[發明專利]Y2O3坩堝的制備方法及在高活性金屬熔煉中的應用在審
| 申請號: | 201710435801.4 | 申請日: | 2017-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN107311658A | 公開(公告)日: | 2017-11-03 |
| 發明(設計)人: | 李重河;李寶同;魯雄剛;李柱;王世華;張東;何文英 | 申請(專利權)人: | 上海大學 |
| 主分類號: | C04B35/505 | 分類號: | C04B35/505;C04B35/622;C04B35/64;C22C1/02 |
| 代理公司: | 上海上大專利事務所(普通合伙)31205 | 代理人: | 顧勇華 |
| 地址: | 200444*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | y2o3 坩堝 制備 方法 活性 金屬 熔煉 中的 應用 | ||
1.一種Y2O3坩堝的制備方法,其特征在于:包括如下步驟:
a.將干燥后的Y2O3粉料在100~140Mpa下壓制為坩堝素坯;
b.利用固相燒結法,將在所述步驟a中制備的坩堝素坯在不低于1750℃下保溫2~6h,進行高溫燒結,得到Y2O3坩堝成品。
2.根據權利要求1所述Y2O3坩堝的制備方法,其特征在于:在所述步驟b中,在對坩堝素坯進行高溫燒結之前,首先將在所述步驟a中制備的坩堝素坯在800~1000℃下保溫4~6h,進行預燒結。
3.一種權利要求1所述Y2O3坩堝的制備方法制備的Y2O3坩堝在高活性金屬熔煉中的應用,其特征在于,包括如下步驟:
①利用坩堝式真空感應熔煉工藝,采用真空感應爐,選用Y2O3坩堝的制備方法制備的Y2O3坩堝,作為坩堝式真空感應熔煉工藝的熔煉容器,將高活性金屬原料置于Y2O3坩堝中,通過真空洗氣后,將真空感應爐內抽高空,然后對高活性金屬原料進行熔煉,在坩堝式真空感應熔煉工藝過程中,按照每5~10min升0.1kW的速率,緩慢增加真空感應熔煉工藝的加熱功率,以避免噴濺和架橋現象,直到高活性金屬原料開始熔融狀態,開始高活性金屬熔煉過程;
②在所述步驟①中的高活性金屬熔煉過程中,在高活性金屬開始熔融狀態時,就向Y2O3坩堝中反沖Ar氣,保持Y2O3坩堝內的高活性金屬在500~650Pa的Ar氣氛圍中進行熔煉過程;
③在所述步驟②的高活性金屬熔煉過程結束后,按照每5~10min降0.5kW的速率,對高活性金屬進行降溫處理,直到高活性金屬凝固。
4.根據權利要求3所述Y2O3坩堝在高活性金屬熔煉中的應用,其特征在于:在所述步驟①中,利用坩堝式真空感應熔煉工藝,選用Y2O3坩堝的制備方法制備的Y2O3坩堝,對鈦、鋯、鈦合金或鋯合金進行熔煉。
5.根據權利要求4所述Y2O3坩堝在高活性金屬熔煉中的應用,其特征在于:在所述步驟①中,利用坩堝式真空感應熔煉工藝,選用Y2O3坩堝的制備方法制備的Y2O3坩堝,對純鋯、海綿鋯、鋯銅合金、鋯鎳合金、鋯鐵合金、Zr-2、Zr-3或Zr-4進行熔煉。
6.根據權利要求3~5中任意一項所述Y2O3坩堝在高活性金屬熔煉中的應用,其特征在于:在所述步驟②中,當增加真空感應熔煉工藝的加熱功率,在高活性金屬原料完全融化成為高活性金屬熔體后,使感應熔煉溫度達到至少1880℃時進行精煉,控制精煉至少3min。
7.根據權利要求3~5中任意一項所述Y2O3坩堝在高活性金屬熔煉中的應用,其特征在于:在所述步驟①中,在進行真空洗氣時,至少進行三次低真空洗氣,然后再至少進行兩次高真空洗氣,完成真空洗氣過程。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海大學,未經上海大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710435801.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 基于(Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>)<sub>1-X</sub>(Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>)<sub>X</sub>固體電解質薄膜的非揮發記憶元件及其制備方法
- 一種Y2O3耐侵蝕陶瓷涂層的改進方法
- 一種水穩等離子噴涂技術制備Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>涂層的方法
- 一種制備Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>陶瓷涂層的改進方法
- 一種等離子氫處理制備黑色Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>陶瓷涂層的方法
- 一種低壓等離子噴涂技術制備Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>陶瓷涂層的方法
- 一種黑色Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>陶瓷涂層的制備方法
- 一種半導體設備中黑色Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>陶瓷涂層制造方法
- 一種紅色發射熒光粉及其制備方法
- 一種T91鋼表面復合電鍍Ni/CrAl/Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>梯度鍍層的方法





