[發(fā)明專利]掩膜組件、真空鍍膜裝置及其使用方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710432844.7
• 申請(qǐng)日: 2017-06-09
• 公開（公告）號(hào): CN107245693B
• 公開（公告）日: 2019-05-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田忠朋;陳一民;肖磊;武捷;高雪偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/22;C23C14/35
• 代理公司: 北京三高永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138
• 代理人: 滕一斌

本申請(qǐng)公開了一種掩膜組件、真空鍍膜裝置及其使用方法，屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。所述掩膜組件包括：掩膜本體和遮擋部，掩膜本體具有鏤空區(qū)域，遮擋部設(shè)置在掩膜本體上，且位于鏤空區(qū)域的邊緣，遮擋部能夠與掩膜本體發(fā)生相對(duì)位移，以改變鏤空區(qū)域的實(shí)際鏤空面積，實(shí)際鏤空面積等于鏤空區(qū)域的原始面積減去遮擋部遮擋鏤空區(qū)域的面積。本申請(qǐng)解決了疊加在一起的多個(gè)膜層中會(huì)存在部分膜層出現(xiàn)邊緣斷裂和脫落的情況的問題，有效的防止膜層的邊緣出現(xiàn)斷裂和脫落的情況，本申請(qǐng)用于真空鍍膜。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種掩膜組件、真空鍍膜裝置及其使用方法。

背景技術(shù)

真空鍍膜裝置是鍍膜技術(shù)領(lǐng)域較常用的一種沉積膜層的裝置，真空鍍膜裝置包括：真空腔體、鍍膜組件和掩膜組件，真空腔體中設(shè)置有用于放置襯底基板的承載面。

相關(guān)技術(shù)中，當(dāng)需要在襯底基板上形成多個(gè)膜層時(shí)，工作人員可以首先將襯底基板放置在真空腔體中的承載面上，并將掩膜組件覆蓋在襯底基板上。示例的，掩膜組件為環(huán)形結(jié)構(gòu)，在將掩膜組件覆蓋在襯底基板上后，襯底基板中暴露在該環(huán)形結(jié)構(gòu)中的鏤空區(qū)域(可以呈矩形)中的區(qū)域?yàn)橐r底基板上的待成膜區(qū)域。之后，工作人員就可以控制鍍膜組件在覆蓋有掩膜組件的襯底基板上形成第一膜層，且由于掩膜組件的存在，第一膜層的形狀和大小與環(huán)形結(jié)構(gòu)的鏤空區(qū)域的形狀和大小相同。然后，工作人員可以控制鍍膜組件在覆蓋有掩膜組件的襯底基板上形成第二膜層，這個(gè)第二膜層的形狀和大小也與環(huán)形結(jié)構(gòu)的鏤空區(qū)域的形狀和大小相同，且第一膜層和第二膜層疊加在一起。

由于襯底基板上形成的各個(gè)膜層的材質(zhì)不同，各個(gè)膜層的附著力和熱膨脹系數(shù)均不相同，所以，疊加在一起的多個(gè)膜層中會(huì)存在部分膜層出現(xiàn)邊緣斷裂和脫落的情況。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決疊加在一起的多個(gè)膜層中會(huì)存在部分膜層出現(xiàn)邊緣斷裂和脫落的情況的問題，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N掩膜組件、真空鍍膜裝置及其使用方法。所述技術(shù)方案如下：

第一方面，提供了一種掩膜組件，所述掩膜組件包括：掩膜本體和遮擋部，

所述掩膜本體具有鏤空區(qū)域，所述遮擋部設(shè)置在所述掩膜本體上，且位于所述鏤空區(qū)域的邊緣，所述遮擋部能夠與所述掩膜本體發(fā)生相對(duì)位移，以改變所述鏤空區(qū)域的實(shí)際鏤空面積，所述實(shí)際鏤空面積等于所述鏤空區(qū)域的原始面積減去所述遮擋部遮擋所述鏤空區(qū)域的面積。

可選的，所述掩膜本體為由四個(gè)條狀結(jié)構(gòu)組成的第一環(huán)形結(jié)構(gòu)，且所述四個(gè)條狀結(jié)構(gòu)中的至少一個(gè)條狀結(jié)構(gòu)上設(shè)置有所述遮擋部。

可選的，所述掩膜組件包括：四個(gè)所述遮擋部，所述四個(gè)條狀結(jié)構(gòu)中的每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)上均設(shè)置有一個(gè)所述遮擋部。

可選的，所述四個(gè)遮擋部中的每個(gè)遮擋部均能夠：沿靠近所述鏤空區(qū)域的中心的方向移動(dòng)，以及沿遠(yuǎn)離所述鏤空區(qū)域的中心的方向移動(dòng)，且所述四個(gè)遮擋部能夠通過沿靠近所述鏤空區(qū)域的中心的方向移動(dòng)組成第二環(huán)形結(jié)構(gòu)。

可選的，所述掩膜組件還包括：四個(gè)調(diào)節(jié)部，所述四個(gè)條狀結(jié)構(gòu)中的每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)上設(shè)置有一個(gè)所述調(diào)節(jié)部，

設(shè)置在所述每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)上的調(diào)節(jié)部用于控制設(shè)置在所述每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)上的遮擋部移動(dòng)。

可選的，所述每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)上均設(shè)置有：貫穿所述每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)的通孔，以及設(shè)置在所述每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)表面的凹孔，

所述通孔與所述凹孔相交，且所述通孔的貫穿方向朝向所述鏤空區(qū)域的中心，所述每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)上設(shè)置的遮擋部設(shè)置在所述每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)中的通孔中，所述每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)上設(shè)置的調(diào)節(jié)部設(shè)置在所述每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)中的凹孔中，且所述每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)上設(shè)置的調(diào)節(jié)部與所述每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)上設(shè)置的遮擋部相連接。

可選的，所述第一環(huán)形結(jié)構(gòu)中靠近所述鏤空區(qū)域的中心的第一表面，與所述第二環(huán)形結(jié)構(gòu)中靠近所述鏤空區(qū)域的中心的第二表面相距10毫米，所述第一表面和所述第二表面位于所述鏤空區(qū)域的中心的同一個(gè)方向。