[發(fā)明專(zhuān)利]一種7050鋁合金表面形成納米晶的檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710455789.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107192728B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹宇鵬;花國(guó)然;陳浩天;王恒;蔣蘇州;張立虎;周銳;戴立新;陳貽平;朱珉睿 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 南通大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N23/20 | 分類(lèi)號(hào): | G01N23/20 |
| 代理公司: | 北京科家知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 陳娟 |
| 地址: | 226019 *** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 7050 鋁合金 表面 形成 納米 檢測(cè) 方法 | ||
1.一種7050鋁合金表面形成納米晶的檢測(cè)方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、制備若干塊7050鋁合金樣品;
S2、對(duì)若干塊7050鋁合金樣品分別進(jìn)行激光沖擊強(qiáng)化,且分別以不同激光沖擊強(qiáng)化的功率密度產(chǎn)生極端塑性應(yīng)變;
S3、利用X射線(xiàn)衍射儀對(duì)每一塊極端塑性應(yīng)變后的7050鋁合金樣品進(jìn)行X射線(xiàn)衍射,得到一組X射線(xiàn)衍射圖;
S4、對(duì)一組X射線(xiàn)衍射圖中同一特定衍射晶面的衍射峰進(jìn)行分析,計(jì)算出每種功率密度下X射線(xiàn)衍射線(xiàn)的半高寬;
S5、建立功率密度與半高寬的二維坐標(biāo)系,繪制同一特定衍射晶面的半高寬隨功率密度變化的曲線(xiàn)圖;
S6、找出半高寬隨功率密度變化的曲線(xiàn)圖中的增長(zhǎng)拐點(diǎn),通過(guò)透射電鏡及電子衍射實(shí)驗(yàn),驗(yàn)證增長(zhǎng)拐點(diǎn)處所對(duì)應(yīng)的極端塑性應(yīng)變的功率密度為7050鋁合金表面通過(guò)激光沖擊強(qiáng)化工藝形成納米晶的最小功率密度;當(dāng)極端塑性應(yīng)變對(duì)應(yīng)的功率密度超過(guò)其最小功率密度時(shí),7050鋁合金表面形成納米晶;
S7、繪制同一非特定衍射晶面半高寬隨功率密度變化曲線(xiàn)圖,對(duì)比透射電鏡及電子衍射實(shí)驗(yàn),排除非特定衍射晶面的半高寬數(shù)據(jù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種7050鋁合金表面形成納米晶的檢測(cè)方法,其特征在于,所述7050鋁合金材料中特定衍射晶面為晶面指數(shù)h、k、l之和為偶數(shù)的慣習(xí)面,所述非特定衍射晶面為晶面指數(shù)h、k、l之和為奇數(shù)的慣習(xí)面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種7050鋁合金表面形成納米晶的檢測(cè)方法,其特征在于,還包括所述步驟S2與步驟S3之間對(duì)極端塑性應(yīng)變后的7050鋁合金樣品進(jìn)行表面處理的過(guò)程。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種7050鋁合金表面形成納米晶的檢測(cè)方法,其特征在于,所述表面處理的過(guò)程具體包括以下步驟:a.采用純乙醇或丙酮清洗劑對(duì)7050鋁合金樣品進(jìn)行浸泡清洗,浸泡清洗時(shí)間為3-10min;b.對(duì)浸泡清洗后的7050鋁合金樣品進(jìn)行超聲清洗,超聲清洗時(shí)間為1-5min,確保7050鋁合金樣品表面無(wú)殘留雜質(zhì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種7050鋁合金表面形成納米晶的檢測(cè)方法,其特征在于,所述透射電鏡及電子衍射實(shí)驗(yàn)包括以下步驟:先對(duì)X射線(xiàn)衍射后的若干塊樣品分別拍攝透射電鏡圖,對(duì)局部晶粒尺寸的檢測(cè);后對(duì)拍攝電鏡圖后的若干塊樣品分別進(jìn)行電子衍射,當(dāng)其電子衍射圖中花樣呈現(xiàn)同心圓環(huán)的形狀時(shí),表明晶粒取向隨機(jī),納米晶分布均勻,即所觀(guān)察的區(qū)域存在分布均勻的納米晶粒。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種7050鋁合金表面形成納米晶的檢測(cè)方法,其特征在于,所述步驟S7的排除非特定衍射晶面的半高寬數(shù)據(jù)的過(guò)程,具體包括以下步驟:
對(duì)所得一組X射線(xiàn)衍射曲線(xiàn)中同一非特定衍射晶面的衍射峰進(jìn)行半高寬計(jì)算和分析,得出一組同一非特定衍射晶面X射線(xiàn)衍射的半高寬數(shù)值;
針對(duì)極端塑性應(yīng)變的不同工藝參數(shù)所對(duì)應(yīng)的X射線(xiàn)衍射曲線(xiàn)的半高寬數(shù)值,建立二維坐標(biāo)系并在二維坐標(biāo)系中繪制同一非特定衍射晶面半高寬隨功率密度變化曲線(xiàn)圖;
觀(guān)察發(fā)現(xiàn)同一非特定衍射晶面半高寬隨功率密度變化曲線(xiàn)圖中前段半高寬并未隨著工藝參數(shù)的增大呈現(xiàn)增大的趨勢(shì);
電鏡及電子衍射實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)7050鋁合金在受到極端塑性應(yīng)變時(shí),在7050鋁合金樣品表面會(huì)獲得大量的析出相,可以發(fā)現(xiàn)析出相隨著工藝參數(shù)的增大呈現(xiàn)增多的趨勢(shì);
反映出析出相對(duì)7050鋁合金材料的X射線(xiàn)衍射曲線(xiàn)存在影響,非特定衍射晶面的半高寬數(shù)據(jù)無(wú)法得到準(zhǔn)確的規(guī)律。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料,例如X射線(xiàn)、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線(xiàn)輻照樣品以及測(cè)量X射線(xiàn)熒光





