[發(fā)明專利]金納米顆粒修飾的碳納米管的應(yīng)用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710433586.4
• 申請日: 2017-06-09
• 公開（公告）號: CN109030448B
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊娟;張達奇;呂敏;李賀楠;李彥
• 申請（專利權(quán)）人: 北京大學(xué)
• 主分類號: G01N21/65
• 分類號: G01N21/65;B82Y40/00
• 代理公司: 北京康思博達知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11426
• 代理人: 談俊;劉冬梅

1.利用金納米顆粒修飾的碳納米管進行表面增強拉曼檢測的方法，其特征在于，利用所述金納米顆粒修飾的碳納米管制作表面增強拉曼檢測基底，用于拉曼檢測，所述表面增強拉曼檢測基底如下制備：

步驟1、在鏤空溝槽(1)上生長或放置碳納米管(2)，得到碳納米管載體(3)；

步驟2、在碳納米管載體(3)上進行原位反應(yīng)生成金納米顆粒，得到金納米顆粒修飾的碳納米管載體(4)，其包括位于溝槽上的懸空部分(41)；

步驟3、將金納米顆粒修飾的碳納米管載體(4)中的懸空部分(41)轉(zhuǎn)移至硅片(5)上，得到表面增強拉曼檢測基底(6)，

被測樣品為溶液，步驟3包括以下子步驟：

步驟3.1、將異丙醇滴加到硅片(5)上；

步驟3.2、將步驟2得到的金納米顆粒修飾的碳納米管載體(4)倒置于步驟3.1處理的硅片(5)上；

步驟3.3、將鏤空溝槽(1)去除，然后對硅片(5)進行干燥，得到表面增強拉曼檢測基底(6)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟3.1中，所述硅片(5)在使用前進行如下處理：先采用piranha溶液于80～150℃下處理10～30min，再依次用超純水、乙醇、超純水在超聲波清洗儀中清洗，最后用氮氣吹干。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，在步驟3.1中，所述硅片(5)在使用前進行如下處理：先采用piranha溶液于100～130℃下處理15～25min，再依次用超純水、乙醇、超純水在超聲波清洗儀中清洗，最后用氮氣吹干。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，在步驟3.1中，所述硅片(5)在使用前進行如下處理：先采用piranha溶液于120℃下處理20min，再依次用超純水、乙醇、超純水在超聲波清洗儀中清洗，最后用氮氣吹干。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟3.1中，所述硅片含有100～400nm厚的二氧化硅層；和/或

異丙醇的用量為0.5～5μL。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，在步驟3.1中，所述硅片任選地含有300nm厚的二氧化硅層；和/或

異丙醇的用量為2μL。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的方法，其特征在于，在步驟3.2中，將金納米顆粒修飾的碳納米管載體(4)中的鏤空溝槽(1)倒置于硅片(5)上，即，將懸空部分(41)貼于硅片(5)的表面。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，在步驟3.2中，在硅片(5)上倒置0.5～5min。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，在步驟3.2中，在硅片(5)上倒置1～3min。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，在步驟3.2中，在硅片(5)上倒置2min。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟3.3中，所述干燥于80～150℃下進行0.5～5min。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，在步驟3.3中，所述干燥于100～130℃下進行1～3min。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，在步驟3.3中，所述干燥于120℃下進行2min。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，被檢測樣品為溶液，采用步驟3得到的表面增強拉曼檢測基底進行檢測，如下進行：

(a)配制待檢測溶液；

(b)將所述表面增強拉曼檢測基底(6)浸入上述(a)配制的溶液中5～20h；

(c)取出所述表面增強拉曼檢測基底(6)，采用保護性氣體吹干表面；

(d)進行拉曼檢測。