[發(fā)明專利]帶電粒子射束產(chǎn)生器中的高電壓屏蔽和冷卻有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710450157.8 | 申請(qǐng)日： | 2013-05-14 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107359101B | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-07-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | A.H.V.范維恩;W.H.厄爾巴努斯 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01J37/09 | 分類號(hào)： | H01J37/09;H01J37/30;H01J37/317;B82Y10/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人： | 王茂華 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國(guó)省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 帶電 粒子 產(chǎn)生器 中的 電壓 屏蔽 冷卻 | ||
1.一種帶電粒子射束產(chǎn)生器，該帶電粒子射束產(chǎn)生器包括：
帶電粒子源，用于產(chǎn)生帶電粒子射束；
準(zhǔn)直器系統(tǒng)，包括用于準(zhǔn)直所述帶電粒子射束的電極；
高電壓屏蔽配置，用于屏蔽保護(hù)該高電壓屏蔽配置外面的部件，以避免受到該高電壓屏蔽配置內(nèi)的高電壓影響；以及
至少一個(gè)真空泵，用于調(diào)節(jié)所述高電壓屏蔽配置內(nèi)的空間的壓力，
其中所述至少一個(gè)真空泵是所述高電壓屏蔽配置外面的部件；
其中所述準(zhǔn)直器系統(tǒng)包括用于像差校正和/或用于向反向散射粒子提供斥力的另一電極，其中所述準(zhǔn)直器系統(tǒng)包括在所述帶電粒子射束的上游方向上介于所述準(zhǔn)直器系統(tǒng)的所述另一電極與相鄰電極中間的區(qū)域，其中所述高電壓屏蔽配置位于該區(qū)域周圍，并且其中所述至少一個(gè)真空泵緊挨著該區(qū)域并且直接緊挨著所述高電壓屏蔽配置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生器，其中所述至少一個(gè)真空泵直接緊挨著所述高電壓屏蔽配置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生器，其中所述至少一個(gè)真空泵是吸氣泵或升華泵。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生器，其中所述準(zhǔn)直器系統(tǒng)的至少一部分位于所述高電壓屏蔽配置內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生器，其中所述電極中的至少一個(gè)位于所述高電壓屏蔽配置內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生器，其中所述準(zhǔn)直器系統(tǒng)包括包含三個(gè)電極的Einzel透鏡。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生器，其中所述準(zhǔn)直器系統(tǒng)包括在其中有凹腔的主體，并且其中所述射束產(chǎn)生器包括多個(gè)真空泵，該多個(gè)真空泵在所述帶電粒子射束在使用期間所通過(guò)的所述凹腔的周邊中被布置在所述高電壓屏蔽配置的后面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生器，其中所述高電壓屏蔽配置包括金屬絲網(wǎng)結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生器，該產(chǎn)生器還包括孔徑陣列，用于從所述帶電粒子射束形成多個(gè)子射束。
10.一種用于曝光目標(biāo)的帶電粒子光刻系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：
帶電粒子射束產(chǎn)生器，用于產(chǎn)生帶電粒子射束；
孔徑陣列，用于從所述帶電粒子射束形成多個(gè)子射束；以及
子射束投射器，用于將所述子射束投射在所述目標(biāo)的表面上，
其中，所述帶電粒子射束產(chǎn)生器包括：
帶電粒子源，用于產(chǎn)生所述帶電粒子射束；
準(zhǔn)直器系統(tǒng)，包括用于準(zhǔn)直所述帶電粒子射束的電極；
高電壓屏蔽配置，用于屏蔽保護(hù)所述高電壓屏蔽配置外面的部件，避免受到所述高電壓屏蔽配置內(nèi)的高電壓影響；以及
至少一個(gè)真空泵，用于調(diào)節(jié)所述高電壓屏蔽配置內(nèi)的空間的壓力，
其中所述至少一個(gè)真空泵是所述高電壓屏蔽配置外面的部件；
其中所述準(zhǔn)直器系統(tǒng)包括用于像差校正和/或用于向反向散射粒子提供斥力的另一電極，其中所述準(zhǔn)直器系統(tǒng)包括在所述帶電粒子射束的上游方向上介于所述準(zhǔn)直器系統(tǒng)的所述另一電極與相鄰電極中間的區(qū)域，其中所述高電壓屏蔽配置位于該區(qū)域周圍，并且其中所述至少一個(gè)真空泵緊挨著該區(qū)域并且直接緊挨著所述高電壓屏蔽配置。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)真空泵直接緊挨著所述高電壓屏蔽配置。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)真空泵是吸氣泵或升華泵。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其中所述準(zhǔn)直器系統(tǒng)的至少一部分位于所述高電壓屏蔽配置內(nèi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其中所述電極中的至少一個(gè)位于所述高電壓屏蔽配置內(nèi)。
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