[發明專利]一種導電薄膜的制備設備上的氣浮式導膜裝置

在審

• 申請號: 201710432074.6
• 申請日: 2017-06-09
• 公開（公告）號: CN107215702A
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發明（設計）人: 張偉忠;蘇躍鋒;施葉標;汪琴偉
• 申請（專利權）人: 浙江匯鋒薄膜科技有限公司
• 主分類號: B65H23/24
• 分類號: B65H23/24;B65H27/00
• 代理公司: 嘉興永航專利代理事務所(普通合伙)33265
• 代理人: 蔡鼎

技術領域

本發明屬于功能薄膜技術領域，涉及一種導電薄膜的制備設備上的氣浮式導膜裝置。

背景技術

導電薄膜廣泛應用于平板顯示、屏式觸控技術、太陽能控制、防霧玻璃、冰玻璃、防靜電涂層等領域，是通過在普通薄膜上附著一層透明的導電層實現，附著的導電層可采用濺鍍、脈沖激光沉積等手段加工。

現有技術中，通過各種手段加工導電薄膜的技術均存在如下問題：由于薄膜較薄，在卷收過程中、工藝處理過程中均受到不均勻外力或者硬質部件的擠壓，從而造成薄膜變形、形成凹凸面、破損等。

發明內容

本發明的目的是針對現有的技術存在的上述問題，提供一種導電薄膜的制備設備上的氣浮式導膜裝置，本發明所要解決的技術問題是如何防止薄膜在加工過程中變形。

本發明的目的可通過下列技術方案來實現：一種導電薄膜的制備設備上的氣浮式導膜裝置，制備設備包括一濺鍍機，其特征在于，所述濺鍍機包括一圓筒狀的殼體，所述殼體的兩端具有開口，所述殼體內設置有一中空的安裝筒，所述安裝筒內設置有一轉軸，所述轉軸與一電機的輸出軸相連，所述轉軸為中空結構，所述轉軸內具有一通風腔，所述通風腔的內壁上均勻設置有若干隔板，各所述隔板的外端與轉軸固定相連，相鄰所述隔板的內端之間具有間隙，所述安裝筒上開設有若干避讓槽一，所述轉軸的外壁上均勻設置有與避讓槽一一一對應的通風板，所述通風板內具有通風間隙，所述通風板的內端與所述轉軸固定相連，所述通風板的外端插設在對應的避讓槽一內；所述殼體上具有薄膜入口和薄膜出口；所述通風間隙與所述通風腔相通；所述隔板的內端至轉軸的內壁之間的距離沿通風腔內的氣流方向逐漸變小。

將濺鍍機的功能部件設置在套筒與轉軸之間的空間內，濺鍍機的具體結構為現有技術，在此不予細述。

薄膜從薄膜入口進入殼體內，濺鍍完成后從薄膜出口出來，進行卷收。

為了防止在濺鍍過程中薄膜與其他部件接觸，從而導致薄膜變形或者彎折，致使濺鍍不均勻，也會導致薄膜受損，本方案中，通過轉軸的一端往通風腔內通氣流，轉軸在電機的驅動下處于轉動的狀態，氣流不會對薄膜造成沖擊，而且，氣流形成的壓力使薄膜與安裝筒的外壁之間形成一定的間隙，既不會影響薄膜的傳送，同時也不會對薄膜造成損傷。

為了防止氣流的強度從氣流入口至出口之間有所不同，特意將隔板的內端至轉軸的內壁之間的距離設置為逐漸變小的結構，也就是說氣流進入通風腔內的孔徑和氣流空間逐漸擴大，從而達到消除氣流壓力逐漸變緩對薄膜造成的不良影響。

在上述的一種導電薄膜的制備設備上的氣浮式導膜裝置中，所述隔板由6個，所述通風板由12個。兩個隔板之間的間隔內對應兩個通風板，保障轉軸的強度，也不會影響氣流的均勻性。

在上述的一種導電薄膜的制備設備上的氣浮式導膜裝置中，所述支撐板上設置有位于殼體內，且位于薄膜入口下方的導料滾筒一；所述支撐板上設置有位于殼體內，且位于薄膜出口下方的導料滾筒二。

導料滾筒一和導輪滾筒二的作用是對處于殼體內的薄膜進行導向，使位于殼體內的薄膜處于殼體與安裝筒之間，防止薄膜與安裝筒或者殼體接觸。

在上述的一種導電薄膜的制備設備上的氣浮式導膜裝置中，所述轉軸與電機的輸出軸之間設置有軸承二，所述軸承二上開設有進氣孔，所述進氣孔能夠與所述通風腔相通。

穩壓氣流設備，如鼓風設備等對進氣孔內進行輸送氣流，從而進入轉軸內的通風腔內，在此需說明的是：軸承二的內圈處于轉動狀態下，氣流處于間歇性進氣狀態，一方面可以緩沖氣流，防止氣流對薄膜的副作用產生，另一方面可以蓄壓，從而節約鼓風設備的能耗。

在上述的一種導電薄膜的制備設備上的氣浮式導膜裝置中，所述轉軸兩端均伸出所述殼體之外，所述轉軸的一端與電機的輸出軸相連，所述轉軸的另一端使通風腔與外界相通。

與現有技術相比，本發明具有以下優點：

1、為了防止在濺鍍過程中薄膜與其他部件接觸，從而導致薄膜變形或者彎折，致使濺鍍不均勻，也會導致薄膜受損，本方案中，通過轉軸的一端往通風腔內通氣流，轉軸在電機的驅動下處于轉動的狀態，氣流不會對薄膜造成沖擊，而且，氣流形成的壓力使薄膜與安裝筒的外壁之間形成一定的間隙，既不會影響薄膜的傳送，同時也不會對薄膜造成損傷。

2、為了防止氣流的強度從氣流入口至出口之間有所不同，特意將隔板的內端至轉軸的內壁之間的距離設置為逐漸變小的結構，也就是說氣流進入通風腔內的孔徑和氣流空間逐漸擴大，從而達到消除氣流壓力逐漸變緩對薄膜造成的不良影響。

附圖說明

圖1是本制備設備的整體結構示意圖。