[發明專利]一種用于熒光儀器校準測量的標準樣片及其制備方法有效
| 申請號: | 201710458313.5 | 申請日: | 2017-06-16 |
| 公開(公告)號: | CN107271415B | 公開(公告)日: | 2019-11-29 |
| 發明(設計)人: | 鐘源;李勁勁;張玲;王晶;鐘青;王雪深;傅博強;王蘭若 | 申請(專利權)人: | 中國計量科學研究院 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 11257 北京正理專利代理有限公司 | 代理人: | 付生輝<國際申請>=<國際公布>=<進入 |
| 地址: | 100013 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 熒光 儀器 校準 測量 標準 樣片 及其 制備 方法 | ||
本發明公開一種用于熒光儀器校準測量的標準樣片,包括基板及熒光薄膜,該熒光薄膜設置于基板上且包括具有不同熒光強度的多個熒光強度區域,每個熒光強度區域具有特定的熒光染料填充占空比。本發明還公開一種用于熒光儀器校準測量的標準樣片的制備方法。本發明的用于熒光儀器校準測量的標準樣片及其制作方法,通過利用微納加工技術,精確控制調整熒光薄膜表面上每個像素對應區域內的熒光染料填充占空比,在一個標準樣片上獲得多個厚度相同的熒光強度區域,且每個熒光強度區域具有精準可控的特定的熒光染料填充占空比,使獲得復雜圖案的小尺度圖形成為可能。
技術領域
本發明涉及熒光儀器校準測量。更具體地,涉及一種用于熒光儀器校準測量的標準樣片及其制備方法。
背景技術
隨著生物技術的不斷發展,熒光檢測技術(Fluorescent Detection)由于其具有熒光定量、結果穩定、靈敏度高、封閉操作、安全便捷等特點,已經廣泛地應用于生命科學、醫藥衛生、食品安全、藥理學及生物化學分析等領域。熒光檢測是一種自然發光反應,通過熒光素酶與ATP進行反應,利用專用設備對光照度進行測量并以數字形式予以表示,迅速得到反應結果,可用于檢測人體細胞、細菌、霉菌和食物殘渣等。
傳統的熒光儀器通常采用激光、氙燈、高壓/低壓汞燈等光源作為激發光源,通過檢測熒光物質受激發后發射光的光譜及信號強弱來進行分析。不同熒光儀器的光源、光路、檢測系統的設計與集成各不相同,即使是同一儀器的光源、光路及檢測系統也可能因為老化、環境或震動等原因出現細微的變化,從而引起激光光譜發生變化,帶來測量誤差,影響測量結果。由于熒光檢測的靈敏度極高,通常用于痕量檢測中,極小的測量誤差可能會很大程度上影響測量結果,甚至導致完全相反的結論。因此,制備標準樣片并應用其對熒光儀器進行校準測量顯得尤為重要。
目前,用于熒光儀器校準測量的標準有按特定濃度配成的液體和固態薄膜等形式。液體標準需要置于玻璃容器之中,應用領域受限。固態薄膜型熒光強度標準樣品,將含有熒光材料的薄膜制作于玻璃基片上,可用于熒光顯微鏡、熒光光譜儀等多種生物熒光檢測儀器的日常校準和儀器間比對。但是,這種標準樣品通常只含有一種特定的熒光強度,當需要標定多個熒光強度時,需要更換多個不同強度的標準樣品,操作不便其標準樣片的利用率低。
為了簡化操作過程,提高標準樣片的利用率,提出了包含多個熒光強度區域的標準樣片。其中,不同熒光強度區域用于標定不同的熒光強度,使得在不更換標準樣品的情況下對熒光檢測儀的熒光強度、線性度、飽和度等關鍵參數進行測試成為可能。為了獲得具有不同熒光強度區域的標準樣品,通常將不同區域的熒光薄膜層設置為不同厚度或不同濃度。具體地,如果將熒光薄膜層設置為不同厚度,需要采用多次勻膠、多次曝光和一次顯影的方法制作同一濃度多個厚度的熒光材料薄膜,其操作的次數與熒光強度區域的個數正相關,特別是制作包含熒光強度值多的標準樣品時,其操作將異常繁雜。如果將熒光薄膜層設置為不同濃度,通常使用微陣列點樣儀或旋涂加絲網印刷等相對較為簡單的方法將不同濃度的熒光材料溶液涂覆于基片表面,從而形成具有大約等同厚度和不同熒光強度的點陣。但是,其并不能精準控制標準樣品不同濃度的熒光材料薄膜厚度一致性,導致實際熒光強度不能得到精準控制而影響校準測量結果。另外,采用這種方式獲得的標準樣片只能制作大尺度的圓形圖形,并不能制作含有復雜圖案的小尺度圖形。
因此,需要提供一種包含多個熒光強度區域的標準樣片,能夠簡化制作過程,同時保證對熒光強度的精準控制,滿足制作含有復雜圖案的小尺度圖形的要求。
發明內容
為了克服上述缺點,本發明的一個目的在于提供一種包含厚度相同的多個熒光強度區域,制作過程簡單且滿足復雜圖案的小尺度圖形要求的標準樣片。
為達到上述目的,本發明采用下述技術方案:
一種用于熒光儀器校準測量的標準樣片,包括
基板;及
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國計量科學研究院,未經中國計量科學研究院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710458313.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





