[發(fā)明專利]一種基于BRDF函數(shù)線性過(guò)濾的圖像渲染方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710448261.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-06-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107292946B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-07-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王銳;鮑虎軍;趙爽;徐超 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06T15/50 | 分類號(hào): | G06T15/50 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200 | 代理人: | 忻明年 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 brdf 函數(shù) 線性 過(guò)濾 圖像 渲染 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于BRDF函數(shù)線性過(guò)濾的圖像渲染方法,包括:創(chuàng)建BRDF圖;針對(duì)BRDF圖創(chuàng)建紋理緩存,將每個(gè)物體的幾何三角形光柵化到所述紋理緩存中;針對(duì)紋理緩存中的每個(gè)紋理像素,計(jì)算對(duì)應(yīng)的vMF分布函數(shù)參數(shù)以及‖r‖;依據(jù)場(chǎng)景中法線的分布進(jìn)行區(qū)域分割,分割后的紋理像素中存儲(chǔ)該區(qū)域?qū)?yīng)的vMF分布函數(shù)參數(shù),將分割后產(chǎn)生的BRDF圖拼接得到MIP?Map過(guò)的BRDF圖;針對(duì)待渲染圖像中的每個(gè)像素,計(jì)算該像素覆蓋的區(qū)域大小,并據(jù)此獲得該像素對(duì)應(yīng)的MIP?Map層級(jí),然后從對(duì)應(yīng)的MIP?Map過(guò)的BRDF圖中讀取對(duì)應(yīng)的位置信息,并進(jìn)行渲染。本發(fā)明把濾波應(yīng)用于實(shí)時(shí)渲染中,能夠提高繪制質(zhì)量,加速計(jì)算過(guò)程。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及圖像渲染技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于BRDF函數(shù)線性過(guò) 濾的圖像渲染方法。
背景技術(shù)
在實(shí)時(shí)渲染的時(shí)候,正確表現(xiàn)出物體的細(xì)節(jié)非常重要,為了減少計(jì)算 量,同時(shí)保證物體的渲染效果,通常采用法線貼圖以及BRDF函數(shù)圖。
法線貼圖(Normal Map)是一種使用較為廣泛的繪制技術(shù),通過(guò)利用 法線貼圖存儲(chǔ)以及表達(dá)物體表面的細(xì)微幾何變化,可以在大幅降低場(chǎng)景幾 何復(fù)雜度,減少渲染時(shí)計(jì)算量的同時(shí),更好地保留并表現(xiàn)物體表面的細(xì)節(jié), 因此被廣泛應(yīng)用于各領(lǐng)域。BRDF函數(shù)圖(BRDF Map)也是一種使用廣 泛的繪制技術(shù),通過(guò)把BRDF函數(shù)參數(shù)信息存儲(chǔ)在紋理中從而實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的 幾何表面材質(zhì)變化。
法線貼圖以及BRDF函數(shù)圖的出現(xiàn)使計(jì)算機(jī)渲染復(fù)雜場(chǎng)景的能力得到 了很大的提高,但是由于在著色時(shí)候的非線性性質(zhì),計(jì)算出準(zhǔn)確的法線貼 圖信息和BRDF函數(shù)參數(shù)信息也是一個(gè)比較困難的問(wèn)題。因此,要想表現(xiàn) 出同一個(gè)物體在不同尺寸時(shí)的表面細(xì)節(jié),就需要有一個(gè)好的法線貼圖和 BRDF函數(shù)圖的濾波方法。
傳統(tǒng)的濾波方法有直接采樣、Mip-Map的法線貼圖濾波方法,但是這 些方法都會(huì)造成法線貼圖信息以及BRDF函數(shù)參數(shù)信息的丟失,從而使渲 染程序不能準(zhǔn)確地表達(dá)出物體的細(xì)節(jié)。
為了解決這個(gè)問(wèn)題,離線繪制方法經(jīng)常使用非常重度的超級(jí)采樣來(lái)緩 解這個(gè)問(wèn)題,但是卻帶來(lái)了巨大的計(jì)算消耗。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種基于BRDF函數(shù)線性過(guò)濾的圖像渲染方法,把濾波 應(yīng)用于實(shí)時(shí)渲染中,與現(xiàn)有的濾波方法相比,能夠提高繪制質(zhì)量,與超級(jí) 采樣的方法相比,大大加速了計(jì)算過(guò)程,能夠?qū)崟r(shí)完成MIP-Map的構(gòu)建。
一種基于BRDF函數(shù)線性過(guò)濾的圖像渲染方法,包括:
步驟1,創(chuàng)建BRDF圖,該BRDF圖包括場(chǎng)景的BRDF參數(shù)以及法線信 息;
步驟2,針對(duì)BRDF圖創(chuàng)建紋理緩存,將每個(gè)物體的幾何三角形通過(guò)各 自的紋理坐標(biāo)光柵化到所述紋理緩存中;
步驟3,針對(duì)紋理緩存中的每個(gè)紋理像素,依據(jù)下式計(jì)算對(duì)應(yīng)的vMF 分布函數(shù):
式中,γ(s)為vMF分布函數(shù);
κ為材質(zhì)對(duì)應(yīng)的材質(zhì)系數(shù),當(dāng)材質(zhì)的高光系數(shù)1時(shí),κ和高光系數(shù)等 效;
μ為該vMF分布函數(shù)的主軸方向;
s為任意需要計(jì)算的方向。
同時(shí),解如下三次方程,得到‖r‖:
‖r‖3-κ‖r‖2-3‖r‖+κ=0;
步驟4,依據(jù)場(chǎng)景中法線的分布進(jìn)行區(qū)域分割,分割后的紋理像素中 存儲(chǔ)該區(qū)域?qū)?yīng)的vMF分布函數(shù),將分割后產(chǎn)生的BRDF圖拼接得到 MIP-Map過(guò)的BRDF圖(即多級(jí)紋理映射過(guò)的BRDF圖);
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于浙江大學(xué),未經(jīng)浙江大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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