[發明專利]高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備及利用其實現基材蒸鍍鋰的方法有效
| 申請號: | 201710438908.4 | 申請日: | 2017-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN107177820B | 公開(公告)日: | 2019-05-24 |
| 發明(設計)人: | 宋殿權;張春濤;管云飛 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱光宇電源股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/14;C23C14/56 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人: | 侯靜 |
| 地址: | 150078 黑龍江省哈爾*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高速 連續 卷繞 真空 蒸鍍鋰 設備 利用 實現 基材 方法 | ||
1.高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備,其特征在于高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備包括機體外殼(1)、腔體擋板(2)、放卷系統(3)、基材加熱器(4)、主輥(5)、冷卻輥(6)、收卷系統(7)、坩堝(8)、坩堝固定架(9)、坩堝加熱器(10)、保溫層(11)、坩堝橫移升降平臺(12)、放卷過渡輥(13)、加熱過渡輥(14)、冷卻過渡輥(15)、上腔真空閥門(16)、下腔真空閥門(17)和加料可視窗口(18);
由腔體擋板(2)和機體外殼(1)將高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備分隔成上腔體和下腔體,所述放卷系統(3)、基材加熱器(4)、冷卻輥(6)和收卷系統(7)設置在高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備的上腔體中,所述放卷過渡輥(13)設置在放卷系統(3)和基材加熱器(4)之間,所述加熱過渡輥(14)設置在主輥(5)和基材加熱器(4)之間,所述冷卻過渡輥(15)設置在主輥(5)和冷卻輥(6)之間;所述坩堝(8)、坩堝固定架(9)、坩堝加熱器(10)、保溫層(11)和坩堝橫移升降平臺(12)設置在高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備的下腔體中,所述坩堝固定架(9)與機體外殼(1)內壁固定連接,所述保溫層(11)設置在坩堝橫移升降平臺(12)上,利用保溫層(11)包覆坩堝加熱器(10)用于保溫,所述坩堝(8)承載在坩堝固定架(9)上,當蒸鍍鋰時,所述坩堝(8)置于坩堝加熱器(10)內,且所述坩堝(8)的頂部與主輥(5)呈曲面平行,坩堝(8)擺放與主輥方向一致,調整坩堝橫移升降平臺(12),使坩堝(8)與主輥(5)表面基材的距離為5mm~20mm;在上腔體側壁上設置上腔真空閥門(16),在下腔體側壁上部設置下腔真空閥門(17),在下腔體側壁頂部設置加料可視窗口(18);所述主輥(5)穿過腔體擋板(2),一部分處于上腔體中,另一部分處于下腔體中,且主輥(5)與腔體擋板(2)的距離為5mm~10mm;
所述高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備還包括鍍層檢測系統,利用鍍層檢測系統檢測冷卻輥(6)與冷卻過渡輥(15)之間基材表面鍍層厚度;
所述高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備還包括抽真空系統,利用抽真空系統對高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備的上腔體和下腔體進行抽真空處理;
所述高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備還包括PLC控制系統,利用PLC控制系統控制高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備運作;
所述高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備還包括坩堝冷卻系統,所述坩堝冷卻系統包含冷卻油、坩堝可控硅和坩堝冷卻機,所述坩堝固定架(9)的側壁為中空結構,冷卻油裝載在坩堝固定架(9)側壁的中空結構內,利用冷卻油對坩堝(8)進行油冷,利用坩堝可控硅和坩堝冷卻機對冷卻油進行循環冷卻。
2.根據權利要求1所述的高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備,其特征在于所述放卷系統(3)包含放卷輥、糾偏系統、過渡輥系統、基材蒸鍍速度控制系統、張力控制系統和展平系統。
3.根據權利要求1所述的高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備,其特征在于所述收卷系統(7)包含收卷輥、機械脹軸、交流驅動電機、變頻控制器、SKF軸承、磁流體密封和上料絞架。
4.根據權利要求1所述的高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備,其特征在于所述主輥(5)上設置溫度變送器和主輥可控硅。
5.根據權利要求1所述的高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備,其特征在于所述冷卻輥(6)連接可控硅和冷卻機。
6.根據權利要求1所述的高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備,其特征在于所述機體外殼(1)的材質為不銹鋼,厚度50mm。
7.根據權利要求1所述的高速連續卷繞式真空蒸鍍鋰設備,其特征在于所述坩堝(8)為半圓形或長方形;且所述坩堝(8)的寬度與主輥(5)的直徑比為1:(3~10)。
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