[發(fā)明專利]阻變器件及其制作方法、顯示基板的制作方法、顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710434611.0 | 申請日： | 2017-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN107256924B | 公開（公告）日： | 2019-10-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 邢偉強(qiáng);鄧金陽;趙德友;毛振華;李默;陳勛;李松 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | H01L45/00 | 分類號： | H01L45/00 |
| 代理公司： | 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 器件 及其 制作方法 顯示 顯示裝置 | ||
1.一種阻變器件的制作方法，其特征在于，包括：
形成第一電極層；
在所述第一電極層上形成表面相互接觸的碳單質(zhì)層和過渡金屬氧化物層；
對所述表面相互接觸的碳單質(zhì)層和過渡金屬氧化物層進(jìn)行退火，以使碳單質(zhì)層至少部分地通過與所述過渡金屬氧化物層之間發(fā)生的氧化還原反應(yīng)以氣體的形式揮發(fā)，并使所述過渡金屬氧化物層由其內(nèi)部產(chǎn)生的氧空位而向阻變材料轉(zhuǎn)變，所述阻變材料中的氧空位分布通過退火過程中的工藝參數(shù)來進(jìn)行調(diào)整；
形成第二電極層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第一電極層上形成表面相互接觸的碳單質(zhì)層和過渡金屬氧化物層，包括：
在所述第一電極層上形成碳單質(zhì)層；
在所述碳單質(zhì)層上形成過渡金屬氧化物層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述在所述碳單質(zhì)層上形成過渡金屬氧化物層，包括：
通過印刷工藝將過渡金屬氧化物的溶膠打印在所述碳單質(zhì)層上，以形成過渡金屬氧化物層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述印刷工藝具體是凸版印刷工藝或者噴墨打印工藝。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第一電極層上形成表面相互接觸的碳單質(zhì)層和過渡金屬氧化物層，包括：
在所述第一電極層上形成過渡金屬氧化物層；
在所述過渡金屬氧化物層上形成碳單質(zhì)層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在對所述表面相互接觸的碳單質(zhì)層和過渡金屬氧化物層進(jìn)行退火處理時，使所述碳單質(zhì)層以氣體的形式完全揮發(fā)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述第一電極層和/或第二電極層的形成材料是金屬。
8.一種阻變器件，其特征在于，所述阻變器件采用如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的方法制作得到。
9.一種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括：按照如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的方法形成包括阻變器件的層結(jié)構(gòu)。
10.一種顯示裝置，其特征在于，包括采用如權(quán)利要求9所述的方法制作得到的顯示基板。
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