[發(fā)明專利]一種中空結(jié)構(gòu)的硼酸基氧化錫印跡復(fù)合納米微球、其制備方法及其應(yīng)用

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710455041.3
• 申請(qǐng)日: 2017-06-16
• 公開（公告）號(hào): CN107096514B
• 公開（公告）日: 2019-09-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 彭銀仙;賈強(qiáng);黃曉斌;王曉靜;夏大廈;周夏芝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇科技大學(xué)
• 主分類號(hào): B01J20/26
• 分類號(hào): B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30;B01D15/08;C08F220/20;C08F220/06;C08F230/06
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200
• 代理人: 樓高潮

本發(fā)明提供了一種中空結(jié)構(gòu)的硼酸基氧化錫印跡復(fù)合納米微球、其制備方法及其應(yīng)用。是以乙烯基改性的中空氧化錫微球?yàn)榛|(zhì)材料，目標(biāo)印跡分子木犀草素(LTL)為模板，以甲基丙烯酸(MAA)和4?乙烯基苯硼酸(4?VBA)為功能單體，在交聯(lián)劑、引發(fā)劑作用下進(jìn)行印跡聚合，得到中空氧化錫內(nèi)外表面印跡的分子印跡聚合物。中空硼酸基氧化錫納米復(fù)合材料直徑100?300nm，壁厚5?20nm，復(fù)合微球內(nèi)外表面具有豐富的硼酸基團(tuán)，增加了吸附材料的比表面積，提高了吸附提取效率，且該吸附材料粒徑均勻，分散良好。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明提供了一種硼酸基氧化錫復(fù)合納米微球的制備方法和應(yīng)用，屬于藥物制劑領(lǐng)域。

背景技術(shù)

近年來，具有特殊結(jié)構(gòu)的微球材料，特別是一類內(nèi)部具有空腔，殼壁上具有豐富孔洞或孔道結(jié)構(gòu)的多孔/中空微球材料引起了人們的極大關(guān)注。與實(shí)心微球材料相比，中空微球具有密度低、比表面高、折射率低、熱膨脹系數(shù)低等優(yōu)點(diǎn)，使其具有了特殊的聲學(xué)、光學(xué)、電學(xué)等性質(zhì)；并且內(nèi)部空腔結(jié)構(gòu)使其具有可容納較大量客體分子的性能，而殼壁上的孔道為其與外部環(huán)境進(jìn)行物質(zhì)傳輸提供了通道。因此多孔中空微球材料在分離、催化、涂料、電子、生物醫(yī)藥等諸多領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景。

木犀草素(LTL)作為黃酮類的一種重要的天然有機(jī)化合物，具有多種藥理活性，如強(qiáng)抗氧化性、抗病毒、抗腫瘤、抗炎等，還可以增強(qiáng)免疫力。目前，用于木犀草素提取分離的方法主要有水提取法、乙醇-水溶劑提取法、堿性稀醇提取法、超聲波法和超臨界流體萃取法。這些方法雖然各有獨(dú)特優(yōu)點(diǎn)，但也各有其局限性，其中共性的缺陷是方法選擇性吸附分離效果差、得到的產(chǎn)品純度不高。因此，建立和完善選擇性識(shí)別與分離純化花生殼提取液中木犀草素的新方法、增加產(chǎn)品得率的同時(shí)獲得較高純度吸引了很大的關(guān)注。

分子印跡是制備具有預(yù)定識(shí)別功能結(jié)合位點(diǎn)三維交聯(lián)高分子的技術(shù)，制備的分子印跡聚合物(Moleculr Imprinted Polymer，MIP)具備高選擇性能和親和性能、穩(wěn)定性能佳、使用壽命較長、能耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿等優(yōu)點(diǎn)，是一種應(yīng)用廣泛的新型高分子分離材料。

發(fā)明內(nèi)容：

為了解決現(xiàn)有殼核結(jié)構(gòu)納米復(fù)合微球比表面積小，吸附位點(diǎn)少的問題，本發(fā)明提供了一種中空結(jié)構(gòu)的硼酸基氧化錫印跡復(fù)合納米微球，利用中空氧化錫微球具有比表面積大、低密度、高硬度、耐高溫不易變形等優(yōu)良特性，先用功能單體甲基丙烯酸(MAA)和4-乙烯基苯硼酸(4-VBA)，及目標(biāo)分子木犀草素在改性后的中空氧化錫微球內(nèi)外表面進(jìn)行分子印跡聚合，由于采用了中空結(jié)構(gòu)、雙單體識(shí)別印跡工藝，合成的中空氧化錫分子印跡聚合物微球，在吸附、分離木犀草素方面具有良好的效果，且重復(fù)性好。

本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種尺寸可控的中空復(fù)合氧化錫微球的制備方法，在合成中空氧化錫基質(zhì)材料時(shí)，通過調(diào)控二氧化硅的合成方法，制備出顆粒均勻的二氧化硅模板，在此基礎(chǔ)上制備出均勻中空氧化錫基質(zhì)材料。然后以目標(biāo)印跡分子為模板，選用能與其產(chǎn)生相互作用的兩個(gè)功能單體，在目標(biāo)印跡分子周圍與交聯(lián)劑進(jìn)行聚合反應(yīng)，形成特定的立體交聯(lián)的聚合物網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)。洗去目標(biāo)印跡分子后，在聚合物網(wǎng)絡(luò)中會(huì)形成在形態(tài)和化學(xué)功能團(tuán)具有特殊識(shí)別功能的吸附位點(diǎn)。

具體而言是，通過原子轉(zhuǎn)移自由基聚合(ATRP)以乙烯基改性的中空氧化錫微球?yàn)榛|(zhì)，木犀草素(LTL)為模板分子，甲基丙烯酸(MAA)和4-乙烯基苯硼酸(4-VBA)為功能單體，乙二醇二甲基丙烯酸(EGDMA)為交聯(lián)劑，溴化銅(CuBr)，五甲基二乙烯三胺(PMDETA)和溴代異丁酸乙醋(EBiB)作為引發(fā)劑進(jìn)行印跡得到中空氧化錫內(nèi)外表面印跡的分子印跡聚合物(MIPs)，制備出對(duì)木犀草素(LTL)有高效選擇性吸附的中空印跡材料，該工藝簡單，條件溫和，原料便宜易得。

再具體而言，所述中空氧化錫印跡納米微球的制備方法，包括以下步驟：