[發明專利]掩模框架組件及其制造方法

有效

• 申請號: 201710449767.6
• 申請日: 2017-06-14
• 公開（公告）號: CN107523786B
• 公開（公告）日: 2021-08-03
• 發明（設計）人: 金相勳
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;H01L51/56
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 王達佐;劉錚

1.一種掩模框架組件，包括：

框架；

掩模，聯接至所述框架并且包括用于沉積的圖案區域；以及

分區桿體，聯接至所述框架并且被配置為將所述掩模的所述圖案區域劃分為單位單元圖案，

其中所述分區桿體包括：

一對相對的固定端部，固定至所述框架的側邊；以及

窄寬度部分，連接一對所述固定端部并且包括分別從所述固定端部的在寬度方向上的兩個邊緣向內凹進的第一分區部分和第二分區部分，

其中：

所述第一分區部分非線性地連接一對所述固定端部；以及

所述第二分區部分線性地連接一對所述固定端部。

2.如權利要求1所述的掩模框架組件，其中：

所述第一分區部分限定所述單位單元圖案的第一邊界線；以及

所述第二分區部分限定所述單位單元圖案的與所述第一邊界線相對的第二邊界線。

3.如權利要求1所述的掩模框架組件，其中，所述第一分區部分包括彼此交替地設置的凹形部分和突出部分。

4.如權利要求3所述的掩模框架組件，其中，在所述凹形部分與所述突出部分之間相對于所述寬度方向形成有傾斜部。

5.如權利要求1所述的掩模框架組件，其中，所述第二分區部分包括：

一對階梯部分，從一對所述固定端部平行于所述寬度方向且向內地凹進；以及

線性部分，線性地連接所述一對階梯部分。

6.如權利要求1所述的掩模框架組件，其中，所述掩模以直角與所述分區桿體交叉。

7.一種制造掩模框架組件的方法，所述方法包括：

形成框架；

形成包括用于沉積的圖案區域的掩模；以及

形成分區桿體，所述分區桿體包括：

一對固定端部，每個所述固定端部設置在所述分區桿體的端部上；以及

窄寬度部分，連接一對所述固定端部并且包括分別從所述固定端部的在寬度方向上的兩個邊緣向內凹進的第一分區部分和第二分區部分；

將所述分區桿體的一對所述固定端部固定至所述框架；以及

將所述掩模固定至所述框架，使得所述圖案區域通過所述分區桿體的所述第一分區部分和所述第二分區部分被劃分為單位單元圖案；

其中：

所述第一分區部分非線性地連接一對所述固定端部；以及

所述第二分區部分線性地連接一對所述固定端部。

8.如權利要求7所述的方法，其中：

所述第一分區部分限定所述單位單元圖案的第一邊界線；以及

所述第二分區部分限定所述單位單元圖案的與所述第一邊界線相對的第二邊界線。

9.如權利要求7所述的方法，其中，所述第一分區部分包括彼此交替地設置的凹形部分和突出部分。

10.如權利要求9所述的方法，其中，在所述凹形部分與所述突出部分之間相對于所述寬度方向形成有傾斜部。

11.如權利要求8所述的方法，其中，所述第二分區部分包括：

一對階梯部分，從一對所述固定端部平行于所述寬度方向且向內地凹進；以及

線性部分，線性地連接所述一對階梯部分。

12.如權利要求7所述的方法，其中，所述掩模以直角與所述分區桿體交叉。

13.一種掩模框架組件，包括：

框架；

多個掩模，所述多個掩模中的每個包括圖案區域；以及

分區桿體，與所述掩模交叉并包括：

固定端部，固定至所述框架并具有第一寬度；以及

窄寬度部分，連接所述固定端部并具有比所述第一寬度小的第二寬度，

其中，所述窄寬度部分包括上非線性側部和下線性側部。