[發明專利]陶瓷噴釉設備的釉柜在審
| 申請號: | 201710451816.X | 申請日: | 2017-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN107415034A | 公開(公告)日: | 2017-12-01 |
| 發明(設計)人: | 王葵 | 申請(專利權)人: | 廣東永航新材料實業股份有限公司 |
| 主分類號: | B28B11/04 | 分類號: | B28B11/04 |
| 代理公司: | 佛山東平知識產權事務所(普通合伙)44307 | 代理人: | 詹仲國 |
| 地址: | 528522 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陶瓷 設備 | ||
技術領域
本發明涉及陶瓷生產設備技術領域,更具體的是涉及一種噴釉設備的釉柜。
背景技術
噴釉是現代陶瓷施釉技法之一。用噴槍或噴霧器使釉漿霧化噴到坯體表面。適用于大型器皿、造型復雜或薄胎制品、陶瓷磚等生產,可多次噴釉以進行多色施釉和達到較厚釉層。目前,陶瓷噴釉設備所存在的問題是:滴釉、噴槍噴不均勻的問題。為此,有必要研發出一種能解決所述問題的陶瓷噴釉設備,使得在陶瓷噴釉過程中不會出現滴釉和噴釉不均勻問題。
發明內容
本發明的目的就是為了解決現有技術之不足而提供的一種結構簡單,使用方便,穩定性好的陶瓷噴釉設備的釉柜。
本發明是采用如下技術解決方案來實現上述目的:一種陶瓷噴釉設備的釉柜,其特征在于,它包括噴釉柜體和設置在噴釉柜體內的多支噴槍,噴釉柜體的上部設置有防氣體對流蓋,防氣體對流蓋上設置有若干個排氣孔,可以防止噴釉時產生的氣流在噴釉柜體內空間對流,使氣流沿著排氣孔排走,避免了釉水聚集在噴槍桿上造成滴釉現象。
作為上述方案的進一步說明,所述噴槍的數量為10-12支,分兩排或多排設置,極大的改善了噴釉的效果。
進一步地,所述噴釉柜體的兩端分別設置有進、出料口和穿過進、出料口的輸送裝置,通過輸送裝置將陶瓷產品送入噴釉柜體進行噴釉處理,噴槍設置在輸送裝置的上方。
進一步地,排氣孔設置在防氣體對流蓋的邊角位置。
進一步地,所述防氣體對流蓋的數量為兩個,包括左防氣體對流蓋和右防氣體對流蓋,左防氣體對流蓋和右防氣體對流蓋分別與噴釉柜體的上部鉸接,構成可翻轉打開或關閉的頂蓋結構。
進一步地,所述噴釉柜體的下側設置有往外彎折延伸的定位翻邊,定位翻邊上設置有緊固件固定于地面或相應的底座上。
本發明采用上述技術解決方案所能達到的有益效果是:
本發明采用在噴釉柜體的上部設置防氣體對流蓋,防氣體對流蓋上設置多個排氣孔,可以防止噴釉時產生的氣流在噴釉柜體內空間對流,使氣流沿著排氣孔排走,避免了釉水聚集在噴槍桿上造成滴釉現象;并且在噴釉柜體內部設置10-12支噴槍,分兩排或多排設置,極大的改善了噴釉的效果。
附圖說明
圖1為本發明的結構示意圖。
附圖標記說明:1、噴釉柜體 1-1、定位翻邊 1-2、緊固件 2、噴槍 3、防氣體對流蓋 3-1、左防氣體對流蓋 3-2、右防氣體對流蓋 4、排氣孔 5、進料口 6、輸送裝置。
具體實施方式
以下結合具體實施例對本技術方案作詳細的描述。
如圖1所示,本發明是一種陶瓷噴釉設備的釉柜,它包括噴釉柜體1和設置在噴釉柜體內的多支噴槍2,噴釉柜體的上部設置有防氣體對流蓋3,防氣體對流蓋上設置有若干個排氣孔4,可以防止噴釉時產生的氣流在噴釉柜體內空間對流,使氣流沿著排氣孔排走,避免了釉水聚集在噴槍桿上造成滴釉現象。噴槍的數量為10-12支,分兩排或多排設置,極大的改善了噴釉的效果。
進一步地,所述噴釉柜體的兩端分別設置有進料口5、出料口和穿過進、出料口的輸送裝置6,通過輸送裝置將陶瓷產品送入噴釉柜體進行噴釉處理,噴槍設置在輸送裝置的上方。排氣孔設置在防氣體對流蓋的邊角位置。本實施例中,所述防氣體對流蓋3的數量為兩個,包括左防氣體對流蓋3-1和右防氣體對流蓋3-2,左防氣體對流蓋和右防氣體對流蓋的兩端分別設置排氣孔,左防氣體對流蓋和右防氣體對流蓋分別與噴釉柜體的上部鉸接,構成可翻轉打開或關閉的頂蓋結構。噴釉柜體的下側設置有往外彎折延伸的定位翻邊1-1,定位翻邊上設置有緊固件1-2固定于地面或相應的底座上。
本發明與現有技術相比,采用在噴釉柜體的上部設置防氣體對流蓋,防氣體對流蓋上設置多個排氣孔,可以防止噴釉時產生的氣流在噴釉柜體內空間對流,使氣流沿著排氣孔排走,避免了釉水聚集在噴槍桿上造成滴釉現象;并且在噴釉柜體內部設置10-12支噴槍,分兩排或多排設置,極大的改善了噴釉的效果。
以上所述的僅是本發明的優選實施方式,應當指出,對于本領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明創造構思的前提下,還可以做出若干變形和改進,這些都屬于本發明的保護范圍。
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