[發明專利]一種基于BRDF函數線性過濾的圖像渲染方法有效
| 申請號: | 201710448261.3 | 申請日: | 2017-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN107292946B | 公開(公告)日: | 2020-07-10 |
| 發明(設計)人: | 王銳;鮑虎軍;趙爽;徐超 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | G06T15/50 | 分類號: | G06T15/50 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人: | 忻明年 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 brdf 函數 線性 過濾 圖像 渲染 方法 | ||
本發明公開了一種基于BRDF函數線性過濾的圖像渲染方法,包括:創建BRDF圖;針對BRDF圖創建紋理緩存,將每個物體的幾何三角形光柵化到所述紋理緩存中;針對紋理緩存中的每個紋理像素,計算對應的vMF分布函數參數以及‖r‖;依據場景中法線的分布進行區域分割,分割后的紋理像素中存儲該區域對應的vMF分布函數參數,將分割后產生的BRDF圖拼接得到MIP?Map過的BRDF圖;針對待渲染圖像中的每個像素,計算該像素覆蓋的區域大小,并據此獲得該像素對應的MIP?Map層級,然后從對應的MIP?Map過的BRDF圖中讀取對應的位置信息,并進行渲染。本發明把濾波應用于實時渲染中,能夠提高繪制質量,加速計算過程。
技術領域
本發明涉及圖像渲染技術領域,具體涉及一種基于BRDF函數線性過 濾的圖像渲染方法。
背景技術
在實時渲染的時候,正確表現出物體的細節非常重要,為了減少計算 量,同時保證物體的渲染效果,通常采用法線貼圖以及BRDF函數圖。
法線貼圖(Normal Map)是一種使用較為廣泛的繪制技術,通過利用 法線貼圖存儲以及表達物體表面的細微幾何變化,可以在大幅降低場景幾 何復雜度,減少渲染時計算量的同時,更好地保留并表現物體表面的細節, 因此被廣泛應用于各領域。BRDF函數圖(BRDF Map)也是一種使用廣 泛的繪制技術,通過把BRDF函數參數信息存儲在紋理中從而實現復雜的 幾何表面材質變化。
法線貼圖以及BRDF函數圖的出現使計算機渲染復雜場景的能力得到 了很大的提高,但是由于在著色時候的非線性性質,計算出準確的法線貼 圖信息和BRDF函數參數信息也是一個比較困難的問題。因此,要想表現 出同一個物體在不同尺寸時的表面細節,就需要有一個好的法線貼圖和 BRDF函數圖的濾波方法。
傳統的濾波方法有直接采樣、Mip-Map的法線貼圖濾波方法,但是這 些方法都會造成法線貼圖信息以及BRDF函數參數信息的丟失,從而使渲 染程序不能準確地表達出物體的細節。
為了解決這個問題,離線繪制方法經常使用非常重度的超級采樣來緩 解這個問題,但是卻帶來了巨大的計算消耗。
發明內容
本發明提供了一種基于BRDF函數線性過濾的圖像渲染方法,把濾波 應用于實時渲染中,與現有的濾波方法相比,能夠提高繪制質量,與超級 采樣的方法相比,大大加速了計算過程,能夠實時完成MIP-Map的構建。
一種基于BRDF函數線性過濾的圖像渲染方法,包括:
步驟1,創建BRDF圖,該BRDF圖包括場景的BRDF參數以及法線信 息;
步驟2,針對BRDF圖創建紋理緩存,將每個物體的幾何三角形通過各 自的紋理坐標光柵化到所述紋理緩存中;
步驟3,針對紋理緩存中的每個紋理像素,依據下式計算對應的vMF 分布函數:
式中,γ(s)為vMF分布函數;
κ為材質對應的材質系數,當材質的高光系數1時,κ和高光系數等 效;
μ為該vMF分布函數的主軸方向;
s為任意需要計算的方向。
同時,解如下三次方程,得到‖r‖:
‖r‖3-κ‖r‖2-3‖r‖+κ=0;
步驟4,依據場景中法線的分布進行區域分割,分割后的紋理像素中 存儲該區域對應的vMF分布函數,將分割后產生的BRDF圖拼接得到 MIP-Map過的BRDF圖(即多級紋理映射過的BRDF圖);
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江大學,未經浙江大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710448261.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種屏幕圖像的錄制方法及錄制系統
- 下一篇:一種人體建模方法、裝置及電子設備





