[發明專利]采用相位差技術的創口處理裝置在審
| 申請號: | 201710448130.5 | 申請日: | 2017-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN107296993A | 公開(公告)日: | 2017-10-27 |
| 發明(設計)人: | 俞丹 | 申請(專利權)人: | 成都潤泰智通科技有限公司 |
| 主分類號: | A61M3/02 | 分類號: | A61M3/02;A61N7/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 采用 相位差 技術 創口 處理 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及醫療器械,具體涉及采用相位差技術的創口處理裝置。
背景技術
超聲清洗是利用超聲波在液體中產生的空化效應以及高速振動和剪切效應來清洗創口,這種“無刷清洗”的主要特點是速度快、效果好、容易實現對凹凸型等復雜結構創口進行深層清洗,對縫隙處的細菌有高效清洗的效果,從而降低傷口處的細菌數目和種類,降低感染率,減少并發癥,在醫用清創領域有廣泛的應用前景。
然而現有的超聲波清創儀對于超聲波頻率控制不便,從而導致了清創效果降低。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是現有的超聲波清創儀對于超聲波頻率控制不便,從而導致了清創效果降低,目的在于提供采用相位差技術的創口處理裝置,解決上述問題。
本發明通過下述技術方案實現:
采用相位差技術的創口處理裝置,包括:用于提供交流電的AC模塊;用于開關整個系統的驅動模塊;用于將電能轉換為超聲波的超聲波換能器;用于為超聲波換能器提供特定功率的匹配模塊;用于對超聲波換能器上的電流進行采樣的采樣模塊;用于對采樣后的電流進行放大濾波的放大濾波模塊;用于將放大濾波后的電流進行相位差處理的相位差處理模塊;用于對相位差處理后的電流進行分析的DSP模塊;用于根據DSP模塊分析后的結果產生激勵波形的DDS模塊。
現有技術中,超聲波清創儀對于超聲波頻率控制不便,從而導致了清創效果降低。本發明應用時,AC模塊提供交流電;驅動模塊開關整個系統;超聲波換能器將電能轉換為超聲波;匹配模塊為超聲波換能器提供特定功率;采樣模塊對超聲波換能器上的電流進行采樣;放大濾波模塊對采樣后的電流進行放大濾波;相位差處理模塊將放大濾波后的電流進行相位差處理;DSP模塊對相位差處理后的電流進行分析;DDS模塊根據DSP模塊分析后的結果產生激勵波形。由于AC模塊提供的交流電頻率往往無法直接適用于超聲波換能器,所以采樣模塊對換能器上的電流采樣,并經相位差處理后傳送到DSP模塊,DSP模塊對采用后的電流分析并調整波形參數,再交由DDS模塊產生激勵波形,從而對輸入到換能器上的波形進行循環處理,直至滿足換能器要求,從而實現了對超聲波頻率方便的控制,提高了清創效果。
進一步的,所述相位差模塊的相位差處理包括提取采樣電路的相位差方向和相位差數值。
進一步的,所述DSP模塊對相位差處理后的電流進行分析包括針對超聲波換能器對電流調整幅值和頻率。
進一步的,所述DDS模塊產生的激勵波形采用正弦波。
進一步的,所述DDS模塊采用AD9833。
本發明與現有技術相比,具有如下的優點和有益效果:
本發明采用相位差技術的創口處理裝置,對輸入到換能器上的波形進行循環處理,直至滿足換能器要求,從而實現了對超聲波頻率方便的控制,提高了清創效果。
附圖說明
此處所說明的附圖用來提供對本發明實施例的進一步理解,構成本申請的一部分,并不構成對本發明實施例的限定。在附圖中:
圖1為本發明系統結構示意圖。
具體實施方式
為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚明白,下面結合實施例和附圖,對本發明作進一步的詳細說明,本發明的示意性實施方式及其說明僅用于解釋本發明,并不作為對本發明的限定。
實施例
如圖1所示,本發明采用相位差技術的創口處理裝置,包括:用于提供交流電的AC模塊;用于開關整個系統的驅動模塊;用于將電能轉換為超聲波的超聲波換能器;用于為超聲波換能器提供特定功率的匹配模塊;用于對超聲波換能器上的電流進行采樣的采樣模塊;用于對采樣后的電流進行放大濾波的放大濾波模塊;用于將放大濾波后的電流進行相位差處理的相位差處理模塊;用于對相位差處理后的電流進行分析的DSP模塊;用于根據DSP模塊分析后的結果產生激勵波形的DDS模塊。所述相位差模塊的相位差處理包括提取采樣電路的相位差方向和相位差數值。所述DSP模塊對相位差處理后的電流進行分析包括針對超聲波換能器對電流調整幅值和頻率。所述DDS模塊產生的激勵波形采用正弦波。所述DDS模塊采用AD9833。
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