[發明專利]發光元件陣列、光器件和圖像形成設備

有效

• 申請號: 201710432803.8
• 申請日: 2017-06-09
• 公開（公告）號: CN107785777B
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 近藤崇;早川純一朗;城岸直輝;村上朱實;櫻井淳
• 申請（專利權）人: 富士施樂株式會社
• 主分類號: H01S5/40
• 分類號: H01S5/40
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 呂俊剛;楊薇

發光元件陣列、光器件和圖像形成設備。一種發光元件陣列，包括：多個半導體堆疊結構，各半導體堆疊結構包括發光單元，該發光單元形成在基板上，以及光放大單元，該光放大單元沿著基板的基板表面從發光單元延伸，使得沿延伸方向的長度長于發光單元的長度，將從發光單元沿延伸方向傳播的光放大，并且從沿著延伸方向形成的發光部發出經放大的光，其中，多個半導體堆疊結構被排列成使得各個光放大單元的延伸方向基本彼此平行。

技術領域

本發明涉及發光元件陣列、光器件和圖像形成設備。

背景技術

專利文獻1公開了一種圖像形成設備，該圖像形成設備包括圖像形成單元，其在記錄介質上形成圖像；和光源，其在圖像由圖像形成單元形成之后，向相對于預定移動方向移動的記錄介質發光。光源包括電源單元，其供給用于發光的電流；發光單元，其具有多個發光點，該多個發光點以在多個發光點中，至少與移動方向平行設置的發光點彼此并聯電連接這樣的方式，以二維形式設置；以及輸出單元，其輸出穿過發光單元的電流；并且電源單元、發光單元和輸出單元與移動方向平行設置。根據專利文獻1的發光單元是由以二維形式排列的多個面發射半導體激光器形成的發光元件陣列。

專利文獻1：JP-A-2014-095778

發明內容

本發明的目的是提供一種與僅發光元件被構成為陣列的發光元件陣列相比，促進簡化聚光光學系統和最小化設備的發光元件陣列，以及使用發光元件陣列的光器件和圖像形成設備。

根據本發明的第一方面，一種發光元件陣列，該發光元件陣列包括：

多個半導體堆疊結構，各半導體堆疊結構包括

發光單元，該發光單元形成在基板上，以及

光放大單元，該光放大單元

沿著所述基板的基板表面從所述發光單元延伸，使得沿延伸方向的長度長于所述發光單元的長度，

將從所述發光單元沿所述延伸方向傳播的光放大，以及

從沿著所述延伸方向形成的發光部發出經放大的光，

其中，所述多個半導體堆疊結構被排列成使得各個光放大單元的所述延伸方向基本彼此平行。

根據本發明的第二方面，在第一方面的發光元件陣列中，所述多個發光單元中的每個發光單元包括阻光單元，該阻光單元阻擋光以防止從所述發光單元發出的所述光輻射到外部。

根據本發明的第三方面，第二方面的發光元件陣列還包括：

第一極性側電極，其中，

所述基板包括：

第一主表面，在該第一主表面上堆疊所述多個半導體堆疊結構，以及

第二主表面，在該第二主表面上形成所述第一極性側電極，

各發光單元包括第二極性側電極，其充當所述阻光單元，并且

各個光放大單元包括兩個第二極性側電極，所述兩個第二極性側電極沿著所述基板表面設置并且在其間具有間隙，所述間隙沿著所述基板表面構成所述發光部。

根據本發明的第四方面，在根據第一方面至第三方面中任一方面的發光元件陣列中，

各個半導體堆疊結構還包括分離部，該分離部形成在所述發光單元與所述光放大單元之間，以將所述發光單元和所述光放大單元電分離。

根據本發明的第五方面，在第一方面至第四方面中任一個方面的發光元件陣列中，所述多個半導體堆疊結構被排列成使得從所述發光部發出的發射光彼此交疊。

根據本發明的第六方面，在第五方面的發光元件陣列中，所述多個半導體堆疊結構被排列成使得所述發射光在被照射的物體上彼此交疊。