[發明專利]拋光方法在審
| 申請號： | 201710439550.7 | 申請日： | 2017-06-12 |
| 公開（公告）號： | CN107309710A | 公開（公告）日： | 2017-11-03 |
| 發明（設計）人： | 趙慧佳;路新春;沈攀 | 申請（專利權）人： | 天津華海清科機電科技有限公司;清華大學 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙)11201 | 代理人： | 黃德海 |
| 地址： | 300350 天津市津*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 拋光 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種拋光方法，其特征在于，所述拋光方法包括：
將兩片待拋光物的待拋光面對向放置并在兩個待拋光面之間放入拋光液，使兩個待拋光物相對移動進行拋光。
2.根據權利要求1所述的拋光方法，其特征在于，拋光過程中兩個所述待拋光物分別自轉和相對平移。
3.根據權利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光物每分鐘進行10到20次相對平移。
4.根據權利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光面均為圓形，且一個所述待拋光物最大平移距離不小于所述待拋光面直徑的兩倍。
5.根據權利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光物相對平移過程中添加所述拋光液。
6.根據權利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光物的自轉速度不同和/或自轉方向相反。
7.根據權利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光物的自轉速度均為50rpm～160rpm且自轉方向相反。
8.根據權利要求2所述的拋光方法，其特征在于，兩個所述待拋光物相對平移的同時各自自轉。
9.根據權利要求1-8中任一項所述的拋光方法，其特征在于，所述拋光液的磨料包括金剛石、碳化硅、碳化硼、氧化鋁以及氧化硅中的至少一種。
10.根據權利要求1-8中任一項所述的拋光方法，其特征在于，所述拋光液中磨料的比例為5％～20％。
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