[發明專利]手性α、γ-二氨基二酸衍生物及其合成方法有效
| 申請號: | 201710452301.1 | 申請日: | 2017-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN107082777B | 公開(公告)日: | 2020-08-11 |
| 發明(設計)人: | 王銳;孫旺盛;楊君賢 | 申請(專利權)人: | 蘭州大學 |
| 主分類號: | C07D413/06 | 分類號: | C07D413/06;C07D209/48;A61K31/422;A61K31/4523;A61P9/12;A61P25/20;A61P25/08 |
| 代理公司: | 甘肅省知識產權事務中心 62100 | 代理人: | 陶濤 |
| 地址: | 730000 甘肅*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 手性 氨基 衍生物 及其 合成 方法 | ||
1.一類手性α、γ-二氨基二酸衍生物,其特征在于,其是具有如下結構的光學純化合物:
其中,*為手性碳原子,R1為苯基、2-甲基苯基、3,5-二溴苯基、2-甲氧基苯基,2-異丙氧基苯基;R2為任意選自氫或C1-C8的烷基;R3為鄰苯二甲酰基,四氫鄰苯二甲酰基,六氫鄰苯二甲酰基,丁二酰基,戊二酰基或5-降冰片烯-2,3-二羧酰基;R4任意選自烯丙基、芐基或苯基;
或
其中,*為手性碳原子,R1為苯基、2-甲基苯基、3,5-二溴苯基、2-甲氧基苯基,2-異丙氧基苯基;R2任意選自C1-C8的烷基;R3為鄰苯二甲酰基,四氫鄰苯二甲酰基,六氫鄰苯二甲酰基,丁二酰基,戊二酰基或5-降冰片烯-2,3-二羧酰基;R4任意選自烯丙基、芐基或苯基。
2.一類手性α、γ-二氨基二酸衍生物,其特征在于,其是具有如下結構的光學純化合物:
或
其中:
R1為2-甲酸異丙酯基苯基,R2為芐基,R3為鄰苯二甲酰基,R4為烯丙基,標記為S1;
R1為苯基,R2為芐基,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S2;
R1為3,5-二溴苯基,R2為芐基,R3為戊二酰基,R4為甲基,標記為S3;
R1為3,5-二溴苯基,R2為芐基,R3為5-降冰片烯-2,3-二羧酰基,R4為甲基,標記為S4;
R1為2-甲基苯基,R2為甲基,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S5;
R1為2-甲基苯基,R2為甲基乙基硫醚,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S6;
R1為2-甲基苯基,R2為H,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S7;
R1為2-甲基苯基,R2為環己基亞甲基,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S8;
R1為2-甲基苯基,R2為4-羥基苯甲基,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S9;
R1為3,5-二溴苯基,R2為芐基,R3為六氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S10;
R1為3,5-二溴苯基,R2為芐基,R3為六氫鄰苯二甲酰基,R4為乙基,標記為S11;
R1為3,5-二溴苯基,R2為芐基,R3為丁二酰基,R4為乙基,標記為S12;
R1為2-甲基苯基,R2為丙基,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S13;
R1為2-甲基苯基,R2為乙基,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S14;
R1為2-甲基苯基,R2為正己基,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S15;
R1為2-甲基苯基,R2為正丁基,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S16;
R1為2-甲基苯基,R2為芐基,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S17;
R1為2-甲基苯基,R2為異丁基,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S18;
R1為苯基,R2為異丁基,R3為四氫鄰苯二甲酰基,R4為甲基,標記為S19;
R1為苯基,R2為芐基,R3為鄰苯二甲酰基,R4為芐基,標記為S20。
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