變的流率流動(dòng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述簾式氣體的所述流動(dòng)條件是所述簾式氣體的分壓,并且其中所述簾式氣體的所述經(jīng)調(diào)節(jié)的流動(dòng)條件是所述簾式氣體的經(jīng)調(diào)節(jié)的分壓。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述工藝條件包括所述室的壓強(qiáng),并且其中所述室內(nèi)的所述簾式氣體的所述經(jīng)調(diào)節(jié)的流動(dòng)條件由所述室的經(jīng)調(diào)節(jié)的壓強(qiáng)導(dǎo)致。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述工藝條件包括所述室的排空速率,并且其中所述室內(nèi)的所述簾式氣體的所述經(jīng)調(diào)節(jié)的流動(dòng)條件由所述室的經(jīng)調(diào)節(jié)的排空速率導(dǎo)致。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中:
所述簾式氣體的流動(dòng)條件是所述簾式氣體的流率和所述簾式氣體的分壓,
所述工藝條件包括所述室的壓強(qiáng)和所述室的排空速率,并且
所述室內(nèi)的所述簾式氣體的經(jīng)調(diào)節(jié)的所述流動(dòng)條件是以下項(xiàng)中的一種以上:所述簾式氣體的經(jīng)調(diào)節(jié)的流率、所述簾式氣體的經(jīng)調(diào)節(jié)的分壓、由所述室的經(jīng)調(diào)節(jié)的壓強(qiáng)導(dǎo)致的流動(dòng)條件以及由所述室的經(jīng)調(diào)節(jié)的排空速率導(dǎo)致的流動(dòng)條件。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的方法,其中(e)在所述膜沉積的階段期間進(jìn)行。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中(e)在膜沉積的以下階段中的一個(gè)或多個(gè)階段期間進(jìn)行:將每個(gè)站中的襯底暴露于材料的前體,從所述室除去所述前體中的至少一些,激活所述前體在每個(gè)襯底上的反應(yīng),以及在所述反應(yīng)之后除去所述室內(nèi)的氣體中的至少一些。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
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