[發明專利]掃描曝光裝置及器件制造方法

有效

• 申請號: 201710459661.4
• 申請日: 2013-03-26
• 公開（公告）號: CN107272348B
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發明（設計）人: 熊澤雅人
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/24
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;王娟娟

1.一種掃描曝光裝置，將形成于滾筒光罩的圓筒面狀的外周面上的反射型的光罩圖案曝光到沿長度方向移動的撓性的片狀襯底上，所述滾筒光罩圍繞第1中心軸旋轉，所述掃描曝光裝置的特征在于，包括：

照明光學系統，使來自光源的照明光朝著設定于所述滾筒光罩的外周面的一部分的照明區域照射；和

投影光學系統，被入射來自顯現在所述照明區域內的所述光罩圖案的反射光，并在設定于所述片狀襯底上的一部分的投影區域成像出所述光罩圖案的像，

為了使來自所述光罩圖案的所述反射光在所述第1中心軸所延伸的方向和所述外周面的周向上分別成為焦闌狀態，所述照明光學系統使在所述第1中心軸所延伸的方向上分布的所述照明光的主光線成為彼此大致平行的狀態，使在所述外周面的周向上分布的主光線以其延長線在所述第1中心軸與所述外周面之間的中央位置或其附近位置交叉的方式關于所述外周面的周向傾斜。

2.如權利要求1所述的掃描曝光裝置，其特征在于，

所述照明光學系統具有第1光闌部件，該第1光闌部件配置在形成作為所述照明光的光源的一次光源像的位置，所述第1光闌部件以使得在所述滾筒光罩的外周面的周向上照射所述照明區域的所述照明光的擴散角小于在所述第1中心軸所延伸的方向上照射所述照明區域的所述照明光的擴散角的方式設定所述一次光源像的形狀。

3.如權利要求2所述的掃描曝光裝置，其特征在于，

所述照明光學系統包括：

第2光闌部件，該第2光闌部件配置在與所述照明區域光學共軛的位置或其附近；和

光學部件，該光學部件配置在從所述一次光源像到所述第2光闌部件的光路中，并且所述光學部件關于所述外周面的周向的折射力設定得大于所述第1中心軸所延伸的方向的折射力。

4.如權利要求2所述的掃描曝光裝置，其特征在于，

所述第1光闌部件是開口光闌，所述開口光闌的開口在所述外周面的周向上的尺寸設定得比在所述第1中心軸所延伸的方向上的尺寸小。

5.如權利要求2所述的掃描曝光裝置，其特征在于，

所述照明光學系統包括導光部件，所述導光部件的使光纖成束的光出射側配置在所述光闌部件的位置，并且使所述光出射側的形狀形成為在所述滾筒光罩的外周面的周向上的長度比在所述第1中心軸所延伸的方向上的長度小的長圓狀或橢圓狀。

6.如權利要求4或5所述的掃描曝光裝置，其特征在于，

還包括旋轉滾筒，該旋轉滾筒通過相對于第2中心軸而半徑恒定的圓筒面狀的外周面使所述片狀襯底彎曲并支承該片狀襯底，并同時圍繞所述第2中心軸旋轉，其中，所述第2中心軸與所述第1中心軸大致平行地配置，

通過所述旋轉滾筒的旋轉使所述片狀襯底沿長度方向移動。

7.一種器件制造方法，用于在從供給卷筒拉出并由回收卷筒回收的撓性的片狀襯底上形成電子器件的圖案，所述器件制造方法的特征在于，包括：

第1工序，將所述片狀襯底搬運到涂布裝置，在所述片狀襯底的表面上形成感光層；

第2工序，將形成有所述感光層的所述片狀襯底搬運到權利要求6所述的掃描曝光裝置，使所述片狀襯底移動的所述旋轉滾筒的旋轉和所述滾筒光罩的旋轉以規定的旋轉速度比同步旋轉，由此根據所述電子器件的圖案將形成在所述滾筒光罩的所述光罩圖案連續地反復曝光到所述感光層上；以及

第3工序，將從所述掃描曝光裝置搬運來的所述片狀襯底搬運到濕式處理裝置，實施利用了所述感光層的變化的濕式處理。

8.如權利要求7所述的器件制造方法，其特征在于，

所述感光層為光致抗蝕劑、感光性耦合材料、感光性電鍍還原劑、UV固化樹脂中的任一種。

9.如權利要求7所述的器件制造方法，其特征在于，

所述第3工序是進行濕式的顯像處理和無電解電鍍處理中的任一種。